液晶排放量測(cè)量單元、排放量測(cè)量方法以及基板處理裝置制造方法
【專(zhuān)利摘要】一種液晶排放量測(cè)量單元以及使用液晶排放量測(cè)量單元向基板排放液晶的基板處理裝置。液晶排放量測(cè)量單元用于測(cè)量以噴墨式排出液晶，PI以及CF等液滴的噴嘴頭的液晶排放量?；逄幚硌b置，包括：基板支承構(gòu)件,用于支承基板；噴嘴單元，包括噴嘴頭，在噴嘴頭設(shè)有向基板噴射處理液的多個(gè)噴嘴；以及液晶排放量測(cè)量單元，具有測(cè)量從噴嘴排出的處理液的排放量的測(cè)量構(gòu)件，液晶排放量測(cè)量單元包括：回收盒，在其內(nèi)部具有收容排出的處理液的存儲(chǔ)空間；機(jī)體，設(shè)在回收盒的上方，在機(jī)體的內(nèi)部形成有多個(gè)通道；以及排放量測(cè)量?jī)x，其數(shù)量與各通道對(duì)應(yīng)，用于測(cè)量通過(guò)各通道的處理液的量，各通道從機(jī)體上表面延伸至底面形成，通道與存儲(chǔ)空間相通。
【專(zhuān)利說(shuō)明】液晶排放量測(cè)量單元、排放量測(cè)量方法以及基板處理裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及半導(dǎo)體基板制造裝置，特別涉及一種液晶排放量測(cè)量單元以及使用所述液晶排放量測(cè)量單元向基板排放液晶的基板處理裝置。所述液晶排放量測(cè)量單元用于測(cè)量以噴墨(inkjet)式排出液晶(Liquid Crystal), PI (Polyimide)以及 CF (Co lor Filter)等液滴(Liquid drop)的噴嘴頭的液晶排放量。
【背景技術(shù)】
[0002]近來(lái)在手機(jī)，筆記本電腦等電子器材的顯示部中廣泛使用液晶顯示裝置。液晶顯示裝置通過(guò)將液晶注入到黑色矩陣、彩色濾光片、共同電極以及形成有配向膜的彩色濾光片基板和薄膜晶體管(TFT)、像素電極以及形成有配向膜的陣列基板之間的空間，利用因液晶的異向性產(chǎn)生的光的折射率的差異獲得影像效果。
[0003]作為在彩色過(guò)濾片和陣列基板上涂布配向液或液晶的裝置使用噴墨式涂布裝置。
[0004]現(xiàn)有的噴墨式涂布裝置是將電信號(hào)轉(zhuǎn)換為物理的力，通過(guò)小噴嘴使液晶以液滴的形態(tài)排出的結(jié)構(gòu)體。噴墨式涂布裝置包括:在基板表面排出處理液的噴嘴頭單元和測(cè)量噴嘴頭單元的液晶排放量的液晶排放量測(cè)量單元等。
[0005]現(xiàn)有的液晶排放量測(cè)量單元為了測(cè)量排放量，需要將噴嘴頭單元移動(dòng)到基板處理裝置內(nèi)部的排放量測(cè)量單元。另外，由于通過(guò)測(cè)量大量的液滴排放量后再類(lèi)推平均值的方式計(jì)算單液晶的排放量，所以存在無(wú)法正確測(cè)量的問(wèn)題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]【需要解決的課題】
[0007]本發(fā)明在于提供一種能夠提高噴嘴頭單元的液晶排放量的測(cè)量可靠性的液晶排放量測(cè)量單元和，包括所述液晶排放量測(cè)量單元的基板處理裝置。
[0008]另外，本發(fā)明還在于提供一種通過(guò)測(cè)量單液滴的排放量從而精確測(cè)量液晶排放量的方法。
[0009]本發(fā)明要解決的課題并非限定在上述課題中，本發(fā)明所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員通過(guò)本說(shuō)明書(shū)以及附圖能夠清楚地理解沒(méi)有提及的課題。
[0010]【解決課題的方法】
[0011]本發(fā)明提供一種基板處理裝置。
[0012]本發(fā)明實(shí)施例中的基板處理裝置，包括:基板支承構(gòu)件，用于支承基板；噴嘴單元，包括噴嘴頭，在所述噴嘴頭設(shè)有向所述基板噴射處理液的多個(gè)噴嘴；以及液晶排放量測(cè)量單元，具有測(cè)量從所述噴嘴排出的所述處理液的排放量的測(cè)量構(gòu)件，所述液晶排放量測(cè)量單元包括:回收盒，在其內(nèi)部具有收容排出的處理液的存儲(chǔ)空間；機(jī)體，設(shè)在所述回收盒的上方，在所述機(jī)體的內(nèi)部形成有多個(gè)通道；以及排放量測(cè)量?jī)x，其數(shù)量與所述各通道對(duì)應(yīng)，用于測(cè)量通過(guò)所述各通道的處理液的量，所述各通道從所述機(jī)體上表面延伸至底面形成，所述通道與所述存儲(chǔ)空間相通。[0013]所述液晶排放量測(cè)量單元還包括,對(duì)所述存儲(chǔ)空間施加真空的真空施加構(gòu)件。
[0014]所述排放量測(cè)量?jī)x包括:第一排放量測(cè)量?jī)x，位于所述機(jī)體內(nèi)部，向與所述通道垂直的方向延伸，用于測(cè)量通過(guò)多個(gè)所述通道內(nèi)部的流體；以及第二排放量測(cè)量?jī)x，位于所述第一排放量測(cè)量?jī)x下方，并與所述第一排放量測(cè)量?jī)x平行，用于測(cè)量通過(guò)多個(gè)所述通道內(nèi)部的流體。
[0015]所述通道與所述噴嘴的數(shù)量一致。
[0016]所述液晶排放量測(cè)量單元還包括,移動(dòng)構(gòu)件,位于所述基板支承構(gòu)件的一側(cè)，并且將所述液晶排放量測(cè)量單元移動(dòng)到噴嘴單元。
[0017]所述液晶排放量測(cè)量單元還包括，可連接到所述噴嘴頭的連接構(gòu)件。
[0018]另外本發(fā)明提供了液晶排放量測(cè)量單元。
[0019]本發(fā)明的實(shí)施例中的液晶排放量測(cè)量單元，包括:回收盒，在其內(nèi)部具有收容排出的處理液的存儲(chǔ)空間；機(jī)體，設(shè)在所述回收盒的上方，在所述機(jī)體的內(nèi)部形成有多個(gè)通道；以及排放量測(cè)量?jī)x，其數(shù)量與所述各通道對(duì)應(yīng)，用于測(cè)量通過(guò)所述各通道的處理液的量，所述各通道從所述機(jī)體上表面延伸至底面形成，所述通道與所述存儲(chǔ)空間相通。
[0020]所述液晶排放量測(cè)量單元,還包括:向所述存儲(chǔ)空間施加真空的真空施加構(gòu)件。
[0021]所述排放量測(cè)量?jī)x，包括:第一排放量測(cè)量?jī)x，位于所述機(jī)體內(nèi)部，向與所述通道垂直的方向延伸，用于測(cè)量通過(guò)多個(gè)所述通道內(nèi)部的流體；以及第二排放量測(cè)量?jī)x，位于所述第一排放量測(cè)量?jī)x下方，并與所述第一排放量測(cè)量?jī)x平行，用于測(cè)量通過(guò)多個(gè)所述通道內(nèi)部的流體。
[0022]所述通道與所述噴嘴的數(shù)量一致。
[0023]所述液晶排放量測(cè)量單元，還包括:可連接到所述噴嘴頭的連接構(gòu)件。
[0024]另外，本發(fā)明還提供了處理液排放量的測(cè)量方法。
[0025]本發(fā)明實(shí)施例中的排放量測(cè)量方法，包括:在所述噴嘴處測(cè)得的所述處理液進(jìn)行排出的步驟；所述處理液進(jìn)入所述通道的步驟；測(cè)量通過(guò)所述通道的所述處理液的步驟；以及所述處理液回收到所述回收盒的步驟，測(cè)量所述處理液的步驟是:測(cè)量通過(guò)所述通道的第一領(lǐng)域的兩端的時(shí)間，從而測(cè)得所述處理液的體積。
[0026]所述處理液進(jìn)入所述通道的步驟是:向所述通道的下方提供一定量的真空壓，從而使所述處理液在所述通道中移動(dòng)。
[0027]測(cè)量所述處理液的步驟是:
[0028]所述處理液通過(guò)多個(gè)所述噴嘴分別被排出，從所述各噴嘴排出的各處理液分別通過(guò)不同的通道，并測(cè)量所述處理液的體積。
[0029]【發(fā)明的效果】
[0030]根據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施例，能夠提供一種可以提高測(cè)量噴嘴頭單元的液晶排放量的測(cè)量可靠性的液晶排放量測(cè)量單元、以及包括所述液晶排放量測(cè)量單元的基板處理裝置。
[0031]根據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施例，通過(guò)測(cè)量單液滴的排放量，能夠精確測(cè)量液晶排放量。
[0032]本發(fā)明的效果并非限定在上述效果之內(nèi)，本發(fā)明所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員通過(guò)本說(shuō)明書(shū)以及附圖能夠理解沒(méi)有提及的效果。
【專(zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】[0033]圖1是基板處理裝置的結(jié)構(gòu)圖；
[0034]圖2是圖1所示基板處理裝置的液晶排放量的立體圖；
[0035]圖3是圖2所示液晶排放量測(cè)量單元的截面圖；
[0036]圖4是利用圖2所示基板處理裝置測(cè)量處理液排放量的方法的流程圖；
[0037]圖5至圖9圖示了利用圖3所示排放量測(cè)量單元測(cè)量液晶排放量的過(guò)程。
[0038]【符號(hào)說(shuō)明】
[0039]
10:液晶排出部400:噴嘴頭單元
600:處理液供給裝置800:液晶排放量測(cè)量單元
810:回收盒830:通道
835, 837:排放量測(cè)量?jī)x840:真空施加構(gòu)件
890:連接構(gòu)件1000:噴嘴頭清洗單元
【具體實(shí)施方式】
[0040]以下，參考附圖對(duì)本發(fā)明的實(shí)施例進(jìn)行進(jìn)一步地詳細(xì)說(shuō)明。本發(fā)明的實(shí)施例能夠進(jìn)行多種形態(tài)的變形，并且不能將本發(fā)明的范圍解釋為限定在下述實(shí)施例中。本實(shí)施例是為了向本領(lǐng)域中具有通常知識(shí)的技術(shù)人員進(jìn)行更加完整地說(shuō)明而提供的。為了強(qiáng)調(diào)并進(jìn)行更加明確的說(shuō)明，對(duì)附圖中的要素的形狀進(jìn)行了夸大。
[0041]圖1是基板處理裝置的構(gòu)成圖。
[0042]參考圖1，基板處理裝置I包括:液晶排出部10，基板移送部20，裝載部30，卸載部40，液晶供給部50，以及主控部90。液晶排出部10與基板移送部20朝第一方向I排列成一列，可相互鄰接。以液晶排出部10為中心的與基板移送部20相對(duì)的位置上配置有液晶供給部50和主控部90。液晶供給部50和主控部90朝第二方向II排列成一列。以基板移送部20為中心的與液晶排出部10相對(duì)的位置上配置有裝載部30和卸載部40。裝載部30和卸載部40朝第二方向II配置成一列。
[0043]其中，第一方向I是液晶排出部10和基板移送部20的排列方向,第二方向II是在水平面上與第一方向垂直的方向，第三方向III是與第一方向I和第二方向II垂直的方向。
[0044]將待涂布液晶的基板運(yùn)送到裝載部30。基板移送部20將運(yùn)送到裝載部30的基板移送到液晶排出部10。液晶排出部10從液晶供給部50接受供給的液晶，以排液滴的噴墨方式向基板上排出液晶。完成液晶排出以后，基板移送部20從液晶排出部10向卸載部40移送基板。涂布了液晶的基板從卸載部40運(yùn)出。主控部90對(duì)液晶排出部10、基板移送部
20、裝載部30、卸載部40以及液晶供給部50的全部動(dòng)作進(jìn)行控制。
[0045]圖2是圖1所示基板處理裝置的液晶排出部10的實(shí)施例的立體圖。
[0046]參考圖2，基板處理裝置的液晶排出部10包括:基座B、基板支承構(gòu)件100、噴嘴單元2000、液晶排放量測(cè)`量單元800、噴嘴檢測(cè)單元900以及噴嘴頭清洗單元1000。
[0047]基板支承構(gòu)件100配置在基座B的上表面。可提供具有一定厚度的長(zhǎng)方體形基座B?；逯С袠?gòu)件100具有放有基板S的支承板110。支承板110可以是四邊形的板。支承板110的下表面連接有旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)構(gòu)件120。旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)構(gòu)件120可以是旋轉(zhuǎn)馬達(dá)。旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)構(gòu)件120以垂直于支承板100的旋轉(zhuǎn)中心軸為中心旋轉(zhuǎn)支承板110。
[0048]當(dāng)支承板110通過(guò)旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)構(gòu)件120旋轉(zhuǎn)時(shí)，基板S可通過(guò)支承板110旋轉(zhuǎn)。待涂布液晶的基板上形成的單元塊(Cell)的長(zhǎng)邊方向朝向第二方向II時(shí)，旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)構(gòu)件120可旋轉(zhuǎn)基板，使單元塊的長(zhǎng)邊方向朝向第一方向I。
[0049]支承板110和旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)構(gòu)件120可通過(guò)直線驅(qū)動(dòng)構(gòu)件130朝第一方向I進(jìn)行直線移動(dòng)。直線驅(qū)動(dòng)構(gòu)件130包括滑塊132和導(dǎo)向構(gòu)件134。旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)構(gòu)件120設(shè)置在滑塊132上表面。導(dǎo)向構(gòu)件134在基座B的上表面的中心部上朝第一方向I進(jìn)行較長(zhǎng)延伸?；瑝K132中可容納有直線型馬達(dá)(未圖示)，滑塊132通過(guò)直線型馬達(dá)隨著導(dǎo)向構(gòu)件134朝第一方向I進(jìn)行直線移動(dòng)。
[0050]噴嘴單元2000包括:支架200、支架移動(dòng)構(gòu)件300、噴嘴頭400、噴嘴頭移動(dòng)構(gòu)件500、處理液存儲(chǔ)部600以及控制器700。
[0051]支架200設(shè)在支承板110移動(dòng)的通道上方。支架200被配置為從基座B的上表面向上與基座B相分離。配置支架200使其長(zhǎng)邊方向朝向第二方向II。噴嘴頭400通過(guò)噴嘴頭移動(dòng)構(gòu)件500接合到支架200。噴嘴頭400通過(guò)噴嘴頭移動(dòng)構(gòu)件500朝支架的長(zhǎng)邊方向，即第二方向II進(jìn)行直線移動(dòng)，也可以朝第三方向III進(jìn)行直線移動(dòng)。
[0052]支架移動(dòng)構(gòu)件300可以將支架200朝第一方向I進(jìn)行直線移動(dòng)，或旋轉(zhuǎn)支架200使支架200的長(zhǎng)邊方向朝向與第一方向I傾斜的方向。通過(guò)支架200的旋轉(zhuǎn)，噴嘴頭400可朝向與第一方向I傾斜的方向整齊排列。
[0053]噴嘴頭400向基板S排出處理液的液滴。噴嘴頭400可以是多個(gè)。本實(shí)施例中舉了提供了三個(gè)噴嘴頭400a，400b，400c的例子來(lái)說(shuō)明，但不限于此。噴嘴頭400可以朝著第二方向II排成一列，并接合到支架200。
[0054]噴嘴頭400的底面設(shè)有排出液晶的液滴的多個(gè)噴嘴(未圖示)。比如，每個(gè)噴嘴頭可分別提供128個(gè)或是256個(gè)噴嘴。噴嘴(未圖示)可以以一定節(jié)距(Pitch)間隔地排成一列。
[0055]每個(gè)噴嘴頭400都可配有與噴嘴(未圖示)數(shù)量對(duì)應(yīng)的壓電元件，噴嘴的液滴排放量可通過(guò)控制施加到壓電元件的電壓進(jìn)行獨(dú)立地調(diào)節(jié)。
[0056]噴嘴頭移動(dòng)構(gòu)件500可以分別設(shè)置在噴嘴頭400上。在本實(shí)施例中，舉了三個(gè)噴嘴頭400a，400b, 400c的例子來(lái)說(shuō)明，所以噴嘴頭移動(dòng)構(gòu)件500也可以與噴嘴頭的數(shù)量對(duì)應(yīng)地提供三個(gè)。也可提供一個(gè)噴嘴頭移動(dòng)構(gòu)件500，這種情況下噴嘴頭400不是分別移動(dòng)而是作為一整體進(jìn)行移動(dòng)。頭部移動(dòng)構(gòu)件500可將噴嘴頭400朝著支架的長(zhǎng)邊方向，即第二方向II進(jìn)行直線移動(dòng)，或是朝第三方向III進(jìn)行直線移動(dòng)。
[0057]處理液存儲(chǔ)部600設(shè)在頭部移動(dòng)構(gòu)件500上，并存儲(chǔ)供給到噴嘴頭400的處理液。處理液存儲(chǔ)部600通過(guò)控制器700的控制將處理液供給到噴嘴頭400。處理液存儲(chǔ)部600為了向噴嘴頭400提供一定量的處理液，在內(nèi)部存儲(chǔ)并維持一定量的處理液。
[0058]控制器700設(shè)在噴嘴頭移動(dòng)構(gòu)件500上，并控制向噴嘴頭400供給處理液、壓力控制以及排放量控制等動(dòng)作。根據(jù)一個(gè)例子，通過(guò)調(diào)節(jié)噴嘴頭400a，400b，400c中的部分噴嘴411a, 411b, 411c的處理液排放量，從而能夠控制形成排向基板S的處理液的閾值(原文中是界限的意思，不知是否有更好的處理方法)。[0059]圖3是表示圖2所示排放量測(cè)量單元的一個(gè)實(shí)施例的圖。
[0060]參考圖3，液晶排放量測(cè)量單元800包括:回收盒810，機(jī)體820，通道830，真空施加構(gòu)件840，排水構(gòu)件850以及連接構(gòu)件890。液晶排放量測(cè)量單元800測(cè)量噴嘴頭400的各個(gè)噴嘴排出的液晶量。
[0061]如圖2所示，現(xiàn)有的液晶排放量測(cè)量單元位于基板處理裝置的基座B的一側(cè)，而噴嘴頭400與支架200 —起移動(dòng)，從而測(cè)量液晶排放量。
[0062]但是根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，液晶排放量測(cè)量單元800可直接連接到噴嘴頭單元400。因此還包括將液晶排放量測(cè)量單元800移動(dòng)到噴嘴頭單元400的移動(dòng)構(gòu)件(未圖示)。
[0063]回收盒810中存儲(chǔ)有用于測(cè)量排放量從噴嘴頭單元400噴出的處理液。回收盒810為具有內(nèi)部空間的形狀。在回收盒810的底表面連接有排水構(gòu)件850。排水構(gòu)件850將回收到回收盒810內(nèi)部的處理液排到外部。排水構(gòu)件850包括排水罐851和排水管852。
[0064]機(jī)體820位于回收盒810的上方。機(jī)體820設(shè)置為其底表面和回收盒810的上表面接觸。機(jī)體820的截面積可以比回收盒810的截面積小。此時(shí)，從上方看，機(jī)體820與回收盒810可以重疊。機(jī)體820的內(nèi)部包括多個(gè)通道830a至830e以及多個(gè)測(cè)量?jī)x835，837。
[0065]通道830設(shè)置在機(jī)體820內(nèi)。從機(jī)體上表面延伸至底面形成通道830，通道830與存儲(chǔ)空間相通。通道830提供了從噴嘴頭單元400排出的處理液通過(guò)通道830流經(jīng)機(jī)體內(nèi)部移動(dòng)到回收盒810的通道。通道830與噴嘴頭單元400的噴嘴頭410a至410e的數(shù)量可以一致。因此包括通道830的機(jī)體820的截面積可以比噴嘴頭400的截面積大。
[0066]排放量測(cè)量?jī)x835，837設(shè)置在機(jī)體820內(nèi)。排放量測(cè)量?jī)x835，837包括第一排放量測(cè)量?jī)x835和第二排放量測(cè)量?jī)x837。
[0067]第一排放量測(cè)量?jī)x835位于機(jī)體820內(nèi)部,并朝著與通道830垂直方向延長(zhǎng),可測(cè)量通過(guò)多個(gè)通道830a至830e內(nèi)部的流體。第二排放量測(cè)量?jī)x837位于第一排放量測(cè)量?jī)x835下表面，并與第一排放量測(cè)量?jī)x835平行，從而能夠測(cè)量通過(guò)多個(gè)上述通道830a至830e內(nèi)部的流體。
[0068]多個(gè)通道830a至830e分別配置有排放量測(cè)量?jī)x835，837。噴嘴頭單元400的各噴嘴410a至410e分別設(shè)置有多個(gè)通道830a至830e，因此可以精確地測(cè)量各個(gè)噴嘴410a至410e排出的單液滴的排放量。
[0069]在一個(gè)例子中，排放量測(cè)量?jī)x835，837與多個(gè)通道830均處于連接狀態(tài)。上部排放量測(cè)量傳感器(sensor) 835設(shè)置在每個(gè)通道的相同的位置，因此在機(jī)體820內(nèi)部每個(gè)通道的第一排放量測(cè)量?jī)x835均設(shè)置為連接狀態(tài)。另外，第二排放量測(cè)量?jī)x837也設(shè)置在每個(gè)通道的相同的位置，因此在機(jī)體820內(nèi)部每個(gè)第二排放量測(cè)量?jī)x837均可設(shè)置為連接狀態(tài)。由此可在多個(gè)通道中同時(shí)測(cè)量液晶排放量。另外，每個(gè)通道830都設(shè)有傳感器，所以可連續(xù)測(cè)量排放量。
[0070]真空施加構(gòu)件840連接在回收盒810上。在一個(gè)例子中，真空施加構(gòu)件840可連接到回收盒810的上表面。真空施加構(gòu)件840包括連接罐841、供壓管842以及真空提供構(gòu)件843。連接罐841位于回收盒810的上表面。連接罐841與供壓管842相連。供壓管842連接回收盒810和真空提供構(gòu)件843。真空提供構(gòu)件843提供可使回收盒810內(nèi)部變?yōu)檎婵諣顟B(tài)的壓力。在真空提供構(gòu)件843中產(chǎn)生的壓力通過(guò)供壓管842注入到回收盒810。當(dāng)回收盒810內(nèi)部變成真空狀態(tài)時(shí)，通過(guò)通道830回收的處理液從通道830上方移動(dòng)到下方，因此能夠容易地測(cè)量排放量。可選地，也可以不設(shè)置真空施加構(gòu)件840。
[0071]連接構(gòu)件890連接排放量測(cè)量單元800和噴嘴頭400。在一個(gè)例子中，連接構(gòu)件890可設(shè)在機(jī)體上端。連接構(gòu)件890連接機(jī)體820和噴嘴頭400。
[0072]雖未圖示,但液晶排放量測(cè)量單元800還可包括移動(dòng)構(gòu)件。本發(fā)明實(shí)施例的液晶排放量測(cè)量單元800與噴嘴頭400接合，從而測(cè)量液晶排放量，所以還可以包括將液晶排放量測(cè)量單元移動(dòng)到噴嘴頭400的移動(dòng)構(gòu)件。可選地，也可以不設(shè)置移動(dòng)構(gòu)件。
[0073]噴嘴檢測(cè)單元900通過(guò)光學(xué)檢測(cè)確認(rèn)設(shè)置在噴嘴頭400a，400b, 400c上的噴嘴有沒(méi)有異常。在液晶排放量測(cè)量?jī)x800中確認(rèn)整體上噴嘴是否存在異常，如果判斷是不特定的噴嘴有異常，那么噴嘴檢測(cè)單元900可在確認(rèn)個(gè)別噴嘴是否存在異常的同時(shí)，對(duì)噴嘴進(jìn)行全面檢測(cè)。
[0074]噴嘴檢測(cè)單元900可配置在基座B上的基板支承構(gòu)件100的一側(cè)。噴嘴頭400a，400b，400c通過(guò)支架移動(dòng)構(gòu)件300和噴嘴頭移動(dòng)構(gòu)件500朝第一方向I和第二方向II移動(dòng)，并位于噴嘴檢測(cè)單元900的上方。噴嘴頭移動(dòng)構(gòu)件500將噴嘴頭400a，400b，400c朝第三方向III移動(dòng)，從而可實(shí)現(xiàn)調(diào)節(jié)噴嘴頭400a，400b，400c與噴嘴檢測(cè)單元900的上下方向距離。
[0075]噴嘴頭清洗單元1000配置在基座B上的基板支承構(gòu)件100的一側(cè)。在一個(gè)例子中，噴嘴頭清洗單元1000可與噴嘴檢測(cè)單元900朝第二方向II整齊的排列。噴嘴頭清洗單元1000清洗噴射了液體的噴嘴頭單元400。
[0076]下面說(shuō)明本發(fā)明實(shí)施例中利用基板處理裝置測(cè)量處理液排放量的方法。
[0077]圖4是利用圖2所示基板處理裝置測(cè)量處理液排放量的方法的流程圖。
[0078]參考圖4，測(cè)量處理液的排放量的方法包括:步驟S10，排出在噴嘴處測(cè)得的處理液；步驟S20，處理液進(jìn)入上述測(cè)量構(gòu)件的通道；步驟S30，測(cè)量通過(guò)通道的處理液；以及步驟S40，處理液被回收到測(cè)量構(gòu)件的回收盒。
[0079]圖5至圖9表示通過(guò)圖3所示排放量測(cè)量單元測(cè)量液晶排放量的過(guò)程。
[0080]參考圖5，液晶排放量測(cè)量單元800移動(dòng)到噴嘴頭400。通常，噴嘴頭移動(dòng)到液晶排放量測(cè)量單元800后，再測(cè)量排放量。但在本發(fā)明的實(shí)施例中液晶排放量測(cè)量單元800安裝在噴嘴頭400上，并且測(cè)量處理液的液晶排放量。
[0081]參考圖6，表示在噴嘴處測(cè)得的處理液被排出的步驟S10。液晶排放量測(cè)量單元800通過(guò)連接構(gòu)件890與噴嘴頭400連接。噴嘴頭400的每個(gè)噴嘴410a至410e均與液晶排放量測(cè)量單元800的通道830a至830e分別對(duì)應(yīng)。從每個(gè)噴嘴410a至410e排出的處理液的液晶70分別進(jìn)入對(duì)應(yīng)的通道830a至830e。進(jìn)入到通道830a至830e的液晶70通過(guò)在通道830a至830e下端提供的一定的真空壓向下方移動(dòng)。
[0082]參考圖7以及圖8，圖示了處理液進(jìn)入上述測(cè)量構(gòu)件的通道的步驟S20和測(cè)量通過(guò)通道的處理液的步驟S30。處理液的液晶70通過(guò)通道830內(nèi)部，同時(shí)依次流經(jīng)第一排放量測(cè)量?jī)x835和第二排放量測(cè)量?jī)x837。將第一排放量測(cè)量?jī)x835和第二排放量測(cè)量?jī)x837之間定義為第一領(lǐng)域，可測(cè)量經(jīng)過(guò)第一領(lǐng)域兩端的時(shí)間。通道830內(nèi)部的體積是一定的。所以通過(guò)測(cè)量通道830的內(nèi)部體積和液晶70經(jīng)過(guò)第一領(lǐng)域兩端的時(shí)間，可以測(cè)量處理液的單液晶70的體積。
[0083]一般液晶排放量測(cè)量單元通過(guò)測(cè)量大量的排出的處理液的質(zhì)量，計(jì)算其平均值。這一方法無(wú)法測(cè)量單液晶的體積，所以存在不能精確測(cè)量的問(wèn)題。另外還存在不能判斷各個(gè)噴嘴有無(wú)異常的問(wèn)題。
[0084]但是在本發(fā)明的實(shí)施例中，通過(guò)測(cè)量每個(gè)噴嘴41a至41e的處理液的單液晶70，可以精確地測(cè)量處理液的排放量。另外也可以連續(xù)的測(cè)量體積，可提高排放量測(cè)量的可靠性。
[0085]參考圖9，圖示了處理液回收到測(cè)量構(gòu)件的回收盒的步驟S40。液晶70通過(guò)第二排放量測(cè)量?jī)x837后，從通道830移動(dòng)到回收盒810。液晶70在回收盒中通過(guò)排水構(gòu)件850排到液晶排放量測(cè)量單元800的外部。
[0086]以上詳細(xì)的說(shuō)明中舉例說(shuō)明了本發(fā)明。并且前述的內(nèi)容說(shuō)明了本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施形態(tài)，本發(fā)明可應(yīng)用在各種不同的組合、變更以及環(huán)境中。即，可在本說(shuō)明書(shū)揭示的發(fā)明概念的范圍、陳述的揭示內(nèi)容和均等的范圍以及/或是本領(lǐng)域的技術(shù)或是知識(shí)范圍內(nèi)進(jìn)行變化或修改。陳述的實(shí)施例是為了體現(xiàn)本發(fā)明的技術(shù)性思想而說(shuō)明的最佳的形態(tài)，可在本發(fā)明的具體的應(yīng)用領(lǐng)域及用途中進(jìn)行各種需要的變化。因此，以上關(guān)于發(fā)明的詳細(xì)說(shuō)明并非要以揭示的實(shí)施形態(tài)限定本發(fā)明。另外附加的權(quán)利要求的范圍應(yīng)解釋為還包括不同的實(shí)施形態(tài)。
【權(quán)利要求】
1.一種基板處理裝置，包括: 基板支承構(gòu)件，用于支承基板； 噴嘴單元，包括噴嘴頭，在所述噴嘴頭設(shè)有向所述基板噴射處理液的多個(gè)噴嘴；以及 液晶排放量測(cè)量單元，具有測(cè)量從所述噴嘴排出的所述處理液的排放量的測(cè)量構(gòu)件， 所述液晶排放量測(cè)量單元包括: 回收盒，在其內(nèi)部具有收容排出的處理液的存儲(chǔ)空間； 機(jī)體，設(shè)在所述回收盒的上方，在所述機(jī)體的內(nèi)部形成有多個(gè)通道；以及 排放量測(cè)量?jī)x，其數(shù)量與所述各通道對(duì)應(yīng)，用于測(cè)量通過(guò)所述各通道的處理液的量， 所述各通道從所述機(jī)體上表面延伸至底面形成，所述通道與所述存儲(chǔ)空間相通。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理裝置， 所述液晶排放量測(cè)量單元還包括，對(duì)所述存儲(chǔ)空間施加真空的真空施加構(gòu)件。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理裝置， 所述排放量測(cè)量?jī)x包括: 第一排放量測(cè)量?jī)x，位于所述機(jī)體內(nèi)部，向與所述通道垂直的方向延伸，用于測(cè)量通過(guò)多個(gè)所述通道內(nèi)部的流體；以及 第二排放量測(cè)量?jī)x，位于所述第一排放量測(cè)量?jī)x下方，并與所述第一排放量測(cè)量?jī)x平行，用于測(cè)量通過(guò)多個(gè)所述通道內(nèi)部的流體。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理裝置， 所述通道與所述噴嘴的數(shù)量一致。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至4的任一項(xiàng)所述的基板處理裝置， 所述液晶排放量測(cè)量單元還包括， 移動(dòng)構(gòu)件，位于所述基板支承構(gòu)件的一側(cè)，并且將所述液晶排放量測(cè)量單元移動(dòng)到噴嘴單元。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理裝置， 所述液晶排放量測(cè)量單元還包括，可連接到所述噴嘴頭的連接構(gòu)件。
7.一種包括測(cè)量構(gòu)件的液晶排放量測(cè)量單元，所述測(cè)量構(gòu)件用于測(cè)量從噴嘴排出的處理液的排放量， 所述液晶排放量測(cè)量單元，包括: 回收盒，在其內(nèi)部具有收容排出的處理液的存儲(chǔ)空間； 機(jī)體，設(shè)在所述回收盒的上方，在所述機(jī)體的內(nèi)部形成有多個(gè)通道；以及 排放量測(cè)量?jī)x，其數(shù)量與所述各通道對(duì)應(yīng)，用于測(cè)量通過(guò)所述各通道的處理液的量， 所述各通道從所述機(jī)體上表面延伸至底面形成，所述通道與所述存儲(chǔ)空間相通。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的液晶排放量測(cè)量單元， 所述液晶排放量測(cè)量單元，還包括:向所述存儲(chǔ)空間施加真空的真空施加構(gòu)件。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的液晶排放量測(cè)量單元， 所述排放量測(cè)量?jī)x，包括: 第一排放量測(cè)量?jī)x，位于所述機(jī)體內(nèi)部，向與所述通道垂直的方向延伸，用于測(cè)量通過(guò)多個(gè)所述通道內(nèi)部的流體；以及 第二排放量測(cè)量?jī)x，位于所述第一排放量測(cè)量?jī)x下方，并與所述第一排放量測(cè)量?jī)x平行，用于測(cè)量通過(guò)多個(gè)所述通道內(nèi)部的流體。
10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的液晶排放量測(cè)量單元， 所述通道與所述噴嘴的數(shù)量一致。
11.根據(jù)權(quán)利要求7至10的任一項(xiàng)所述的液晶排放量測(cè)量單元， 所述液晶排放量測(cè)量單元，還包括:可連接到所述噴嘴頭的連接構(gòu)件。
12.—種在權(quán)利要求1的基板處理裝置中測(cè)量處理液排放量的方法，包括: 在所述噴嘴處測(cè)得的所述處理液進(jìn)行排出的步驟； 所述處理液進(jìn)入所述通道的步驟； 測(cè)量通過(guò)所述通道的所述處理液的步驟；以及 所述處理液回收到所述回收盒的步驟， 測(cè)量所述處理液的步驟是:測(cè)量通過(guò)所述通道的第一領(lǐng)域的兩端的時(shí)間，從而測(cè)得所述處理液的體積。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的測(cè)量處理液排放量的方法， 所述處理液進(jìn)入所述通道的步驟是:向所述通道的下方提供一定量的真空壓，從而使所述處理液在所述通道中移動(dòng)。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的測(cè)量處理液排放量的方法， 測(cè)量所述處理液的步驟是: 所述處理液通過(guò)多個(gè)所述噴嘴分別被排出，從所述各噴嘴排出的各處理液分別通過(guò)不同的通道，并測(cè)量所述處理液的體積。
【文檔編號(hào)】B05C11/10GK103676226SQ201310390586
【公開(kāi)日】2014年3月26日 申請(qǐng)日期:2013年8月30日 優(yōu)先權(quán)日:2012年8月31日
【發(fā)明者】樸鐵鎬 申請(qǐng)人:細(xì)美事有限公司