專利名稱：用于無(wú)水膠印制版的底涂液，其制備方法及其應(yīng)用的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明屬于無(wú)水膠印制版領(lǐng)域，具體涉及用于無(wú)水膠印制版的底涂液、其制備方法及其應(yīng)用。
背景技術(shù)：
無(wú)水膠印技術(shù)自1931年提出以來(lái)，因無(wú)水及潤(rùn)版液參與，不依賴水墨平衡原理，故印刷精度及耐印率優(yōu)良。無(wú)水膠印具有以下優(yōu)點(diǎn)1)網(wǎng)點(diǎn)再現(xiàn)性好。200線至500線的高光部分2 %的網(wǎng)點(diǎn)和暗調(diào)部分98 %的網(wǎng)點(diǎn)都能很好地再現(xiàn)，而且暗調(diào)部分的細(xì)節(jié)和層次能清晰地再現(xiàn)出來(lái)。無(wú)水膠印印刷品從2%到98%的網(wǎng)點(diǎn)再現(xiàn)率為96%，而有水膠印印刷品從5%到95%的網(wǎng)點(diǎn)再現(xiàn)率只有90%。2)墨色一致，光澤度好。無(wú)水膠印技術(shù)無(wú)因水墨平衡的波動(dòng)而造成印刷品墨色大小不一致的現(xiàn)象。印刷品干燥后，墨層厚實(shí)，色彩鮮艷，質(zhì)量穩(wěn)定。3)網(wǎng)點(diǎn)擴(kuò)大受到控制。因無(wú)水膠印技術(shù)沒(méi)有潤(rùn)版液的影響，所以網(wǎng)點(diǎn)擴(kuò)大值只有7%。而有水膠印技術(shù)網(wǎng)點(diǎn)增大值為10 15%以上。4)套印準(zhǔn)確。無(wú)水膠印技術(shù)由于無(wú)水的影響，所以不會(huì)造成紙張伸縮現(xiàn)象，從而保證了印品的套印準(zhǔn)確。5)印版起印快，可節(jié)省試印紙。6)印刷效率高，縮短生產(chǎn)周期。采用無(wú)水膠印技術(shù)不僅能提高產(chǎn)品質(zhì)量，而且減少了由于水墨平衡波動(dòng)造成的調(diào)整和停機(jī)時(shí)間，縮短了生產(chǎn)周期。7)色彩空間大，因?yàn)闊o(wú)水膠印技術(shù)可以印刷出更高的油墨密度(比有水膠印技術(shù)的油墨密度高20%左右)，故無(wú)水膠印技術(shù)的色彩空間比有水膠印技術(shù)的色彩空間大。使用高網(wǎng)線數(shù)印刷，可以向紙張上轉(zhuǎn)移更多油墨，亦可增大色彩空間。8)承印范圍廣，由于沒(méi)有潤(rùn)版液和水的參與，紙張變形小，套準(zhǔn)精度高，所以無(wú)水膠印技術(shù)在膠版紙和再生紙上都可以印刷出高質(zhì)量的印品。對(duì)于非吸收性的承印物(如塑料薄膜、金屬、合成紙等)，無(wú)水膠印技術(shù)也能較好地保證印刷質(zhì)量。9)能采用調(diào)頻技術(shù)。調(diào)頻網(wǎng)的網(wǎng)點(diǎn)大小是一致的，由于無(wú)水膠印技術(shù)網(wǎng)點(diǎn)再現(xiàn)性好，因此，調(diào)頻網(wǎng)技術(shù)適合于無(wú)水膠印。10)操作方便。由于無(wú)水膠印技術(shù)徹底解決了由于水墨平衡這一多變因素給操作者帶來(lái)的困難和產(chǎn)品質(zhì)量的波動(dòng)，因而操作無(wú)水膠印機(jī)極為方便。11)節(jié)省材料，減少環(huán)境污染。無(wú)水膠印技術(shù)印刷時(shí)可不使用潤(rùn)版系統(tǒng)，同時(shí)可省去水斗溶液、保護(hù)膠，使環(huán)境不受污染。12)水資源 保護(hù)，無(wú)水印刷可以保護(hù)水資源。隨著全球范圍環(huán)保意識(shí)的增強(qiáng)，印刷業(yè)采用無(wú)水膠印技術(shù)具有重大的意義。目前世界范圍內(nèi)無(wú)水膠印機(jī)約3000臺(tái)，主要集中在美國(guó)、加拿大、德國(guó)、日本等發(fā)達(dá)國(guó)家。據(jù)09年統(tǒng)計(jì)，歐洲的無(wú)水膠印市場(chǎng)占有率為6 7%，美國(guó)為5 6%，F(xiàn)ogra研究所報(bào)道無(wú)水膠印市場(chǎng)占有率將會(huì)增至10 %左右。亞洲除日本的無(wú)水膠印市場(chǎng)占有率較高夕卜，臺(tái)灣地區(qū)和東南亞一些國(guó)家也有少量應(yīng)用。在我國(guó)除北京等地有實(shí)驗(yàn)性使用外，再?zèng)]有其它地方使用，市場(chǎng)占有率幾乎為零。無(wú)水膠印技術(shù)在我國(guó)沒(méi)有進(jìn)展的原因主要是版材國(guó)產(chǎn)化未解決，從日本進(jìn)口價(jià)格高出3 4倍。日本東麗公司(JP1237551A)曾單獨(dú)使用環(huán)氧樹(shù)脂、尿素樹(shù)脂、三聚氰胺甲醛樹(shù)月旨、聚酯樹(shù)脂與染料或顏料組合作底涂，提高了曝光寬容度，耐印率未有明顯改善；接著通過(guò)引入含硫的不飽和烴類化合物(JP8211594A)改進(jìn)了耐印率及圖像的再現(xiàn)性。
無(wú)水膠印版取消了電解、陽(yáng)極氧化等處理過(guò)程，減少了環(huán)境污染，提高耐印率必須研發(fā)將版基與感光層結(jié)合的底涂層。

發(fā)明內(nèi)容
為了提高無(wú)水膠印版耐顯影液及定影液的能力及耐印力，本發(fā)明通過(guò)優(yōu)化粘結(jié)樹(shù)脂種類及在底涂液中加入金屬附著力促進(jìn)劑，通過(guò)該底涂液的改善，提高了與感光層的粘結(jié)力，并有效改善了耐印率。本發(fā)明通過(guò)如下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)一種用于無(wú)水膠印制版的底涂液，所述底涂液，以質(zhì)量百分比記，其組成及含量為 聚合物5 50wt%
金屬附著力促進(jìn)劑 0.01 20wt%
防光暈的納米顆粒 0.01 20wt%
溶劑余量。其中，在底涂液中起主要粘結(jié)作用的是粘結(jié)樹(shù)脂，即聚合物，所述的聚合物含量范圍 5-60wt %，優(yōu)選 10-50wt %，更優(yōu)選 15-40wt %，還更優(yōu)選 20_35wt %，最優(yōu)選 25_30wt %。所述的聚合物選自聚乙烯醇縮丁醛、聚氨酯、聚丙烯酸樹(shù)脂、聚甲基丙烯酸樹(shù)脂、酚醛樹(shù)脂、環(huán)氧樹(shù)脂、三聚氰胺甲醛樹(shù)脂、聚酯樹(shù)脂、醇酸樹(shù)脂、乙烯-醋酸乙烯共聚物。在印刷領(lǐng)域，印刷版基常選用金屬基底，金屬附著力促進(jìn)劑的添加可以增加基底與感光層的粘結(jié)力，從而提高耐印率，金屬附著力促進(jìn)劑的含量為O. 01 20Wt%，優(yōu)選I 15wt % ο所述金屬粘結(jié)力促進(jìn)劑選自硅烷偶聯(lián)劑、鈦酸酯偶聯(lián)劑、芳基磷酸酯類、烷基磷酸酯類、鋯鋁酸鹽類、鋯酸鹽類。所述芳基磷酸酯類中的芳基為取代或未取代的芳基，優(yōu)選選自苯基、甲苯基、萘基；所述芳基磷酸酯類優(yōu)選苯基磷酸酯或甲苯基磷酸酯。所述烷基磷酸酯類中的烷基選自碳原子數(shù)為1-20的烷基鏈；所述的鋯鋁酸鹽類選自鋯鋁酸鉀、鋯鋁酸鈉等，所述鋯酸鹽選自鋯酸鋇、偏鋯酸鹽M2+ZrO3 (其中M選自二價(jià)金屬)，焦鋯酸鹽M3+Zr2O7 (其中 M 選自鑭、鈰、釹、釤)，M43+Zr3012 (其中 M 選自鈧、鐿)，T1-ZrO4、V2ZrO7、NbltlZrO27、MO2ZrO4、W2ZrO80所述防光暈的納米顆粒選自氧化鋁、氧化鋅、二氧化硅、氧化鋯、二氧化鈦、碳化硅。防光暈納米顆粒含量為O. 01 20wt%,優(yōu)選I 15wt%,更優(yōu)選5 IOwt %。所述溶劑優(yōu)選環(huán)保型無(wú)污染溶劑，選自醇類、酮類、醚類、酯類或烴類。優(yōu)選醇類或酯類。所述醇類選自低級(jí)醇或多元醇，優(yōu)選具有1-5個(gè)碳原子的一元醇或具有2-5個(gè)碳原子的二元或三元醇；所述酮類選自丙酮、丁酮、甲乙酮、環(huán)己酮、N-甲基吡咯烷酮(NMP)；所述醚類選自醇醚，優(yōu)選選自乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、乙二醇單正丁醚、乙二醇二甲醚、乙二醇二乙醚、丙二醇單甲醚、丙二醇單乙醚、丙二醇二甲醚、丙二醇二乙醚；所述酯類選自羧酸酯類，優(yōu)選乙酸乙酯、乙酸甲酯、甲酸乙酯、甲酸丁酯、丙二醇甲醚醋酸酯。所述烴類選自芳香烴，優(yōu)選甲苯、二甲苯；所述烷烴優(yōu)選正庚烷、正己烷。在本發(fā)明的底涂液中，作為粘結(jié)樹(shù)脂的聚合物及金屬附著力促進(jìn)劑這兩種關(guān)鍵組分共同作用，可以將版基與感光層較好的粘結(jié)，以減少電解、陽(yáng)極氧化引起的污染，從而實(shí)現(xiàn)高的耐印率及分辨率好的印刷結(jié)果。本發(fā)明優(yōu)選的底涂液組成及含量如下(I) 5wt%的聚乙烯醇縮丁醒、O. lwt5^tJ娃燒偶聯(lián)劑、20wt%的氧化鋅及余量的乙醇。(2) 50wt%的聚酯樹(shù)脂、20wt%的鈦酸酯偶聯(lián)劑、O. Olwt %的氧化鋁及余量的二甲 苯。(3)30wt%的酚醛樹(shù)脂、O. 2￥丨％的苯基磷酸酯、O. 03wt %的二氧化硅及余量的乙
二醇單乙醚。⑷20wt %的聚氨酯、O. Olwt %的甲苯基磷酸酯、O. 05wt %的二氧化鈦及余量的N-甲基吡咯烷酮(NMP)。(5)40wt%的聚丙烯酸樹(shù)脂、O. 02wt%的鋯鋁酸鉀、O. 3wt %的氧化鋯及余量的丙酮。(6) 15wt%的聚甲基丙烯酸樹(shù)脂、O. 05wt%的錯(cuò)招酸鈉、O. 3wt%的碳化娃及余量的丁酮。(7)30wt%的環(huán)氧樹(shù)脂、O. 2wt%的鋯酸鋇、10界七％的氧化鋁及余量的乙酸乙酯。(8) 15wt %的三聚氰胺甲醒樹(shù)脂、5wt %的Nb1(lZr027、3wt %的氧化鋅及余量的乙醇。(9) 25wt%的醇酸樹(shù)脂、2wt%的硅烷偶聯(lián)劑、lwt%的二氧化硅及余量的二甲苯。(10)40wt%的乙烯-醋酸乙烯共聚物、3wt%的鈦酸酯偶聯(lián)劑、5wt%的氧化鋁及余量的甲苯。本發(fā)明還提供一種用于無(wú)水膠印制版的底涂液的制備方法。所述制備方法包括將聚合物、附著力促進(jìn)劑、防光暈的納米顆?；旌?，充分?jǐn)嚢琛⒀心?，使底涂液的各組分充分溶解、分散。所述制備方法還進(jìn)一步包括利用旋涂或輥涂的方式將底涂液涂布在版基上，然后50 150°C干燥3 60分鐘。本發(fā)明的底涂液優(yōu)選在無(wú)電解、陽(yáng)極氧化處理的版基上涂布，以實(shí)現(xiàn)版基與感光
層的粘結(jié)。更優(yōu)選地，在底涂液涂布后，繼續(xù)在底涂液上涂布感光膠，優(yōu)選陽(yáng)圖PS版感光膠；優(yōu)選繼續(xù)在感光膠層上涂布硅橡膠層。利用感光層樹(shù)脂親墨、硅橡膠層硅橡膠斥墨的原理實(shí)現(xiàn)高精度印刷。根據(jù)本發(fā)明，所述干燥溫度優(yōu)選為60-140°C，更優(yōu)選70-120°C，還更優(yōu)選80-110°C，最優(yōu)選90-100°C。干燥時(shí)間優(yōu)選為5_50分鐘，更優(yōu)選10-40分鐘，還更優(yōu)選15-30分鐘，最優(yōu)選20-25分鐘。若干燥溫度較低，則可以增加干燥時(shí)間。所述版基優(yōu)選為金屬版基，優(yōu)選鋁版基。
所述版基在涂布前優(yōu)選進(jìn)行清洗，以保證涂布質(zhì)量。所述清洗包括水洗及堿洗步驟，所述堿洗優(yōu)選采用除油液進(jìn)行除油操作。所述除油液可以為O.1 40wt%，優(yōu)選O. 2-30wt %,更優(yōu)選O. 5-25wt %,還更優(yōu)選l_20wt %,最優(yōu)選10_15wt %的氫氧化鈉水溶液。該清洗步驟在20-50°C，優(yōu)選30-40°C的除油液中進(jìn)行除油。該制備方法溶解及涂布過(guò)程非常關(guān)鍵。若溶解不充分，涂布時(shí)涂層不均勻，易引起圖像質(zhì)量下降。根據(jù)本發(fā)明，還提供一種無(wú)水膠印制版版材，其特征在于，該版材包括版基，優(yōu)選無(wú)電解、陽(yáng)極氧化處理的版基；權(quán)利要求1-6任一項(xiàng)的底涂液，其涂布在版基上；
感光膠，優(yōu)選陽(yáng)圖PS版感光膠，其涂布在底涂液層上；和
任選地，硅橡膠層，其涂布在感光膠層上。其中所述的版基、感光膠、硅橡膠均為本領(lǐng)域技術(shù)人員公知的材料，商業(yè)上可以購(gòu)買(mǎi)得到。本發(fā)明還提供前述的底涂液在無(wú)水膠印制版中的應(yīng)用。優(yōu)選地，所述版基優(yōu)選為無(wú)電解、陽(yáng)極氧化處理的版基。本發(fā)明所述的底涂液在無(wú)電解、陽(yáng)極氧化處理的版基上涂布，實(shí)現(xiàn)版基與感光層的粘結(jié)。
具體實(shí)施例方式以下結(jié)合實(shí)施例對(duì)本發(fā)明做進(jìn)一步描述。需要說(shuō)明的是，下述實(shí)施例不能作為對(duì)本發(fā)明保護(hù)范圍的限制，任何在本發(fā)明基礎(chǔ)上作出的改進(jìn)都在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。實(shí)施例1將招版基用水清洗,在30°C除油液(O. 5wt%的氫氧化鈉水溶液)中除油，通過(guò)旋涂的方法將底涂液涂布在除油后的版基上。所述底涂液由5wt%的聚乙烯醇縮丁醛、O. lwt%的硅烷偶聯(lián)劑、20wt%的氧化鋅及余量的乙醇組成。涂布后將版基在150°C下干燥3分鐘。實(shí)施例2將鋁版基用水清洗,在40°C除油液(O. 2wt%的氫氧化鈉水溶液)中除油,通過(guò)旋涂的方法將底涂液涂布在除油后的版基上。所述底涂液由50wt%的聚酷樹(shù)脂、20wt%的欽酸酯偶聯(lián)劑、O. 01wt%的氧化鋁及余量的二甲苯組成。涂布后將版基在50°C下干燥50分鐘。實(shí)施例3將招版基用水清洗,在40°C除油液(10wt%的氫氧化鈉水溶液)中除油,通過(guò)棍涂的方法將底涂液涂布在除油后的版基上。底涂液由30Wt%的酚醛樹(shù)脂、O. 2wt%的苯基磷酸酯、O. 03wt%的二氧化硅及余量的乙二醇單乙醚組成。涂布后將版基在100°C下干燥5分鐘。實(shí)施例4將招版基用水清洗,在50°C除油液(20wt%的氫氧化鈉水溶液)中除油,通過(guò)棍涂的方法將底涂液涂布在除油后的版基上。底涂液由20被％的聚氨酯、0.01被(％的甲苯基磷酸酯、O. 05wt%的二氧化鈦及余量的N-甲基吡咯烷酮(NMP)組成。涂布后將版基在80°C下干燥15分鐘。
實(shí)施例5將招版基用水清洗,在50°C除油液(40wt%的氫氧化鈉水溶液)中除油,通過(guò)旋涂的方法將底涂液涂布在除油后的版基上。底涂液由40wt%的聚丙稀酸樹(shù)脂、O. 02wt%的錯(cuò)鋁酸鉀、O. 3wt%的氧化鋯及余量的丙酮組成。涂布后將版基在90°C下干燥10分鐘。實(shí)施例6
將鋁版基用水清洗,在30°C除油液(30wt%的氫氧化鈉水溶液)中除油,通過(guò)旋涂的方法將底涂液涂布在除油后的版基上。底涂液由15wt%的聚甲基丙烯酸樹(shù)脂、0.05wt%的鋯鋁酸鈉、O. 3wt%的碳化硅及余量的丁酮組成。涂布后將版基在100°C下干燥5分鐘。實(shí)施例7將鋁版基用水清洗,在30°C除油液(15wt%的氫氧化鈉水溶液)中除油,通過(guò)旋涂的方法將底涂液涂布在除油后的版基上。底涂液由30wt%的環(huán)氧樹(shù)脂、O. 2wt%的鋯酸鋇、10wt%的氧化鋁及余量的乙酸乙酯組成。涂布后將版基在90°C下干燥5分鐘。實(shí)施例8將招版基用水清洗,在40°C除油液(25wt%的氫氧化鈉水溶液)中除油,通過(guò)旋涂的方法將底涂液涂布在除油后的版基上。底涂液由15wt%的三聚氰胺甲醛樹(shù)脂、5wt%的Nb1(lZr027、3Wt%的氧化鋅及余量的乙醇組成。涂布后將版基在100°C下干燥2分鐘。實(shí)施例9將鋁版基用水清洗,在30°C除油液(20wt%的氫氧化鈉水溶液)中除油,通過(guò)旋涂的方法將底涂液涂布在除油后的版基上。底涂液由25wt %的醇酸樹(shù)脂、2wt %的娃燒偶聯(lián)劑、lwt%的二氧化硅及余量的二甲苯組成。涂布后將版基在110°C下干燥3分鐘。實(shí)施例10將鋁版基用水清洗,在20°C除油液(30wt%的氫氧化鈉水溶液)中除油,通過(guò)旋涂的方法將底涂液涂布在除油后的版基上。底涂液由40wt%的乙烯-醋酸乙烯共聚物、3wt%的鈦酸酯偶聯(lián)劑、5wt%的氧化鋁及余量的甲苯組成。涂布后將版基在150°C下干燥5分鐘。應(yīng)用實(shí)施例將實(shí)施例1 10的已涂布底涂液的版基，繼續(xù)涂布工業(yè)化生產(chǎn)的陽(yáng)圖PS版感光膠，干燥后再涂布硅橡膠，干燥后曝光顯影定影，即得無(wú)水膠印版材。本發(fā)明的底涂物可以使版基與感光層較好結(jié)合，在減少電解、陽(yáng)極氧化引起的污染的同時(shí)，增強(qiáng)了粘結(jié)力，并實(shí)現(xiàn)高的耐印率。本發(fā)明無(wú)水膠印版的單張紙無(wú)水膠印技術(shù)的耐印率可達(dá)2萬(wàn)印以上，優(yōu)選3萬(wàn)印以上，更優(yōu)選4萬(wàn)印以上。
權(quán)利要求
1.一種用于無(wú)水膠印制版的底涂液，以質(zhì)量百分比記，該底涂液的組成及含量為聚合物5 50wt%金屬附著力促進(jìn)劑 0.01 20wt%防光暈的納米顆粒 0.01 20wt%溶劑余量。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的底涂液，其特征在于所述的聚合物選自聚乙烯醇縮丁醛、聚氨酯、聚丙烯酸樹(shù)脂、聚甲基丙烯酸樹(shù)脂、酚醛樹(shù)脂、環(huán)氧樹(shù)脂、三聚氰胺甲醛樹(shù)脂、聚酯樹(shù)月旨、醇酸樹(shù)脂或乙烯-醋酸乙烯共聚物。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的底涂液，其特征是所述的金屬粘結(jié)力促進(jìn)劑選自硅烷偶聯(lián)劑、鈦酸酯偶聯(lián)劑、芳基磷酸酯類、烷基磷酸酯類、鋯鋁酸鹽類或鋯酸鹽類。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的底涂液，其特征在于所述的芳基磷酸酯類中的芳基為取代或未取代的芳基，優(yōu)選選自苯基、甲苯基、萘基；所述烷基磷酸酯類中的烷基選自碳原子數(shù)為I 20的烷基鏈；所述的鋯鋁酸鹽類選自鋯鋁酸鉀、鋯鋁酸鈉等，所述鋯酸鹽選自偏鋯酸鹽M2+ZrO3(其中M選自二價(jià)金屬)，焦鋯酸鹽M3+Zr2O7 (其中M選自鑭、鈰、釹、釤)，M43+Zr3012 (其中 M 選自鈧、鐿)，T1-ZrO4, V2ZrO7, Nb10ZrO27, MO2ZrO4, W2ZrOgo
5.根據(jù)權(quán)利要求1-4任一項(xiàng)所述的底涂液，其特征在于所述的防光暈的納米顆粒包括氧化鋁、氧化鋅、二氧化硅、氧化鋯、二氧化鈦或碳化硅。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-5任一項(xiàng)所述的底涂液，其特征在于所述溶劑選自醇類、酮類、醚類、酯類或烴類。優(yōu)選所述醇類選自低級(jí)醇或多元醇，優(yōu)選具有I 5個(gè)碳原子的一元醇或具有2 5個(gè)碳原子的二元或三元醇；所述酮類選自丙酮、丁酮、甲乙酮、環(huán)己酮、N-甲基吡咯烷酮(NMP);所述醚類選自醇醚，優(yōu)選選自乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、乙二醇單正丁醚、乙二醇二甲醚、乙二醇二乙醚、丙二醇單甲醚、丙二醇單乙醚、丙二醇二甲醚、丙二醇二乙醚；所述酯類選自羧酸酯類，優(yōu)選乙酸乙酯、乙酸甲酯、甲酸乙酯、甲酸丁酯、丙二醇甲醚醋酸酯。所述烴類選自芳香烴，優(yōu)選甲苯、二甲苯；所述烷烴優(yōu)選正庚烷、正己烷。
7.權(quán)利要求1-6任一項(xiàng)所述的底涂液的制備方法，其特征在于將聚合物、附著力促進(jìn)齊U、防光暈的納米顆?；旌希浞?jǐn)嚢?、研磨，使底涂液的各組分充分溶解、分散。優(yōu)選地，還進(jìn)一步包括利用旋涂或輥涂的方式將底涂液涂布在經(jīng)O.1 40wt%的氫氧化鈉水溶液除油的版基上，然后50 150°C干燥3 50分鐘。
8.根據(jù)權(quán)利要求7的制備方法，其特征在于，所述方法包括將底涂液涂布在無(wú)電解、陽(yáng)極氧化處理的版基上。更優(yōu)選地，在底涂液涂布后，繼續(xù)在底涂液上涂布感光膠，優(yōu)選陽(yáng)圖PS版感光膠；更優(yōu)選繼續(xù)在感光膠層上涂布硅橡膠層。
9.一種無(wú)水膠印制版版材，其特征在于，該版材包括 版基，優(yōu)選無(wú)電解、陽(yáng)極氧化處理的版基； 權(quán)利要求1-6任一項(xiàng)的底涂液，其涂布在版基上； 感光膠，優(yōu)選陽(yáng)圖PS版感光膠，其涂布在底涂液層上；和 任選地，硅橡膠層，其涂布在感光膠層上。
10.權(quán)利要求1 7任一項(xiàng)所述的底涂液在無(wú)水膠印制版中的應(yīng)用。
全文摘要
本發(fā)明提供一種用于無(wú)水膠印制版的底涂液，其制備方法及其應(yīng)用。本發(fā)明的底涂液在無(wú)電解、陽(yáng)極氧化處理的版基上涂布，實(shí)現(xiàn)版基與感光層的粘結(jié)，再在感光層上涂布硅橡膠層，利用感光層樹(shù)脂親墨、硅橡膠層硅橡膠斥墨的原理實(shí)現(xiàn)高精度印刷。本發(fā)明所述底涂液由5～50wt％聚合物、0.01～20wt％的金屬附著力促進(jìn)劑、0.01～20wt％防光暈的納米顆粒及余量的溶劑組成。
文檔編號(hào)C09J129/14GK102994015SQ20111026822
公開(kāi)日2013年3月27日 申請(qǐng)日期2011年9月9日 優(yōu)先權(quán)日2011年9月9日
發(fā)明者周海華, 宋延林 申請(qǐng)人:中國(guó)科學(xué)院化學(xué)研究所