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      一種半導體材料用高效研磨組合物的制作方法

      文檔序號:3785240閱讀:216來源:國知局
      一種半導體材料用高效研磨組合物的制作方法
      【專利摘要】本發(fā)明公開了一種半導體材料用高效研磨組合物,其特征在于,包括下列重量份數(shù)的物質:親水基表面活性劑1-8份,多聚甲醛4-6份,硫酸鋅6-8份,硫酸鎂1-3份,硫酸銀4-9份,硫酸銅3-8份,分子篩2-3份,硅藻土5-12份,硼酸鈉3-10份,納米有機蒙脫土4-10份,滑石粉4-6份,硬脂酸鋅4-6份,抗氧劑2-4份,防老劑1份,氯化鈣2-5份。本發(fā)明的化學機械研磨劑中包括親水基表面潔性劑材料,可以降低化學機械研磨劑和正在水性薄膜間的表面張力,使化學機械研磨劑和琉水性薄膜更緊密貼合。
      【專利說明】一種半導體材料用高效研磨組合物
      【技術領域】
      [0001]本發(fā)明涉及一種半導體材料用高效研磨組合物。
      【背景技術】
      [0002]在半導體制造中,化學機械研磨(CMP)技術可以實現(xiàn)整個晶圓的平坦化,成為芯片制造工藝中重要的步驟之一。在化學機械研磨中,化學機械研磨劑(Slurry)是化學機械研磨技術的關鍵要素之一,其性能直接影響拋光后表面的質量。設計化學機械研磨劑時,希望能達到去除速率高、平面度好、膜厚均勻、無殘留、缺陷少等效果。

      【發(fā)明內容】

      [0003]本發(fā)明所要解決的技術問題是提供一種半導體材料用高效研磨組合物。
      [0004]為解決上述技術問題,本發(fā)明采用的技術方案是:
      一種半導體材料用高效研磨組合物,其特征在于,包括下列重量份數(shù)的物質:親水基表面活性劑1-8份,多聚甲醛4-6份,硫酸鋅6-8份,硫酸鎂1-3份,硫酸銀4_9份,硫酸銅3_8份,分子篩2-3份,硅藻土 5-12份,硼酸鈉3-10份,納米有機蒙脫土 4-10份,滑石粉4_6份,硬脂酸鋅4-6份,抗氧劑2-4份,防老劑I份,氯化鈣2-5份。
      [0005]本發(fā)明的化學機械研磨劑中包括親水基表面潔性劑材料,可以降低化學機械研磨劑和正在水性薄膜間的表面張力,使化學機械研磨劑和琉水性薄膜更緊密貼合,從而減少琉水性薄膜表面上的殘留物和顆粒等缺陷,改善化學機械研磨的效果。
      【具體實施方式】
      [0006]實施例1
      一種半導體材料用高效研磨組合物,其特征在于,包括下列重量份數(shù)的物質:親水基表面活性劑1-8份,多聚甲醛4-6份,硫酸鋅6-8份,硫酸鎂1-3份,硫酸銀4_9份,硫酸銅3_8份,分子篩2-3份,硅藻土 5-12份,硼酸鈉3-10份,納米有機蒙脫土 4-10份,滑石粉4_6份,硬脂酸鋅4-6份,抗氧劑2-4份,防老劑I份,氯化鈣2-5份。
      【權利要求】
      1.一種半導體材料用高效研磨組合物,其特征在于,包括下列重量份數(shù)的物質:親水基表面活性劑1-8份,多聚甲醛4-6份,硫酸鋅6-8份,硫酸鎂1-3份,硫酸銀4_9份,硫酸銅3-8份,分子篩2-3份,娃藻土 5-12份,硼酸鈉3-10份,納米有機蒙脫土 4_10份,滑石粉4-6份,硬脂酸鋅4-6份,抗氧`劑2-4份,防老劑I份,氯化鈣2-5份。
      【文檔編號】C09K3/14GK103436230SQ201310387812
      【公開日】2013年12月11日 申請日期:2013年8月31日 優(yōu)先權日:2013年8月31日
      【發(fā)明者】張竹香 申請人:青島承天偉業(yè)機械制造有限公司
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