專利名稱:氮化硅噴霧系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本實(shí)用新型涉及流體噴涂技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種氮化硅噴霧系統(tǒng)。
背景技術(shù):
目前各光伏企業(yè)里使用氮化硅噴霧系統(tǒng)對作為多晶硅鑄錠容器的坩堝進(jìn)行噴涂, 現(xiàn)有的氮化硅噴霧系統(tǒng)例如有中國專利CN101797M4A公開的太陽能石英坩堝的自動(dòng)噴涂裝置,如圖1所示,該自動(dòng)噴涂裝置的噴涂操作臺部分包括空氣過濾閥30、蠕動(dòng)泵31、氣動(dòng)馬達(dá)32、攪拌桶33和噴涂推車34,攪拌桶33和蠕動(dòng)泵31固定在噴涂推車34上,蠕動(dòng)泵 31采用步進(jìn)電機(jī)作為動(dòng)力源,前面板上裝有開關(guān)和電位器;氣動(dòng)馬達(dá)32通過支架36安裝在噴涂推車34上,氣動(dòng)馬達(dá)32的輸出軸上連接有攪拌軸35,攪拌軸35伸入攪拌桶33中, 空氣過濾閥30的一端接入氣源,空氣過濾閥30的另一端通過氣管與自動(dòng)噴槍上的氣體入口相連,攪拌桶33內(nèi)引出的輸液管通過蠕動(dòng)泵31與自動(dòng)噴槍的液體入口相連??諝膺^濾閥30與自動(dòng)噴槍之間的管路上安裝有防腐電磁閥,所述蠕動(dòng)泵31與自動(dòng)噴槍之間的管路上也安裝有防腐電磁閥。具體而言,空氣過濾閥30的快結(jié)接口分別引出3根氣管與自動(dòng)噴槍上的氣體入口相連;從攪拌桶33內(nèi)引出的輸液管經(jīng)過蠕動(dòng)泵31和防腐電磁閥37與自動(dòng)噴槍的液體入口相連。在該裝置中,當(dāng)?shù)鑷婌F從噴槍中噴至坩堝上時(shí),由于是懸浮液體的噴涂,因而噴涂后還要等一段時(shí)間待氮化硅溶液干燥后再進(jìn)行下一步操作;而且操作過程中的粉塵較大,雖然利用自動(dòng)機(jī)器人進(jìn)行噴涂操作,但過多的粉塵也容易導(dǎo)致機(jī)器人發(fā)生故障,而且對于大多數(shù)工廠目前仍采用的人工手動(dòng)噴涂的工作模式而言,過多的粉塵仍是威脅工人健康的頭號殺手。此外,上述噴霧系統(tǒng)中當(dāng)與氣源連接的用氣端部為多個(gè)時(shí),也難以實(shí)現(xiàn)對每個(gè)用氣端的壓力的精確控制,這也影響了整個(gè)生產(chǎn)工藝的控制。因此,必須采用新的噴霧設(shè)備以及適應(yīng)噴涂工藝發(fā)展和控制的需求以及操作的更加人性化。
實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)的不足,提供一種氮化硅噴霧系統(tǒng),當(dāng)用氣端為多個(gè)時(shí),能夠?qū)崿F(xiàn)對來自氣源的氣體壓力的恒定、精確控制。此外,本實(shí)用新型進(jìn)一步的目的是提高噴涂效率、減少噴涂過程對人體的傷害。為實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型的技術(shù)方案為一種氮化硅噴霧系統(tǒng),包括第一氣源以及與第一氣源相連的多個(gè)用氣端,所述多個(gè)用氣端至少一個(gè)為噴槍,還包括與噴槍相連的氮化硅溶液提供裝置,在第一氣源和至少兩個(gè)所述用氣端之間的用氣支路上均設(shè)有調(diào)壓機(jī)構(gòu)。通過這樣的設(shè)計(jì),當(dāng)使用多個(gè)用氣端時(shí),可以通過分立的調(diào)壓機(jī)構(gòu)實(shí)現(xiàn)各用氣端的互不干擾的調(diào)壓控制,從而可以實(shí)現(xiàn)對來自第一氣源的氣體壓力的恒定、精確控制。所述調(diào)壓機(jī)構(gòu)包括依次連接的空氣過濾器、減壓閥、油霧器。空氣過濾器用于過濾空氣中的灰塵及雜質(zhì),減壓閥用于調(diào)壓,油霧器用于濾油、濾濕。所述多個(gè)用氣端至少一個(gè)為氣槍,所述氣槍的用氣支路上與第一氣源之間設(shè)有所述調(diào)壓機(jī)構(gòu)。通過設(shè)置氣槍,在與噴槍的噴涂同時(shí)使用,使得噴涂至坩堝壁上的氮化硅液體干燥速度加快,提高了噴涂效率,同時(shí)又將產(chǎn)生的粉塵吹走,又可以減少噴涂過程中對人體的傷害。在包括所述氣槍的用氣支路上,在該支路上連接的調(diào)壓機(jī)構(gòu)和所述氣槍之間還接有氣壓低于所述第一氣源的第二氣源。該第二氣源用于更加方便為氣槍提供合適壓力的氣體,此外,由于增加了一個(gè)新的第二氣源,如果還是與噴槍共用一個(gè)調(diào)壓機(jī)構(gòu),則當(dāng)氣槍使用時(shí),噴槍就無法使用,而本系統(tǒng)為每個(gè)用氣端提供分立的調(diào)壓機(jī)構(gòu),可以使得各個(gè)用氣端的使用互不干涉。該氮化硅噴霧系統(tǒng)還包括與噴槍相連的氮化硅溶液提供裝置,該氮化硅溶液提供裝置包括依次連接的氮化硅溶液容器、流量可調(diào)的數(shù)顯蠕動(dòng)泵。通過恒定精準(zhǔn)的數(shù)顯蠕動(dòng)泵代替普通的蠕動(dòng)泵或者氣動(dòng)流量泵,可精準(zhǔn)調(diào)節(jié)溶液流量使溶液持續(xù)穩(wěn)定的供應(yīng)給噴槍從而滿足噴涂工藝需求。選用的數(shù)顯蠕動(dòng)泵可以顯示流量,具有很強(qiáng)的可控性,排除了以往的氣動(dòng)泵轉(zhuǎn)速難以控制的問題。在所述數(shù)顯蠕動(dòng)泵和噴槍之間還設(shè)有節(jié)流閥。設(shè)置的節(jié)流閥可以更加方便地、精確地調(diào)節(jié)噴槍中的待噴溶液的流量。所述多個(gè)用氣端還包括氣動(dòng)馬達(dá)以及由氣動(dòng)馬達(dá)驅(qū)動(dòng)的用于攪拌氮化硅溶液的攪拌棒,所述攪拌棒伸入所述氮化硅溶液容器內(nèi),所述氣動(dòng)馬達(dá)和第一氣源之間設(shè)有所述調(diào)壓機(jī)構(gòu)。此用氣端用來對氮化硅溶液進(jìn)行持續(xù)攪拌。所述噴槍的用氣支路上與第一氣源之間設(shè)有所述調(diào)壓機(jī)構(gòu)。本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比具有如下優(yōu)點(diǎn)和有益效果本實(shí)用新型通過在氣源和至少兩個(gè)所述用氣端之間設(shè)有調(diào)壓機(jī)構(gòu),從而當(dāng)使用多個(gè)用氣端時(shí),可以通過分立的調(diào)壓機(jī)構(gòu)實(shí)現(xiàn)各用氣端的互不干擾的調(diào)壓控制,從而可以實(shí)現(xiàn)對來自氣源的氣體壓力的恒定、精確控制。此外又設(shè)置氣槍來與噴槍同時(shí)使用,使得噴涂至坩堝壁上的氮化硅液體干燥速度加快,提高了噴涂效率,同時(shí)又將產(chǎn)生的粉塵吹走,又可以減少噴涂過程對人體的傷害。同時(shí),還采用了數(shù)顯蠕動(dòng)泵以實(shí)現(xiàn)氮化硅液體流量的可調(diào)。 通過以上改進(jìn)組合使用,能夠使本實(shí)用新型的氮化硅噴霧系統(tǒng)具備精準(zhǔn)控制流量、噴劑霧化恒定、霧化顆粒大小均勻、便于操作等優(yōu)點(diǎn),同時(shí)還能夠減少因該工序出現(xiàn)的質(zhì)量問題影響產(chǎn)品的品質(zhì),為企業(yè)降低消耗,節(jié)約成本。
圖1是現(xiàn)有技術(shù)的太陽能石英坩堝的自動(dòng)噴涂裝置的結(jié)構(gòu)示意圖;圖2是本實(shí)用新型的氮化硅噴霧系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖;圖3是本實(shí)用新型的氮化硅溶液提供裝置結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
4[0026]以下,參照附圖對本實(shí)用新型的實(shí)施方式進(jìn)行說明。如圖2所示,本實(shí)用新型的氮化硅噴霧系統(tǒng),包括第一氣源,這里優(yōu)選0. 7MPa壓縮空氣氣源,以及與第一氣源相連的多個(gè)用氣端,此處多個(gè)用氣端分別為噴槍、氣動(dòng)馬達(dá)、 以及氣槍,在各用氣端的用氣支路上與第一氣源之間,即在噴槍、氣動(dòng)馬達(dá)、以及氣槍的用氣支路上與0. 壓縮空氣氣源之間均設(shè)有調(diào)壓機(jī)構(gòu)1 (3個(gè)),即在第一氣源和噴槍之間、 第一氣源和氣動(dòng)馬達(dá)之間、以及第一氣源和氣槍之間各設(shè)有一個(gè)調(diào)壓機(jī)構(gòu)1,以解決噴霧所使用的高壓氣體氣壓恒定的問題,調(diào)壓機(jī)構(gòu)1優(yōu)選包括依次連接的空氣過濾器4、減壓閥5 和油霧器6,從而進(jìn)行濾油、調(diào)壓、濾濕,能在穩(wěn)定氣壓的同時(shí)濾除壓縮空氣中的水和油,更能保證噴涂劑不受污染,確保太陽能光伏多晶鑄錠展品的品質(zhì)。此外,這樣設(shè)置,當(dāng)使用多個(gè)用氣端時(shí),可以通過多個(gè)調(diào)壓機(jī)構(gòu)對各用氣端互不干擾地進(jìn)行調(diào)壓控制,以實(shí)現(xiàn)對來自第一氣源的氣體壓力的精確控制。在氣動(dòng)馬達(dá)的用氣支路上,還設(shè)有由氣動(dòng)馬達(dá)驅(qū)動(dòng)的攪拌棒(圖略),攪拌棒伸入氮化硅溶液容器內(nèi),從而實(shí)現(xiàn)對氮化硅溶液的持續(xù)攪拌。此外,在氣槍的用氣支路上,在該支路上連接的調(diào)壓機(jī)構(gòu)1和氣槍之間還連接有氣壓低于所述第一氣源的第二氣源(優(yōu)選0. 4MPa),從而更加方便為氣槍提供合適壓力的壓縮空氣。如圖3所示,本氮化硅噴霧系統(tǒng)還包括與噴槍相連的氮化硅溶液提供裝置2,該氮化硅溶液提供裝置2包括依次連接的氮化硅溶液容器7、流量可調(diào)的數(shù)顯蠕動(dòng)泵8,此外,還可以在數(shù)顯蠕動(dòng)泵8和噴槍之間再連接一個(gè)節(jié)流閥9從而達(dá)到對噴槍噴射流量的更方便、 精確地控制。此處選用的數(shù)顯蠕動(dòng)泵8可以顯示流量,具有高精度恒定控制噴劑流量輸送功能(誤差小于士0.5% )以及很強(qiáng)的可控性,噴劑流量可調(diào)整范圍大且精準(zhǔn),排除了以往的氣動(dòng)泵轉(zhuǎn)速難以控制的問題。將本實(shí)用新型的氮化硅噴霧系統(tǒng)的工作原理簡述如下,啟動(dòng)系統(tǒng)后,氣動(dòng)馬達(dá)用氣支路運(yùn)作,帶動(dòng)攪拌棒使氮化硅溶液容器7內(nèi)的氮化硅溶液均勻攪拌,數(shù)顯蠕動(dòng)泵8動(dòng)作,將攪拌均勻的氮化硅溶液經(jīng)節(jié)流閥9后送至噴槍,與此同時(shí),0. 壓縮空氣氣源提供的壓縮空氣經(jīng)調(diào)壓機(jī)構(gòu)后也連接至噴槍,則噴槍在壓縮空氣的作用下,將輸送至其內(nèi)的氮化硅溶液打散形成氮化硅噴霧,噴涂至坩堝上,此外,氣槍用氣支路也同時(shí)運(yùn)作,通過和噴槍同時(shí)使用能夠?qū)娡恐鳞釄迳系牡枞芤杭皶r(shí)干燥,也將產(chǎn)生的粉塵吹走,避免了對人體的傷害。本實(shí)用新型不限于上述內(nèi)容,還可以是如下結(jié)構(gòu),S卩,該多個(gè)用氣端除了噴槍、氣動(dòng)馬達(dá)、氣槍之外也可以為具有其它功能的用氣端。調(diào)壓機(jī)構(gòu)的設(shè)置數(shù)量也可以為任意,只要保證至少在兩路并列的用氣支路上均設(shè)置即可。調(diào)壓機(jī)構(gòu)也可以包括其它的功能構(gòu)件, 只要能夠?qū)崿F(xiàn)調(diào)壓功能即可。這樣的變換均落在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種氮化硅噴霧系統(tǒng),包括第一氣源以及與第一氣源相連的多個(gè)用氣端,所述多個(gè)用氣端至少一個(gè)為噴槍,還包括與噴槍相連的氮化硅溶液提供裝置O),其特征在于,在第一氣源和至少兩個(gè)所述用氣端之間的用氣支路上均設(shè)有調(diào)壓機(jī)構(gòu)(1)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氮化硅噴霧系統(tǒng),其特征在于所述調(diào)壓機(jī)構(gòu)(1)包括依次連接的空氣過濾器G)、減壓閥(5)、油霧器(6)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的氮化硅噴霧系統(tǒng),其特征在于所述多個(gè)用氣端至少一個(gè)為氣槍,所述氣槍的用氣支路上與第一氣源之間設(shè)有所述調(diào)壓機(jī)構(gòu)(1)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的氮化硅噴霧系統(tǒng),其特征在于在包括所述氣槍的用氣支路上,在該支路上連接的調(diào)壓機(jī)構(gòu)和所述氣槍之間還接有氣壓低于所述第一氣源的第二氣源。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的氮化硅噴霧系統(tǒng),其特征在于所述氮化硅溶液提供裝置( 包括依次連接的氮化硅溶液容器(7)、流量可調(diào)的數(shù)顯蠕動(dòng)泵(8)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的氮化硅噴霧系統(tǒng),其特征在于在所述數(shù)顯蠕動(dòng)泵(8)和噴槍之間還設(shè)有節(jié)流閥(9)。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的氮化硅噴霧系統(tǒng),其特征在于所述多個(gè)用氣端還包括氣動(dòng)馬達(dá)以及由氣動(dòng)馬達(dá)驅(qū)動(dòng)的用于攪拌氮化硅溶液的攪拌棒,所述攪拌棒伸入所述氮化硅溶液容器(7)內(nèi),所述氣動(dòng)馬達(dá)和第一氣源之間設(shè)有所述調(diào)壓機(jī)構(gòu)(1)。
8.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的氮化硅噴霧系統(tǒng),其特征在于所述噴槍的用氣支路上與第一氣源之間設(shè)有所述調(diào)壓機(jī)構(gòu)(1)。
專利摘要本實(shí)用新型涉及流體噴涂技術(shù)領(lǐng)域,具體公開了一種氮化硅噴霧系統(tǒng),包括第一氣源以及與第一氣源相連的多個(gè)用氣端,所述多個(gè)用氣端至少一個(gè)為噴槍,還包括與噴槍相連的氮化硅溶液提供裝置(2),在第一氣源和至少兩個(gè)所述用氣端之間的用氣支路上均設(shè)有調(diào)壓機(jī)構(gòu)(1)。本實(shí)用新型的氮化硅噴霧系統(tǒng)當(dāng)使用多個(gè)用氣端時(shí),可以通過分立的調(diào)壓機(jī)構(gòu)實(shí)現(xiàn)各用氣端的互不干擾的調(diào)壓控制,從而可以實(shí)現(xiàn)對來自氣源的氣體壓力的恒定、精確控制。
文檔編號B05B12/04GK202283511SQ20112042145
公開日2012年6月27日 申請日期2011年10月28日 優(yōu)先權(quán)日2011年10月28日
發(fā)明者胡立光 申請人:唐山海泰新能科技有限公司