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      一種用于生產(chǎn)光學(xué)薄膜的供料系統(tǒng)的制作方法

      文檔序號(hào):3786810閱讀:154來源:國(guó)知局
      一種用于生產(chǎn)光學(xué)薄膜的供料系統(tǒng)的制作方法
      【專利摘要】一種用于生產(chǎn)光學(xué)薄膜的供料系統(tǒng),它包括儲(chǔ)料部分和供液部分,所述儲(chǔ)料部分包括進(jìn)料口、圓筒型攪拌容器、帶馬達(dá)的攪拌裝置、出料口、回流口,所述供液部分包括球閥、循環(huán)泵、過濾器、涂布槽,其中,在圓筒型攪拌容器的底部設(shè)有收集堰,收集堰的平面與水平面的夾角β為3~45°,收集堰的寬度為3~15mm,收集堰與圓筒型攪拌容器底部的垂直距離h為圓筒型攪拌容器底部封頭高度H的0.2~0.9倍。本發(fā)明避免了儲(chǔ)料部分的聚集粒子進(jìn)入供液部分,實(shí)現(xiàn)了長(zhǎng)周期的連續(xù)生產(chǎn),解決了光學(xué)膜存在的質(zhì)量弊病如拉絲、暗紋等,提高了產(chǎn)品質(zhì)量,可廣泛應(yīng)用于擴(kuò)散膜、增亮膜、反射膜和硬化膜等光學(xué)薄膜的生產(chǎn)中。
      【專利說明】一種用于生產(chǎn)光學(xué)薄膜的供料系統(tǒng)
      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001]本發(fā)明屬于精密涂布【技術(shù)領(lǐng)域】,特別涉及一種用于生產(chǎn)光學(xué)薄膜的供料系統(tǒng)。
      【背景技術(shù)】
      [0002]在液晶顯示領(lǐng)域中,為了得到能滿足要求的光學(xué)膜,如擴(kuò)散膜、增亮膜、反射膜和硬化膜等,需要在支持體的表面涂覆含有粒子的涂布液,在涂布生產(chǎn)過程中,需要通過供料系統(tǒng)將涂布液送到涂布槽進(jìn)行涂布生產(chǎn)。由于涂布液中含有各種粒子,為了保證粒子均勻地分散在涂布液中,通常在供料系統(tǒng)中采用光滑圓筒型慢速攪拌供料裝置或方形槽慢速攪拌供料裝置。
      [0003]在實(shí)際應(yīng)用中,這兩種方式均存在有以下不足,光滑圓筒型慢速攪拌供料裝置無法分離聚集粒子,需要經(jīng)常清洗涂布頭,造成涂布生產(chǎn)中斷,無法實(shí)現(xiàn)長(zhǎng)周期的連續(xù)生產(chǎn);方形槽攪拌供料裝置具有可分離部分聚集粒子優(yōu)點(diǎn),但又存在有死角、不易清洗、混合速度慢,粒子容易沉淀,容易造成涂布液配方組分的變化,使光學(xué)膜產(chǎn)生質(zhì)量弊病,如拉絲、暗紋等,降低產(chǎn)品質(zhì)量。

      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0004]本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)存在的不足之處,提供一種用于生產(chǎn)光學(xué)薄膜的供料系統(tǒng),它可以解決聚集粒子收集問題,實(shí)現(xiàn)長(zhǎng)周期連續(xù)生產(chǎn)。
      [0005]為解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明采用如下技術(shù)方案:
      一種用于生產(chǎn)光學(xué)薄膜的供料系統(tǒng),包括儲(chǔ)料部分和供液部分,所述儲(chǔ)料部分包括進(jìn)料口、圓筒型攪拌容器、帶馬達(dá)的攪拌裝置、出料口、回流口,所述供液部分包括球閥、循環(huán)泵、過濾器、涂布槽,其中,在圓筒型攪拌容器的底部設(shè)有收集堰,收集堰的平面與水平面的夾角β為3?45° ,收集堰的寬度為3?15mm,收集堰與圓筒型攪拌容器底部的垂直距離h為圓筒型攪拌容器底部封頭高度H的0.2?0.9倍。
      [0006]上述供料系統(tǒng),所述收集堰的平面與水平面的夾角β為5?15°,收集堰的寬度為 5 ?10mnin
      [0007]上述供料系統(tǒng),所述收集堰的平面至少設(shè)有一個(gè)弧形收集槽,弧形收集槽的半圓半徑R為I?4mm。
      [0008]上述供料系統(tǒng),所述弧形收集槽的半圓半徑R為I?2mm。
      [0009]上述供料系統(tǒng),所述圓筒型攪拌容器的側(cè)壁設(shè)有導(dǎo)流堰,導(dǎo)流堰與圓筒型攪拌容器的側(cè)壁垂線的夾角α為O?45°,導(dǎo)流堰的寬度為2?10mm,導(dǎo)流堰的數(shù)量為2?8個(gè)。
      [0010]上述供料系統(tǒng),所述導(dǎo)流堰與圓筒型攪拌容器的側(cè)壁垂線的夾角α為10?35°,導(dǎo)流堰的寬度為3?5mm,導(dǎo)流堰的數(shù)量為3?4個(gè)。
      [0011 ] 上述供料系統(tǒng),所述導(dǎo)流堰的表面粗糙度Ra小于0.01,收集堰的表面粗糙度Ra小于 0.01。
      [0012]本發(fā)明的有益效果為,利用粒子在攪拌中的離心原理,大粒徑聚集粒子在旋轉(zhuǎn)中,由于離心力的作用,更容易被分離到容器側(cè)壁,大粒徑聚集粒子沿圓筒壁運(yùn)動(dòng)后,落入收集堰中并將其收集。本發(fā)明由于在收集堰中至少設(shè)置了一個(gè)圓弧形收集槽,可以充分收集大粒徑聚集粒子,避免了聚集粒子進(jìn)入供液部分。設(shè)置多個(gè)圓弧形收集槽,還可以分級(jí)收集聚集粒子。本發(fā)明中導(dǎo)流堰的設(shè)置,能使聚集粒子沿著導(dǎo)流堰落入收集堰,進(jìn)一步減少進(jìn)入供液部分的聚集粒子,實(shí)現(xiàn)了長(zhǎng)周期的連續(xù)生產(chǎn),解決了光學(xué)膜存在的質(zhì)量弊病如拉絲、暗紋等,提聞了廣品質(zhì)量。
      【專利附圖】

      【附圖說明】
      [0013]圖1是本發(fā)明提供的供料系統(tǒng)示意圖;
      圖2是本發(fā)明儲(chǔ)料部分俯視圖;
      圖3是環(huán)形聚集粒子收集堰的局部放大圖。
      [0014]圖中各標(biāo)號(hào)清單為:進(jìn)料口 I ;圓筒型攪拌容器2 ;帶馬達(dá)的攪拌裝置3 ;出料口 4 ;回流口 5 ;球閥6 ;循環(huán)泵7 ;過濾器8 ;涂布槽9 ;收集堰10 ;導(dǎo)流堰11 ;導(dǎo)流堰與圓筒型攪拌容器側(cè)壁垂線的夾角α ;收集堰的平面與水平面的夾角β ;收集堰與圓筒型攪拌容器底部的垂直距離h ;圓筒型攪拌容器底部封頭高度H ;涂布輥12 ;基膜13。
      【具體實(shí)施方式】
      [0015]以下結(jié)合附圖及實(shí)施例對(duì)發(fā)明作進(jìn)一步闡述,但這些實(shí)施例僅用于說明本發(fā)明而不用于限制本發(fā)明的專利保護(hù)范圍。
      [0016]本發(fā)明提供的用于生產(chǎn)光學(xué)薄膜的供料系統(tǒng)包括儲(chǔ)料部分和供液部分,如附圖1所示,其中,儲(chǔ)料部分包括進(jìn)料口 1、圓筒型攪拌容器2、帶馬達(dá)的攪拌裝置3、出料口 4、回流口 5,在圓筒型攪拌容器2的底部設(shè)有收集堰10,圓筒型攪拌容器2的側(cè)壁設(shè)有導(dǎo)流堰11,進(jìn)料口 I與配液供料相連接,導(dǎo)流堰11和收集堰10與圓筒型攪拌容器2采用焊接后打磨拋光,帶馬達(dá)的攪拌裝置3安裝在一個(gè)可以升降的裝置上,它可以根據(jù)工藝條件調(diào)整攪拌槳葉的深度;供液部分包括球閥6、循環(huán)泵7、過濾器8、涂布槽9,出料口 4通過出料管與循環(huán)泵7、過濾器8相連接,將涂料供至涂布槽9,涂布槽9中溢出的涂料通過回流管連接到回流口 5,返回圓筒型攪拌容器2中,涂布槽9中的涂布液通過涂布輥12不斷將涂料涂敷在基膜13表面,從而實(shí)現(xiàn)了一個(gè)循環(huán)。
      [0017]本發(fā)明中,設(shè)置在圓筒型攪拌容器2底部的收集堰10的平面與水平面的夾角β為3?45°,優(yōu)選5?15°,收集堰10的寬度為3?15mm,優(yōu)選5?10mm,收集堰10與圓筒型攪拌容器2底部的垂直距離h控制在圓筒型攪拌容器2底部封頭高度H的0.2?0.9倍,收集堰10的平面至少設(shè)有一個(gè)弧形收集槽,弧形收集槽的半圓半徑R為I?4mm,優(yōu)選I?2_ ;設(shè)置在圓筒型攪拌容器2的側(cè)壁的導(dǎo)流堰11與圓筒型攪拌容器2的側(cè)壁垂線的夾角α為O?45°優(yōu)選10?35°,導(dǎo)流堰的寬度為2?10mm,優(yōu)選3?5mm,導(dǎo)流堰的數(shù)量為2?8個(gè),優(yōu)選3?4個(gè)。
      [0018]本發(fā)明中,收集堰10和導(dǎo)流堰11的表面粗糙度Ra均小于0.01。
      [0019]本發(fā)明中,循環(huán)泵可以選自市售的螺桿泵、齒輪泵、蠕動(dòng)泵或氣動(dòng)泵;帶馬達(dá)的攪拌裝置3上的攪拌槳可以選自漿式、旋漿式、渦輪式或錨式攪拌槳,馬達(dá)可以是正反旋轉(zhuǎn)的可以調(diào)速防爆馬達(dá)或氣動(dòng)馬達(dá)。[0020]實(shí)施例1:
      如附圖1所示,其中,儲(chǔ)料部分包括進(jìn)料口 1、圓筒型攪拌容器2、帶馬達(dá)的攪拌裝置3、出料口 4、回流口 5,在圓筒型攪拌容器2的底部設(shè)有收集堰10,進(jìn)料口 I與配液供料相連接,收集堰10與圓筒型攪拌容器2采用焊接后打磨拋光,帶馬達(dá)的攪拌裝置3安裝在一個(gè)可以升降的裝置上,它可以根據(jù)工藝條件調(diào)整攪拌槳葉的深度;供液部分包括球閥6、循環(huán)泵7、過濾器8、涂布槽9,出料口 4通過出料管與循環(huán)泵7、過濾器8相連接,將涂料供至涂布槽9,涂布槽9中溢出的涂料通過回流管連接到回流口 5,返回圓筒型攪拌容器2中,涂布槽9中的涂布液通過涂布輥12不斷將涂料涂敷在基膜13表面,從而實(shí)現(xiàn)了一個(gè)循環(huán)。
      [0021]圓筒型攪拌容器2底部的收集堰10的平面與水平面的夾角β為3°,收集堰10的寬度為3mm,收集堰10與圓筒型攪拌容器2底部的垂直距離h控制在圓筒型攪拌容器2底部封頭高度H的0.2倍,收集堰10的平面設(shè)有2個(gè)弧形收集槽,弧形收集槽的半圓半徑R 為 Imnin
      [0022]連續(xù)運(yùn)行4個(gè)小時(shí)后,停止供料裝置,排空?qǐng)A筒型攪拌容器2的物料,檢查環(huán)形聚集粒子收集堰10,發(fā)現(xiàn)有白色物料聚集。
      [0023]實(shí)施例2
      如附圖1所示,其中,儲(chǔ)料部分包括進(jìn)料口 1、圓筒型攪拌容器2、帶馬達(dá)的攪拌裝置3、出料口 4、回流口 5,在圓筒型攪拌容器2的底部設(shè)有收集堰10,圓筒型攪拌容器2的側(cè)壁設(shè)有導(dǎo)流堰11,進(jìn)料口 I與配液供料相連接,導(dǎo)流堰11和收集堰10與圓筒型攪拌容器2采用焊接后打磨拋光,帶馬達(dá)的攪拌裝置3安裝在一個(gè)可以升降的裝置上,它可以根據(jù)工藝條件調(diào)整攪拌槳葉的深度;供液部分包括球閥6、循環(huán)泵7、過濾器8、涂布槽9,出料口 4通過出料管與循環(huán)泵7、過濾器8相連接,將涂料供至涂布槽9,涂布槽9中溢出的涂料通過回流管連接到回流口 5,返回圓筒型攪拌容器2中,涂布槽9中的涂布液通過涂布輥12不斷將涂料涂敷在基膜13表面,從而實(shí)現(xiàn)了一個(gè)循環(huán)。
      [0024]圓筒型攪拌容器2底部的收集堰10的平面與水平面的夾角β為5°,收集堰10的寬度為5mm,收集堰10與圓筒型攪拌容器2底部的垂直距離h控制在圓筒型攪拌容器2底部封頭高度H的0.5倍,收集堰10的平面設(shè)有2個(gè)弧形收集槽,弧形收集槽的半圓半徑R為2_ ;設(shè)置在圓筒型攪拌容器2的側(cè)壁的導(dǎo)流堰11與圓筒型攪拌容器2的側(cè)壁垂線的夾角α為10°,導(dǎo)流堰的寬度為3mm,導(dǎo)流堰的數(shù)量為8個(gè)。
      [0025]連續(xù)運(yùn)行4個(gè)小時(shí)后,停止供料裝置,排空?qǐng)A筒型攪拌容器2的物料,檢查聚集粒子導(dǎo)流堰11和環(huán)形聚集粒子收集堰10,發(fā)現(xiàn)有白色物料聚集。
      [0026]實(shí)施例3
      同實(shí)施例2,不同之處在于,圓筒型攪拌容器2底部的收集堰10的平面與水平面的夾角β為10°,收集堰10的寬度為8mm,收集堰10與圓筒型攪拌容器2底部的垂直距離h控制在圓筒型攪拌容器2底部封頭高度H的0.4倍,收集堰10的平面設(shè)有2個(gè)弧形收集槽,弧形收集槽的半圓半徑R為3_ ;設(shè)置在圓筒型攪拌容器2的側(cè)壁的導(dǎo)流堰11與圓筒型攪拌容器2的側(cè)壁垂線的夾角α為30°,導(dǎo)流堰的寬度為5mm,導(dǎo)流堰的數(shù)量為4個(gè)。
      [0027]實(shí)施例4
      同實(shí)施例2,不同之處在于,圓筒型攪拌容器2底部的收集堰10的平面與水平面的夾角β為15°,收集堰10的寬度為10mm,收集堰10與圓筒型攪拌容器2底部的垂直距離h控制在圓筒型攪拌容器2底部封頭高度H的0.7倍,收集堰10的平面設(shè)有I個(gè)弧形收集槽,弧形收集槽的半圓半徑R為4_,設(shè)置在圓筒型攪拌容器2的側(cè)壁的導(dǎo)流堰11與圓筒型攪拌容器2的側(cè)壁垂線的夾角35°,導(dǎo)流堰的寬度為7_,導(dǎo)流堰的數(shù)量為5個(gè)。
      [0028]連續(xù)運(yùn)行4個(gè)小時(shí)后,停止供料裝置,排空?qǐng)A筒型攪拌容器2的物料,檢查聚集粒子導(dǎo)流堰11和環(huán)形聚集粒子收集堰10,發(fā)現(xiàn)有白色物料聚集。
      [0029]實(shí)施例5
      同實(shí)施例2,不同之處在于,圓筒型攪拌容器2底部的收集堰10的平面與水平面的夾角β為45°,收集堰10的寬度為15mm,收集堰10與圓筒型攪拌容器2底部的垂直距離h控制在圓筒型攪拌容器2底部封頭高度H的0.9倍,收集堰10的平面設(shè)有3個(gè)弧形收集槽,弧形收集槽的半圓半徑R為4_,設(shè)置在圓筒型攪拌容器2的側(cè)壁的導(dǎo)流堰11與圓筒型攪拌容器2的側(cè)壁垂線的夾角α為45° °,導(dǎo)流堰的寬度為10_,導(dǎo)流堰的數(shù)量為3個(gè)。
      [0030]連續(xù)運(yùn)行4個(gè)小時(shí)后,停止供料裝置,排空?qǐng)A筒型攪拌容器2的物料,檢查聚集粒子導(dǎo)流堰11和環(huán)形聚集粒子收集堰10,發(fā)現(xiàn)有白色物料聚集。
      【權(quán)利要求】
      1.一種用于生產(chǎn)光學(xué)薄膜的供料系統(tǒng),包括儲(chǔ)料部分和供液部分,所述儲(chǔ)料部分包括進(jìn)料口(I)、圓筒型攪拌容器(2)、帶馬達(dá)的攪拌裝置(3)、出料口(4)、回流口(5),所述供液部分包括球閥(6)、循環(huán)泵(7)、過濾器(8)、涂布槽(9),其特征在于,在圓筒型攪拌容器(2)的底部設(shè)有收集堰(10),收集堰(10)的平面與水平面的夾角β為3?45°,收集堰(10)的寬度為3?15_,收集堰(10)與圓筒型攪拌容器(2)底部的垂直距離h為圓筒型攪拌容器(2)底部封頭高度H的0.2?0.9倍。
      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的供料系統(tǒng),其特征在于,所述收集堰(10)的平面與水平面的夾角β為5?15°,收集堰10的寬度為5?10mm。
      3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的供料系統(tǒng),其特征在于,所述收集堰(10)的平面至少設(shè)有一個(gè)弧形收集槽,弧形收集槽的半圓半徑R為I?4_。
      4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的供料系統(tǒng),其特征在于,所述弧形收集槽的半圓半徑R為I?2mm ο
      5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的供料系統(tǒng),其特征在于,在圓筒型攪拌容器(2)的側(cè)壁還設(shè)有導(dǎo)流堰(11),導(dǎo)流堰(11)與圓筒型攪拌容器(2)的側(cè)壁垂線的夾角α為O?45°,導(dǎo)流堰的寬度為2?10mm,導(dǎo)流堰的數(shù)量為2?8個(gè)。
      6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的供料系統(tǒng),其特征在于,所述導(dǎo)流堰(11)與圓筒型攪拌容器(2)的側(cè)壁垂線的夾角α為10?35°,導(dǎo)流堰的寬度為3?5mm,導(dǎo)流堰的數(shù)量為3?4個(gè)。
      7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的供料系統(tǒng),其特征在于,所述導(dǎo)流堰(11)的表面粗糙度Ra小于0.01,收集堰(10)的表面粗糙度Ra小于0.01。
      【文檔編號(hào)】B05C11/11GK103480542SQ201310457440
      【公開日】2014年1月1日 申請(qǐng)日期:2013年9月30日 優(yōu)先權(quán)日:2013年9月30日
      【發(fā)明者】常國(guó)嶺 申請(qǐng)人:昆山樂凱錦富光電科技有限公司
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