專利名稱：雙面涂布裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種雙面涂布裝置，使用于在金屬箔的雙面同時(shí)涂布電解液的工序
坐寸o
背景技術(shù)：
例如，在制造鋰(lithium) 二次電池時(shí)，進(jìn)行使用涂布頭(head)對鋁(aluminum)箔等基材按單面分別涂布電極液等涂液的依次涂布。在依次涂布中，傳送基材時(shí)，用支撐輥(back-up roll)保持與進(jìn)行涂布的面相反側(cè)的面，暫時(shí)僅進(jìn)行單面的涂布，干燥后進(jìn)行相反側(cè)的面的涂布。另一方面，還公知有同時(shí)對雙面涂布而實(shí)現(xiàn)產(chǎn)量(throughput)的提高的雙面涂布裝置。例如，向水平方向送出基材，在基材雙面上涂布涂液。若輥接觸到涂布有涂液的部位，則涂液附著到輥上，因此不使用輥而直接傳入干燥爐。此時(shí)，由于沒有用輥支撐基材，因此基材的位置精度惡化，并且在寬度方向的剖面(profile)上產(chǎn)生跳動(dòng)。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的實(shí)施方式提供一種雙面涂布裝置，抑制基材的左右方向的跳動(dòng)，能夠進(jìn)行良好的雙面同時(shí)涂布。實(shí)施方式所涉及的一種雙面涂布裝置，在具有涂布區(qū)域和非涂布區(qū)域且形成為片狀的基材的雙面的上述涂布區(qū)域涂布涂液。該雙面涂布裝置具有傳送機(jī)構(gòu)、第I涂布頭、第2涂布頭及涂布輥(roll)。上述傳送機(jī)構(gòu)沿送出方向傳送上述基材。上述第I涂布頭配置于上述基材的一個(gè)面?zhèn)?，使上述涂液在與上述送出方向交差的方向上交替地形成涂布區(qū)域和非涂布區(qū)域地涂布上述涂液。上述第2涂布頭配置于上述基材的另一個(gè)面?zhèn)?，使上述涂液在與上述送出方向交差的方向上交替地形成涂布區(qū)域和非涂布區(qū)域地涂布上述涂液。上述涂布輥具有多個(gè)第I輥(roller)、第2輥及旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)。上述多個(gè)第I輥配置于上述基材的一個(gè)面?zhèn)惹遗c上述第2涂布頭隔著上述基材相對置的位置附近，設(shè)置于沿著軸向的兩端部。上述第2輥設(shè)置于上述第I輥之間。上述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)使上述第I輥及上述第2輥旋轉(zhuǎn)，并且使上述第I輥的圓周速度大于上述第2棍的圓周速度。根據(jù)上述結(jié)構(gòu)，能夠抑制基材的左右方向的跳動(dòng)，進(jìn)行良好的雙面同時(shí)涂布。


圖IA是示意地表示第I實(shí)施方式所涉及的雙面涂布裝置的說明圖。
圖IB是表示作為雙面涂布裝置的涂布對象的基材的寬度方向的說明圖。圖2是示意地表示組裝于該雙面涂布裝置的涂布輥的立體圖。圖3是示意地表示組裝于該雙面涂布裝置的其他涂布輥的立體圖。圖4是示意地表示組裝于該雙面涂布裝置的其他涂布輥的立體圖。圖5是示意地表示組裝于該雙面涂布裝置的其他涂布輥的立體圖。圖6是示意地表示第2實(shí)施方式所涉及的雙面涂布裝置的說明圖。
圖7是示意地表示第3實(shí)施方式所涉及的雙面涂布裝置的說明圖。圖8是示意地表示第4實(shí)施方式所涉及的雙面涂布裝置的說明圖。
具體實(shí)施例方式圖IA是示意地表示第I實(shí)施方式所涉及的雙面涂布裝置10的說明圖，圖IB是表示作為雙面涂布裝置的涂布對象的基材的寬度方向的說明圖，圖2是示意地表示組裝于雙面涂布裝置10的涂布輥50的立體圖。在圖IA中，S表示鋁箔等片狀的基材，D表示電解液等涂液。在圖IB中，基材S上設(shè)置有涂布涂液D的涂布區(qū)域Sa和不涂布涂液D的非涂布區(qū)域Sb，涂布區(qū)域Sa和非涂布區(qū)域Sb交替地設(shè)定在基材S的寬度方向W(與送出方向F正交的方向)上。雙面涂布裝置10包括向預(yù)定的送出方向F送出基材S的送出機(jī)構(gòu)(傳送機(jī)構(gòu))20和在該送出機(jī)構(gòu)20的下游側(cè)依次設(shè)置的第I涂布部30、第2涂布部40及干燥裝置100。第I涂布部30包括在基材S的表面SI —側(cè)所設(shè)置的第I涂布頭31 ;和相對于該第I涂布頭31隔著基材S在背面S2 —側(cè)所設(shè)置的支撐輥32。支撐輥32形成為圓筒形狀。第I涂布頭31及后述的第2涂布頭41均是在單面涂布中所使用的普通的涂布頭。第2涂布部40包括在基材S的背面S2 —側(cè)所設(shè)置的第2涂布頭41 ;和相對于該第2涂布頭41隔著基材S在表面SI 一側(cè)所設(shè)置的涂布輥50。涂布輥50具有圓柱狀的軸體(旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu))51，在其軸向(基材S的寬度方向)兩端側(cè)一體地設(shè)置有形成為大徑的圓柱狀的第I輥52，在中間部分一體地設(shè)置有形成為小徑的圓柱狀的第2棍53。第I棍52及第2棍53形成在同一旋轉(zhuǎn)軸上，因此相對于基材S,第2輥53比第I輥52凹陷，形成為內(nèi)插涂布輥50的與基材S的接觸面的杠鈴狀。第I輥52及第2輥53與不涂布涂液D的非涂布區(qū)域Sb對應(yīng)地設(shè)置。軸體51使第I輥52和第2輥53以相同的轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)。即，第I輥52的圓周速度大于第2輥53的圓周速度。在這樣構(gòu)成的雙面涂布裝置10中，如下所述進(jìn)行雙面涂布。即，由送出機(jī)構(gòu)20向預(yù)定的送出方向F送出未涂布的基材S。接著，在第I涂布部30，由第I涂布頭31在基材S的表面SI 一側(cè)涂布涂液D。此時(shí)，通過支撐輥32，基材S在寬度方向上被均勻地按壓，涂液D被均勻(在寬度方向的剖面上不產(chǎn)生跳動(dòng))地涂布。接著，在第2涂布部40，由第2涂布頭41在基材S的背面S2 —側(cè)涂布涂液D。此時(shí)，通過涂布輥50，基材S被壓向第2涂布頭41 一側(cè)。由此，第2涂布頭41與基材S的距離被高精度地控制。涂布輥50具有第I輥52及第2輥53，上述輥通過軸體51 —體地旋轉(zhuǎn)。S卩，第I棍52的圓周速度大于第2棍53的圓周速度。因此，基材S從圓周速度小的第2輥53側(cè)向圓周速度大的第I輥52側(cè)，即從寬度方向中央側(cè)到寬度方向兩端側(cè)受到拉伸力。因此，即使在輥沒有與基材S的表面SI的寬度方向整體抵接的情況下，基材S上也不會(huì)產(chǎn)生褶皺，涂液D被均勻(在寬度方向的剖面上不產(chǎn)生跳動(dòng))地涂布。這樣，在表面SI及背面S2上涂布了涂液D的基材S向干燥裝置100內(nèi)傳送，進(jìn)行干燥處理，涂布工序結(jié)束。如上所述，在本實(shí)施方 式所涉及的雙面涂布裝置10中，第2涂布頭41與基材S的距離被高精度地控制，并且向基材S的寬度方向兩端側(cè)受到拉伸力。因此，在基材S上不會(huì)產(chǎn)生褶皺，涂液D在表面SI及背面S2上均被均勻(在寬度方向的剖面上不產(chǎn)生跳動(dòng))地涂布。圖3是示意地表示組裝于雙面涂布裝置10的涂布輥60的立體圖。涂布輥60具有等速萬向節(jié)(joint)(旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu))61，在其軸向(基材S的寬度方向)兩端側(cè)連接有形成為大徑的圓柱狀的第I輥62，在中間部分連接有形成為小徑的圓柱狀的第2輥63。第I輥62的旋轉(zhuǎn)軸和第2輥63的旋轉(zhuǎn)軸偏心，基材S側(cè)的外周面位于同一平面上。等速萬向節(jié)61使第I輥62和第2輥63以同一轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)。即，第I輥62的圓周速度大于第2棍63的圓周速度。在使用這樣構(gòu)成的涂布輥60的情況下，也與上述的涂布輥50同樣地進(jìn)行涂布。即，在第2涂布部40，由第2涂布頭41在基材S的背面S2 —側(cè)涂布涂液D。S卩，通過涂布輥60，基材S被壓向第2涂布頭41 一側(cè)。涂布輥60具有第I輥62及第2輥63，上述輥通過等速萬向節(jié)61 —體地旋轉(zhuǎn)。S卩，第I輥62的圓周速度大于第2輥63的圓周速度。因此，基材S從圓周速度小的第2輥63側(cè)向圓周速度大的第I輥62側(cè)，即從寬度方向中央側(cè)到寬度方向兩端側(cè)受到拉伸力。因此，即使在輥沒有與基材S的表面SI的寬度方向整體抵接的情況下，第2涂布頭41與基材S的距離也被高精度地控制，并且在基材S上不會(huì)產(chǎn)生褶皺，涂液D被均勻(在寬度方向的剖面上不產(chǎn)生跳動(dòng))地涂布。如上所述，在使用涂布輥60的情況下，也能夠獲得與使用涂布輥50的情況相同的效果。圖4是示意地表示組裝于雙面涂布裝置10的涂布輥70的立體圖。涂布輥70具有齒輪機(jī)構(gòu)(旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu))71，在其軸向(基材S的寬度方向)兩端側(cè)連接有形成為圓柱狀的第I輥72，在中間部分連接有形成為與第I輥72相同直徑的圓柱狀的第2棍73。第I棍72及第2棍73的基材S —側(cè)的外周面位于同一平面上。齒輪機(jī)構(gòu)71使第I輥72以大于第2輥73的轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)。S卩，第I輥72的圓周速度大于第2輥73的圓周速度。在使用這樣構(gòu)成的涂布輥70的情況下，也與上述的涂布輥50同樣地進(jìn)行涂布。即，在第2涂布部40，由第2涂布頭41在基材S的背面S2 —側(cè)涂布涂液D。S卩，通過涂布輥70，基材S被壓向第2涂布頭41 一側(cè)。涂布輥70具有第I輥72及第2輥73，上述輥通過齒輪機(jī)構(gòu)71具有轉(zhuǎn)速差地旋轉(zhuǎn)。即，第I輥72的圓周速度大于第2輥73的圓周速度。因此，基材S從圓周速度小的第2輥73側(cè)向圓周速度大的第I輥72側(cè)，即從寬度方向中央側(cè)到寬度方向兩端側(cè)受到拉伸力。因此，即使在輥沒有與基材S的表面SI的寬度方向整體抵接的情況下，第2涂布頭41與基材S的距離也被高精度地控制，并且在基材S上不會(huì)產(chǎn)生褶皺，涂液D被均勻(在寬度方向的剖面上不產(chǎn)生跳動(dòng))地涂布。如上所述，在使用涂布輥70的情況下，也能夠獲得與使用涂布輥50的情況相同的效果。
圖5是示意地表示組裝于雙面涂布裝置10的涂布輥80的立體圖。涂布輥80具有旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)81。旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)81具有軸體81a及等速萬向節(jié)81b。旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)81在其軸向(基材S的寬度方向)兩端側(cè)設(shè)置有一對形成為大徑的圓錐臺(tái)狀的第I輥82，在中間部分設(shè)置有一對形成為小徑的圓錐臺(tái)狀的第2輥83。各第I輥82及第2輥83通過軸體81a結(jié)合。各第2棍83通過等速萬向節(jié)81b結(jié)合。第I輥82及第2輥83與不涂布涂液D的非涂布區(qū)域Sb對應(yīng)地設(shè)置。軸體81a及等速萬向節(jié)81b使所有的第I輥82和第2輥83以同一轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)。即，第I輥82的圓周速度大于第2輥83的圓周速度。S卩，第I輥72的圓周速度大于第2輥73的圓周速度。在使用這樣構(gòu)成的涂布輥80的情況下，也與上述的涂布輥50同樣地進(jìn)行涂布。即，在第2涂布部40，由第2涂布頭41在基材S的背面S2 —側(cè)涂布涂液D。S卩，通過涂布輥80，基材S被壓向第2涂布頭41 一側(cè)。涂布輥80具有第I輥82及第2輥83，上述輥通過旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)81以同一轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)。即，第I輥82的圓周速度大于第2棍83的圓周速度。因此，基材S從圓周速度小的第2輥83側(cè)向圓周速度大的第I輥82側(cè)，即從寬度方向中央側(cè)到寬度方向兩端側(cè)受到拉伸力。因此，即使在混沒有與基材S的表面SI的寬度方向整體抵接的情況下，第2涂布頭41與基材S的距離也被高精度地控制，并且在基材S上不會(huì)產(chǎn)生褶皺，涂液D被均勻(在寬度方向的剖面上不產(chǎn)生跳動(dòng))地涂布。如上所述，在使用涂布輥80的情況下，也能夠獲得與使用涂布輥50的情況相同的效果。圖6是示意地表示第2實(shí)施方式所涉及的雙面涂布裝置IOA的說明圖。另外，在圖6中對與圖I相同的功能部分標(biāo)以同一標(biāo)號(hào)，省略其詳細(xì)說明。在雙面涂布裝置IOA中，上述涂布輥60、70、80沒有配置于與第2涂布頭41相對的位置，而是沿著基材S的行進(jìn)方向配置于前后位置。即使這樣配置，涂布輥60、70、80也能夠發(fā)揮支撐(back-up)基材S的功能,并且能夠?qū)腟從寬度方向中央側(cè)到寬度方向兩端側(cè)產(chǎn)生拉伸力。因此，即使在輥沒有與基材S的表面SI的寬度方向整體抵接的情況下，第2涂布頭41與基材S的距離也被高精度地控制，并且在基材S上不會(huì)產(chǎn)生褶皺，涂液D被均勻(在寬度方向的剖面上不產(chǎn)生跳動(dòng))地涂布。圖7是示意地表示第3實(shí)施方式所涉及的雙面涂布裝置IOB的說明圖。另外，在圖7中對與圖I相同的功能部分標(biāo)以同一標(biāo)號(hào)，省略其詳細(xì)說明。在雙面涂布裝置IOB中，上述涂布輥60、70、80沒有配置于與第2涂布頭41相對的位置，而是沿著基材S的行進(jìn)方向配置于后方位置。即使這樣配置，涂布輥60、70、80也能夠發(fā)揮支撐基材S的功能，并且能夠?qū)腟從寬度方向中央側(cè)到寬度方向兩端側(cè)產(chǎn)生拉伸力。因此，即使在輥沒有與基材S的表面SI的寬度方向整體抵接的情況下，第2涂布頭41與基材S的距離也被高精度地控制，并且在基材S上不會(huì)產(chǎn)生褶皺，涂液D被均勻(在寬度方向的剖面上不產(chǎn)生跳動(dòng))地涂布。圖8是示意地表示第4實(shí)施方式所涉及的雙面涂布裝置IOC的說明圖。另外，在圖8中對與圖I相同的功能部分標(biāo)以同一標(biāo)號(hào)，省略其詳細(xì)說明。在雙面涂布裝置IOC中，上述涂布輥60、70、80沒有配置于與第2涂布頭41相對的位置，而是沿著基材S的行進(jìn)方向配置于前方位置。即使這樣配置，涂布輥60、70、80也能夠發(fā)揮支撐基材S的功能，并且能夠?qū)腟從寬度方向中央側(cè)到寬度方向兩端側(cè)產(chǎn)生拉伸力。因此，即使在輥沒有與基材S的表面SI的寬度方向整體抵接的情況下，第2涂布頭41與基材S的距離也被高精度地控制，并且在基材S上不會(huì)產(chǎn)生褶皺，涂液D被均勻(在寬度方向的剖面上不產(chǎn)生跳動(dòng))地涂布。以上，例示了本發(fā)明的幾個(gè)實(shí)施方式，但上述實(shí)施方式僅是作為例子來提示的，不限定發(fā)明的范圍。上述新穎的實(shí)施方式能夠以其他各種方式來實(shí)施，在不脫 離發(fā)明的要旨的范圍內(nèi)，能夠進(jìn)行各種省略、置換、變更等。上述實(shí)施方式及其變形例包含于發(fā)明的范圍及要旨，并且包含于權(quán)利要求書中所記載的發(fā)明及其相同的范圍。此外，上述各實(shí)施方式能夠彼此組合來實(shí)施。
權(quán)利要求
1.ー種雙面涂布裝置，在具有涂布區(qū)域和非涂布區(qū)域且形成為片狀的基材的雙面的上述涂布區(qū)域上涂布涂液，上述雙面涂布裝置包括 傳送機(jī)構(gòu)，沿送出方向傳送上述基材； 第I涂布頭，配置于上述基材的ー個(gè)面?zhèn)?，使上述涂液在與上述送出方向交差的方向上交替地形成涂布區(qū)域和非涂布區(qū)域地涂布上述涂液； 第2涂布頭，配置于上述基材的另一個(gè)面?zhèn)龋股鲜鐾恳涸谂c上述送出方向交差的方向上交替地形成涂布區(qū)域和非涂布區(qū)域地涂布上述涂液；以及 涂布輥，配置于上述基材的ー個(gè)面?zhèn)惹遗c上述第2涂布頭隔著上述基材相對置的位置附近，上述涂布輥具有第I輥，設(shè)置于沿著軸向的兩端部；第2輥，設(shè)置于上述第I輥之間；以及旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，使上述第I輥及第2輥旋轉(zhuǎn)，并且使上述第I輥的圓周速度大于上述第2輥的圓周速度。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的雙面涂布裝置，其中， 在上述涂布輥中，上述第I輥形成為大徑的圓柱，上述第2輥形成為小徑的圓柱，上述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)是將上述第I輥和上述第2輥一體且同軸連接的軸體。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的雙面涂布裝置，其中， 在上述涂布輥中，上述第I輥形成為大徑，上述第2輥形成為小徑，上述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)使上述第I輥和上述第2輥以同一轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)。
4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的雙面涂布裝置，其中， 在上述涂布輥中，上述第I輥和上述第2輥形成為相同直徑，上述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)使上述第I輥的轉(zhuǎn)速大于上述第2輥的轉(zhuǎn)速。
5.根據(jù)權(quán)利要求I所述的雙面涂布裝置，其中， 在上述涂布輥中，上述第I輥形成為大徑的圓錐臺(tái)，上述第2輥形成為小徑的圓錐臺(tái)，上述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)使上述第I輥和上述第2輥以同一轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)。
全文摘要
一種雙面涂布裝置，在具有涂布區(qū)域和非涂布區(qū)域且形成為片狀的基材的雙面的涂布區(qū)域涂布涂液。雙面涂布裝置具有傳送機(jī)構(gòu)、第1涂布頭、第2涂布頭及涂布輥。傳送機(jī)構(gòu)沿送出方向傳送基材。第1涂布頭配置于基材的一個(gè)面?zhèn)?，在與送出方向交差的方向上交替地形成涂布區(qū)域和非涂布區(qū)域而涂布涂液。第2涂布頭配置于基材的另一個(gè)面?zhèn)龋谂c送出方向交差的方向上交替地形成涂布區(qū)域和非涂布區(qū)域而涂布涂液。涂布輥具有多個(gè)第1輥、第2輥及旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)。多個(gè)第1輥配置于基材的一個(gè)面?zhèn)惹遗c第2涂布頭隔著基材相對置的位置附近，設(shè)置于沿著軸向的兩端部。第2輥設(shè)置于第1輥之間。旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)使第1輥及第2輥旋轉(zhuǎn)，使第1輥的圓周速度大于第2輥的圓周速度。
文檔編號(hào)B05C9/04GK102632017SQ20121003248
公開日2012年8月15日 申請日期2012年2月14日 優(yōu)先權(quán)日2011年2月14日
發(fā)明者中畑政臣, 森島秀明, 植松育生 申請人:株式會(huì)社東芝