專利名稱：適應(yīng)介質(zhì)流動(dòng)的噴嘴的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及石油開(kāi)發(fā)實(shí)驗(yàn)技術(shù)領(lǐng)域，具體而言，涉及一種適應(yīng)介質(zhì)流動(dòng)的噴嘴。
背景技術(shù)：
在油氣田開(kāi)發(fā)實(shí)驗(yàn)研究中，巖心孔隙結(jié)構(gòu)歷來(lái)受到研究者的重視，但是其不可控制的特點(diǎn)也制約了相關(guān)研究的精度與深度。為了制造具有相同孔隙結(jié)構(gòu)的巖心，研究者提出了高熔點(diǎn)介質(zhì)3D打印方法，該方法引用了將熔化的高熔點(diǎn)介質(zhì)(例如為玻璃)以一定的粒徑、速度噴射出來(lái)的功能模塊，稱之為噴射模塊。噴射出來(lái)的液態(tài)介質(zhì)經(jīng)冷卻后形成符合孔隙結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)的巖心樣品。在這種噴射模塊中，噴嘴的設(shè)計(jì)必須滿足以下條件材料能承受1400°C高溫；內(nèi)部尺度能滿足高粘液態(tài)介質(zhì)流動(dòng)條件(IOOOOmPa. s)；在噴射時(shí)具有單向閥功能。目前，尚未有控制高溫高粘液態(tài)介質(zhì)能夠自動(dòng)實(shí)現(xiàn)噴射的噴嘴。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型旨在提供一種適應(yīng)高熔點(diǎn)介質(zhì)流動(dòng)的噴嘴，以解決現(xiàn)有的噴嘴無(wú)法實(shí)現(xiàn)自動(dòng)噴射高熔點(diǎn)介質(zhì)的問(wèn)題。為此，本實(shí)用新型提出一種適應(yīng)介質(zhì)流動(dòng)的噴嘴，所述適應(yīng)介質(zhì)流動(dòng)的噴嘴包括 管柱體，所述管柱體具有內(nèi)腔，所述內(nèi)腔位于容納介質(zhì)的融化容器的下方并與容納介質(zhì)的融化容器連接，所述內(nèi)腔中設(shè)有密封孔；密封所述密封孔的密封塞，可活動(dòng)的設(shè)置在所述密封孔的下方并位于所述內(nèi)腔中；噴氣管，從所述管柱體的側(cè)壁穿入到所述內(nèi)腔中并與設(shè)置在所述管柱體外的氣源裝置連接，所述噴氣管的出口端具有承托所述密封塞的端面以及與所述端面連接的噴氣空間，所述噴氣空間與所述出口端位于所述密封塞的下方的所述內(nèi)腔中；陶瓷管，連接在所述噴氣管的下方并位于所述內(nèi)腔中，所述陶瓷管具有噴出口，所述噴出口與所述內(nèi)腔連通，在非噴射狀態(tài)，所述噴出口的口徑小于所述介質(zhì)流出的最小口徑。進(jìn)一步地，所述內(nèi)腔中設(shè)有封堵?lián)醢?，所述密封孔設(shè)置在封堵?lián)醢逯?。進(jìn)一步地，所述內(nèi)腔中設(shè)有對(duì)所述陶瓷管定位的定位擋圈，所述定位擋圈位于所述內(nèi)腔中的所述噴氣管之下并且所述定位擋圈具有連通所述噴出口與所述內(nèi)腔的通孔，所述陶瓷管位于所述定位擋圈之下。進(jìn)一步地，所述適應(yīng)介質(zhì)流動(dòng)的噴嘴還包括連接在所述管柱體底部的端蓋，所述陶瓷管位于所述端蓋與所述定位擋圈之間。進(jìn)一步地，所述噴氣管包括與所述氣源裝置連接的入口管以及連接在所述入口管端部的喇叭口，所述氣源裝置為恒壓氣源泵。進(jìn)一步地，所述密封塞包括導(dǎo)入所述密封孔的導(dǎo)入段，與所述導(dǎo)入段連接的密封段。進(jìn)一步地，所述導(dǎo)入段為錐形或錐臺(tái)形，所述密封段為圓柱形，所述導(dǎo)入段的直徑小于所述密封段的直徑。進(jìn)一步地，所述密封塞還包括與所述密封段連接的承托段，所述密封段位于所述承托段與所述導(dǎo)入段之間，所述承托段的底端具有卡住所述喇叭口外沿的承托凹面，所述承托凹面為圓形，所述承托凹面的直徑大于所述密封段的直徑。進(jìn)一步地，所述承托凹面的邊緣具有倒角。進(jìn)一步地，所述倒角為45度，當(dāng)所述密封塞靜置在所述喇叭口上時(shí)，所述導(dǎo)入段進(jìn)入所述密封孔內(nèi)1mm。在非噴射狀態(tài)，高熔點(diǎn)介質(zhì)受粘度、表面張力以及重力的作用，所述噴出口的口徑小于所述高熔點(diǎn)介質(zhì)流出的最小口徑，高熔點(diǎn)介質(zhì)保留在所述管柱體的內(nèi)腔中，不會(huì)流出來(lái)。在噴射狀態(tài)下，氣源裝置向噴氣管輸入高壓氣體，高壓氣體通過(guò)噴氣管的出口端的噴氣空間將密封塞頂起，密封住所述內(nèi)腔中的密封孔，從而使內(nèi)腔在噴出口處產(chǎn)生巨大的向下的噴射壓力，使內(nèi)腔中的高熔點(diǎn)介質(zhì)通過(guò)噴出口單向噴出，實(shí)現(xiàn)了高熔點(diǎn)介質(zhì)自動(dòng)噴射的目的。

圖1為根據(jù)本實(shí)用新型實(shí)施例的噴射模塊的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2示意性示出了根據(jù)本實(shí)用新型實(shí)施例的適應(yīng)高熔點(diǎn)介質(zhì)流動(dòng)的噴嘴的放大結(jié)構(gòu)；圖3示意性示出了根據(jù)本實(shí)用新型實(shí)施例的適應(yīng)高熔點(diǎn)介質(zhì)流動(dòng)的噴嘴的局部分解結(jié)構(gòu)；圖4示意性示出了根據(jù)本實(shí)用新型實(shí)施例的密封塞的結(jié)構(gòu)；圖5示意性示出了根據(jù)本實(shí)用新型實(shí)施例的噴氣管的結(jié)構(gòu)。附圖標(biāo)號(hào)說(shuō)明1、融化容器11、頂蓋 3、高熔點(diǎn)介質(zhì)5、噴嘴7、氣源裝置9、氣動(dòng)閥 51、管柱體 511、內(nèi)腔513、封堵?lián)醢?15、密封孔517、定位擋圈53、陶瓷管 531、噴出口59、噴氣管55、端蓋 571、導(dǎo)入段 573、密封段575、承托段579、承托凹面577、倒角 591、喇叭口 593、入口管
具體實(shí)施方式
為了對(duì)本實(shí)用新型的技術(shù)特征、目的和效果有更加清楚的理解，現(xiàn)對(duì)照附圖說(shuō)明本實(shí)用新型的具體實(shí)施方式
。如圖1所示，根據(jù)本實(shí)用新型實(shí)施例的適應(yīng)高熔點(diǎn)介質(zhì)流動(dòng)的噴嘴為高熔點(diǎn)介質(zhì) 3D打印方法中噴射模塊的一個(gè)部件，高熔點(diǎn)介質(zhì)的熔點(diǎn)為1300度或以上，例如為玻璃微?；蚬杷徕c粉末。該噴嘴5與噴射模塊中的容納高熔點(diǎn)介質(zhì)的融化容器1相連接，以使得融化容器1內(nèi)的液態(tài)高熔點(diǎn)介質(zhì)流入到噴嘴5中。融化容器1可以為坩堝，坩堝上可以蓋有頂蓋11，在加熱融化容器1的高熔點(diǎn)介質(zhì)(玻璃)時(shí)，頂蓋11可以保溫并起到安全防護(hù)作用。噴嘴5通過(guò)氣動(dòng)閥9與氣源裝置7連接，氣源裝置7可以為恒壓氣源泵，以便為噴嘴5 的噴射通過(guò)穩(wěn)定的高壓。恒壓氣源泵的輸出壓力可以為2兆帕以下，例如為可以為1.5兆帕或1.6兆帕或1.7兆帕等等。如圖2所示，適應(yīng)高熔點(diǎn)介質(zhì)流動(dòng)的噴嘴5包括管柱體51，所述管柱體51具有內(nèi)腔511，所述內(nèi)腔511位于容納高熔點(diǎn)介質(zhì)的融化容器的下方并與容納高熔點(diǎn)介質(zhì)的融化容器連接，以使得融化容器1內(nèi)的液態(tài)高熔點(diǎn)介質(zhì)流入到噴嘴5中。所述內(nèi)腔511中設(shè)有密封孔515 ；密封所述密封孔515的密封塞57，可活動(dòng)的設(shè)置在所述密封孔515的下方并位于所述內(nèi)腔511中；噴氣管59，從所述管柱體51的側(cè)壁穿入到所述內(nèi)腔511中并與設(shè)置在所述管柱體外的氣源裝置連接，所述噴氣管59的出口端具有承托所述密封塞的端面以及與所述端面連接的噴氣空間，所述噴氣空間與所述出口端位于所述密封塞57的下方的所述內(nèi)腔511中；陶瓷管53，連接在所述噴氣管的下方并位于所述內(nèi)腔中，所述陶瓷管53具有噴出口 531，所述噴出口 53與所述內(nèi)腔511連通，在非噴射狀態(tài)，即氣動(dòng)閥9關(guān)閉，噴嘴5 與氣源裝置7不連通，所述噴出口 53的口徑小于所述高熔點(diǎn)介質(zhì)流出的最小口徑，以免在噴射前，高熔點(diǎn)介質(zhì)不受控制的流出。該噴出口 53的最小口徑通常由高熔點(diǎn)介質(zhì)的粘度、 表面張力、重力以及陶瓷管的材質(zhì)等因素綜合決定。如圖2所示，所述內(nèi)腔511中設(shè)有封堵?lián)醢?13，所述密封孔515設(shè)置在封堵?lián)醢?513中。所述內(nèi)腔511中設(shè)有對(duì)所述陶瓷管53定位的定位擋圈517，以便于安裝。所述定位擋圈517位于所述內(nèi)腔511中的所述噴氣管59之下并且所述定位擋圈517具有連通所述噴出口 531與所述內(nèi)腔的通孔，所述陶瓷管53位于所述定位擋圈517之下。如圖3所示，所述適應(yīng)高熔點(diǎn)介質(zhì)流動(dòng)的噴嘴還包括連接在所述管柱體51底部的端蓋55，所述陶瓷管53位于所述端蓋55與所述定位擋圈517之間。管柱體51和端蓋 55由絲扣連接，便于安裝和拆卸。管柱體51、封堵?lián)醢?13、定位擋圈517、陶瓷管53、密封塞57、噴氣管59以及端蓋陽(yáng)均由氧化鋁材料制成，適用于熔化溫度在1400°C以下的環(huán)境。管柱體51的內(nèi)壁上分別設(shè)有定位槽，封堵?lián)醢?13、定位擋圈517分別設(shè)置在這些定位槽中。管柱體、陶瓷管和端蓋形成了容納高熔點(diǎn)介質(zhì)的空間，耐壓< 2MPa，滿足噴射時(shí)的壓力要求。如圖5所示，所述噴氣管59包括與所述氣源裝置連接的入口管593以及連接在所述入口管593端部的喇叭口 591。入口管593起氣體輸送作用。進(jìn)一步地，如圖2和圖4所示，所述密封塞57包括導(dǎo)入所述密封孔515的導(dǎo)入段 571，與所述導(dǎo)入段571連接的密封段573。所述導(dǎo)入段571為錐形或錐臺(tái)形，以便找正和導(dǎo)入。所述密封段573為圓柱形，所述導(dǎo)入段571的直徑小于所述密封段573的直徑。錐形導(dǎo)入段既保證了內(nèi)腔與上部坩堝的連通，也保證了氣體噴出時(shí)，密封塞有效的垂直向上運(yùn)動(dòng)。 優(yōu)選地，當(dāng)所述密封塞靜置在所述喇叭口上時(shí)，所述導(dǎo)入段進(jìn)入所述密封孔內(nèi)1mm，這樣總能保證密封塞不會(huì)偏離密封孔515。密封段573的外徑與封堵?lián)醢逯械拿芊饪?15直徑一致，起到密封作用。進(jìn)一步地，如圖4所示，所述密封塞57還包括與所述密封段573連接的承托段 575，所述密封段573位于所述承托段575與所述導(dǎo)入段571之間，所述承托段575的底端具有卡住所述喇叭口外沿的承托凹面579，以便喇叭口頂部外徑與密封塞承托凹面吻合，起到定位的作用。另外，承托面還利用進(jìn)入氣產(chǎn)生托舉密封塞57的作用。所述承托凹面579 為圓形，所述承托凹面579的直徑大于所述密封段573的直徑。喇叭口不僅對(duì)注入氣起降壓噴射作用，而且喇叭口與密封塞57保證了單向噴射。此外，喇叭口增加了密封塞承托面的受力面積，保證密封塞在向上運(yùn)動(dòng)過(guò)程中保持平穩(wěn)。所述承托凹面577的邊緣具有倒角579，倒角使得進(jìn)入氣在托舉后形成向下的反沖壓力，避免進(jìn)入氣進(jìn)入密封塞受力面的上部、乃至進(jìn)入坩堝內(nèi)，降低密封效果，所述倒角可以為45度，能夠更好地避免進(jìn)入氣進(jìn)入密封塞受力面的上部、乃至進(jìn)入坩堝內(nèi)，能夠?qū)崿F(xiàn)更好的密封效果。噴射模塊的主要原理如下如圖1所示，將坩堝內(nèi)的樣品介質(zhì)熔化為可流動(dòng)的液態(tài)；液體在重力及頂部氣體壓力的作用下進(jìn)入噴嘴5內(nèi)；程序控制氣動(dòng)閥9開(kāi)啟時(shí)間，使一定體積的氣體進(jìn)入噴嘴5內(nèi)；噴嘴內(nèi)的單向流動(dòng)設(shè)計(jì)使得噴嘴5與坩堝1形成隔離，液體向下噴出，完成一次噴射。進(jìn)入噴嘴的氣體由恒壓氣源7提供。1.方法測(cè)試原理由Hagen-Poiseuille方程，計(jì)算管柱體內(nèi)不同孔徑D處的流量Q
^ ApnD4 _] G=-^-T- 基礎(chǔ)參數(shù)Δρ為管柱體的入口與噴出口處的壓力差，噴嘴入口壓力< 2MPa ；J甘堝上方壓力< 0. 2MPa ；噴嘴管柱體內(nèi)徑為IOmm ；氧化鋁陶瓷管內(nèi)徑有l(wèi)mm、0. 5mm、0. 2mm和 0. Imm4種規(guī)格；封堵?lián)醢蹇變?nèi)徑5mm，擋板厚度5mm ；單向塞外徑8mm ； μ為熔化狀態(tài)介質(zhì)粘度，其為IOOOOmPa. s ；L為管柱體的長(zhǎng)度。 封堵?lián)醢逄幜髁棵看芜M(jìn)入噴嘴流量最大可達(dá)1. SmL ；陶瓷管出口流量每次噴射液滴粒徑可控制在0. 1 2. Omm范圍內(nèi)；由牛頓運(yùn)動(dòng)定律可知?dú)怏w進(jìn)入時(shí)，單向塞被施加30 60N的力，則單向塞只需0. 001秒即可封堵?lián)醢宄隹?；保證注入氣體擠壓下方液體向陶瓷管方向運(yùn)動(dòng)，噴射而出。由以上參數(shù)可知，通過(guò)調(diào)節(jié)氣源壓力、氣動(dòng)閥開(kāi)啟時(shí)間間隔和陶瓷管規(guī)格即可滿足實(shí)驗(yàn)條件所需的不同噴射要求。2.噴嘴工作過(guò)程如下噴嘴的工作過(guò)程包括噴射前和噴射兩個(gè)階段。①噴射前階段根據(jù)設(shè)計(jì)要求選擇一定內(nèi)徑的陶瓷管，并緊固好端蓋。待坩堝內(nèi)介質(zhì)滿足可流動(dòng)條件時(shí)，噴嘴5內(nèi)封堵?lián)醢迳系拿芊饪?15保持暢通，坩堝內(nèi)流體(高熔點(diǎn)介質(zhì))在重力(或附加一定壓力)作用下，進(jìn)入內(nèi)腔511內(nèi)。由于密封塞57與喇叭口 591吻合較好，其內(nèi)部無(wú)流體進(jìn)入。受流體與陶瓷管內(nèi)壁的界面張力作用，流體不能由噴出口 531自然流出。準(zhǔn)備進(jìn)入噴射狀態(tài)。②噴射階段設(shè)置噴射速度、噴射壓力等參數(shù)后，噴射過(guò)程由程序自動(dòng)控制?？刂坪銐簹庠?的氣動(dòng)閥9在設(shè)定時(shí)間內(nèi)完成開(kāi)啟和關(guān)閉操作。一定量的高壓氣體進(jìn)入入口管593內(nèi)，氣體經(jīng)喇叭口 591降壓噴射向上托起密封塞57，使之短暫停留在封堵?lián)醢宓拿芊饪?15處，阻止內(nèi)腔511上方流體的進(jìn)入。同時(shí)，氣體在密封塞57的反作用下，克服陶瓷管51內(nèi)壁的界面張力，使流體由噴出口 531噴出。流體噴出后，內(nèi)腔511內(nèi)壓力降低，坩堝內(nèi)壓力將密封塞57壓下并使之落在喇叭口 591上，坩堝內(nèi)流體再次進(jìn)入內(nèi)腔511內(nèi)。進(jìn)入下一次的噴射前階段。經(jīng)過(guò)對(duì)陶瓷管內(nèi)徑、恒壓氣源壓力、入口管內(nèi)徑和噴射速度的設(shè)計(jì)，可以控制噴出流體的流量及其形態(tài)。(3)整理過(guò)程完成3D打印過(guò)程后，需在高溫狀態(tài)利用氣體將熔化容器1內(nèi)的液體清理干凈，防止噴嘴堵塞；工作過(guò)程中要穿戴防高溫、防噴濺安全保護(hù)服，提高安全意識(shí)，防止高溫傷害。本實(shí)用新型具有以下優(yōu)點(diǎn)1.噴嘴能承受1400°C高溫；2.噴嘴腔體空間適用于在重力和氣體低壓輔助下能夠流動(dòng)的高粘液態(tài)介質(zhì)，單向密封塞確保了腔體與坩堝的有效連通及斷開(kāi)，設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)了高熔點(diǎn)介質(zhì)微小流量的噴射功能，為高熔點(diǎn)介質(zhì)3D打印方法提供了技術(shù)支持；3.噴嘴設(shè)計(jì)能適應(yīng)不同噴射流量的要求，噴射速度可達(dá)每秒5次，粒徑最小達(dá) 0. 1mm，滿足不同設(shè)計(jì)要求。以上所述僅為本實(shí)用新型示意性的具體實(shí)施方式
，并非用以限定本實(shí)用新型的范圍。為本實(shí)用新型的各組成部分在不沖突的條件下可以相互組合，任何本領(lǐng)域的技術(shù)人員， 在不脫離本實(shí)用新型的構(gòu)思和原則的前提下所作出的等同變化與修改，均應(yīng)屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。
權(quán)利要求1.一種適應(yīng)介質(zhì)流動(dòng)的噴嘴，其特征在于，所述適應(yīng)介質(zhì)流動(dòng)的噴嘴包括管柱體，所述管柱體具有內(nèi)腔，所述內(nèi)腔位于容納介質(zhì)的融化容器的下方并與容納介質(zhì)的融化容器連接，所述內(nèi)腔中設(shè)有密封孔；密封所述密封孔的密封塞，可活動(dòng)的設(shè)置在所述密封孔的下方并位于所述內(nèi)腔中；噴氣管，從所述管柱體的側(cè)壁穿入到所述內(nèi)腔中并與設(shè)置在所述管柱體外的氣源裝置連接，所述噴氣管的出口端具有承托所述密封塞的端面以及與所述端面連接的噴氣空間， 所述噴氣空間與所述出口端位于所述密封塞的下方的所述內(nèi)腔中；陶瓷管，連接在所述噴氣管的下方并位于所述內(nèi)腔中，所述陶瓷管具有噴出口，所述噴出口與所述內(nèi)腔連通，在非噴射狀態(tài)，所述噴出口的口徑小于所述介質(zhì)流出的最小口徑。
2.如權(quán)利要求1所述的適應(yīng)介質(zhì)流動(dòng)的噴嘴，其特征在于，所述內(nèi)腔中設(shè)有封堵?lián)醢澹?所述密封孔設(shè)置在封堵?lián)醢逯小?br> 3.如權(quán)利要求1所述的適應(yīng)介質(zhì)流動(dòng)的噴嘴，其特征在于，所述內(nèi)腔中設(shè)有對(duì)所述陶瓷管定位的定位擋圈，所述定位擋圈位于所述內(nèi)腔中的所述噴氣管之下并且所述定位擋圈具有連通所述噴出口與所述內(nèi)腔的通孔，所述陶瓷管位于所述定位擋圈之下。
4.如權(quán)利要求3所述的適應(yīng)介質(zhì)流動(dòng)的噴嘴，其特征在于，所述適應(yīng)介質(zhì)流動(dòng)的噴嘴還包括連接在所述管柱體底部的端蓋，所述陶瓷管位于所述端蓋與所述定位擋圈之間。
5.如權(quán)利要求1所述的適應(yīng)介質(zhì)流動(dòng)的噴嘴，其特征在于，所述噴氣管包括與所述氣源裝置連接的入口管以及連接在所述入口管端部的喇叭口，所述氣源裝置為恒壓氣源泵。
6.如權(quán)利要求5所述的適應(yīng)介質(zhì)流動(dòng)的噴嘴，其特征在于，所述密封塞包括導(dǎo)入所述密封孔的導(dǎo)入段，與所述導(dǎo)入段連接的密封段。
7.如權(quán)利要求6所述的適應(yīng)介質(zhì)流動(dòng)的噴嘴，其特征在于，所述導(dǎo)入段為錐形或錐臺(tái)形，所述密封段為圓柱形，所述導(dǎo)入段的直徑小于所述密封段的直徑。
8.如權(quán)利要求6所述的適應(yīng)介質(zhì)流動(dòng)的噴嘴，其特征在于，所述密封塞還包括與所述密封段連接的承托段，所述密封段位于所述承托段與所述導(dǎo)入段之間，所述承托段的底端具有卡住所述喇叭口外沿的承托凹面，所述承托凹面為圓形，所述承托凹面的直徑大于所述密封段的直徑。
9.如權(quán)利要求8所述的適應(yīng)介質(zhì)流動(dòng)的噴嘴，其特征在于，所述承托凹面的邊緣具有倒角。
10.如權(quán)利要求9所述的適應(yīng)介質(zhì)流動(dòng)的噴嘴，其特征在于，所述倒角為45度，當(dāng)所述密封塞靜置在所述喇叭口上時(shí)，所述導(dǎo)入段進(jìn)入所述密封孔內(nèi)1mm。
專利摘要本實(shí)用新型提出一種適應(yīng)介質(zhì)流動(dòng)的噴嘴，該噴嘴包括管柱體，所述管柱體具有內(nèi)腔，所述內(nèi)腔位于容納高熔點(diǎn)介質(zhì)的融化容器的下方并與容納高熔點(diǎn)介質(zhì)的融化容器連接，所述內(nèi)腔中設(shè)有密封孔；密封所述密封孔的密封塞，可活動(dòng)的設(shè)置在所述密封孔的下方并位于所述內(nèi)腔中；噴氣管，從所述管柱體的側(cè)壁穿入到所述內(nèi)腔中并與設(shè)置在所述管柱體外的氣源裝置連接，所述噴氣管的出口端具有承托所述密封塞的端面以及與所述端面連接的噴氣空間，所述噴氣空間與所述出口端位于所述密封塞的下方的所述內(nèi)腔中；陶瓷管，連接在所述噴氣管的下方并位于所述內(nèi)腔中，所述陶瓷管具有噴出口，所述噴出口與所述內(nèi)腔連通。本實(shí)用新型能保證噴嘴內(nèi)液體有效噴出。
文檔編號(hào)B05B12/10GK202180019SQ20112028462
公開(kāi)日2012年4月4日 申請(qǐng)日期2011年8月5日 優(yōu)先權(quán)日2011年8月5日
發(fā)明者張可, 李實(shí) , 秦積舜, 陳興隆, 馬德勝 申請(qǐng)人:中國(guó)石油天然氣股份有限公司