一種涂布機噴嘴清潔裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種涂布機噴嘴清潔裝置。所述涂布機噴嘴清潔裝置包括清潔器、去膠溶劑供應裝置、排液裝置，所述清潔器具有與噴嘴匹配的凹槽，所述凹槽的側壁上設置有去膠溶劑供應孔，所述去膠溶劑供應裝置與所述去膠溶劑供應孔連接以供應去膠溶劑至所述凹槽內，所述凹槽的底壁上設置有排液孔，所述排液裝置與所述排液孔連接。通過去膠溶劑溶解殘留在噴嘴上的光刻膠，并經(jīng)排液孔將其排出，順暢地清除殘留在噴嘴上的光刻膠。
【專利說明】一種涂布機噴嘴清潔裝置
【技術領域】
[0001]本發(fā)明屬于液晶顯示器制造的線性涂膠【技術領域】，特別涉及一種涂布機噴嘴清潔裝置。
【背景技術】
[0002]目前，在顯示面板的生產(chǎn)過程的光刻膠涂膠工藝中，普遍使用線性光刻膠涂布機(狹縫涂布機)。光阻涂布過程中普遍存在凝膠問題。即光阻涂布完成后，部分光刻膠殘留在噴嘴尖端和周圍。當噴嘴尖端處于不清潔狀態(tài)下進行涂布會形成缺陷，并嚴重影響產(chǎn)品良率。一般在進行每片玻璃的光刻膠涂布前，會使用橡膠作為噴嘴的清潔材料。但是由于橡膠的吸水性差，以橡膠清潔噴嘴無法將多余的光刻膠清除。

【發(fā)明內容】

[0003]本發(fā)明的目的在于，提供一種涂布機噴嘴清潔裝置，其可以清除殘留在噴嘴上的光刻膠。
[0004]本發(fā)明通過如下技術方案實現(xiàn):一種涂布機噴嘴清潔裝置，其中，所述涂布機噴嘴清潔裝置包括清潔器、去膠溶劑供應裝置、排液裝置，所述清潔器具有與噴嘴匹配的凹槽，所述凹槽的側壁上設置有去膠 溶劑供應孔，所述去膠溶劑供應裝置與所述去膠溶劑供應孔連接以供應去膠溶劑至所述凹槽內，所述凹槽的底壁上設置有排液孔，所述排液裝置與所述排液孔連接。
[0005]作為上述技術方案的進一步改進，所述凹槽的兩個側壁上均設置有多個所述去膠溶劑供應孔。
[0006]作為上述技術方案的進一步改進，所述凹槽的兩個相對的側壁上分別設置有至少一排去膠溶劑供應孔和至少一排去膠溶劑供應孔，所述至少一排去膠溶劑供應孔和所述至少一排去膠溶劑供應孔沿所述清潔器的長度方向排列。
[0007]作為上述技術方案的進一步改進，所述排液孔與噴嘴的光刻膠噴出孔在豎直方向
上不重疊。
[0008]作為上述技術方案的進一步改進，所述凹槽的底壁上設置有一排或兩排所述排液孔。
[0009]作為上述技術方案的進一步改進，所述清潔器的凹槽與噴嘴之間具有匹配間隙。
[0010]作為上述技術方案的進一步改進，所述去膠溶劑供應孔沿所述清潔器的長度方向設置有一排或兩排。
[0011]作為上述技術方案的進一步改進，所述清潔器的長度與所述噴嘴的長度相等。
[0012]作為上述技術方案的進一步改進，所述清潔器為橡膠清潔器。
[0013]作為上述技術方案的進一步改進，所述去膠溶劑供應裝置包括容納去膠溶劑的壓力罐，所述壓力罐經(jīng)管道與所述去膠溶劑供應孔連接，所述排液裝置包括真空泵，所述真空泵經(jīng)管道與所述排液孔連接，所述排液裝置還包括廢液罐，所述真空泵與所述廢液罐連接。[0014]本發(fā)明的有益效果是:所述涂布機噴嘴清潔裝置包括清潔器、去膠溶劑供應裝置、排液裝置，所述清潔器具有與噴嘴匹配的凹槽，所述凹槽的側壁上設置有去膠溶劑供應孔，所述凹槽的底壁上設置有排液孔，通過去膠溶劑溶解殘留在噴嘴上的光刻膠，并經(jīng)排液孔將其排出，順暢地清除殘留在噴嘴上的光刻膠。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0015]圖1是根據(jù)本發(fā)明的一個具體實施例的涂布機噴嘴清潔裝置的示意圖；
[0016]圖2是圖1的涂布機噴嘴清潔裝置的清潔器與噴嘴配合狀態(tài)的透視示意圖；
[0017]圖3是圖1的涂布機噴嘴清潔裝置的清潔器與噴嘴配合狀態(tài)的透視立體示意圖；
[0018]圖4是圖1的涂布機噴嘴清潔裝置的清潔器的仰視示意圖；
[0019]圖5是根據(jù)本發(fā)明的另一個具體實施例的涂布機噴嘴清潔裝置的示意圖；
[0020]圖6是根據(jù)本發(fā)明的再一個具體實施例的涂布機噴嘴清潔裝置的清潔器與噴嘴配合狀態(tài)的透視立體示意圖；
[0021]圖7是根據(jù)本發(fā)明的又一個具體實施例的涂布機噴嘴清潔裝置的仰視示意圖?！揪唧w實施方式】
[0022]以下結合附圖對本發(fā)明的【具體實施方式】進行進一步的說明。
[0023]如圖1至圖4所示，本發(fā)明的涂布機噴嘴清潔裝置在清潔器的兩側內壁上設置去膠溶劑供應孔202、去膠溶劑供應孔204，在底壁上設置一排排液孔206。但本發(fā)明不限于此，例如在圖7所示的實施例中，在底壁上設置兩排排液孔206。如圖2所示，所述清潔器200的凹槽210與噴嘴100之間具有匹配間隙600，該匹配間隙600可用作清洗空間和去膠溶劑的流通路徑，將去膠溶劑供應孔202、去膠溶劑供應孔204與排液孔206連通。當完成玻璃涂布而回到原點清潔時，將該橡膠清潔器升起，與整個噴嘴兩側和底部平行貼合，其間留少量縫隙(即匹配間隙600)。通過高壓管道將去膠溶劑供應孔204與容納去膠溶劑的壓力罐302連接，將去膠溶劑高壓噴射到噴嘴100的兩側，殘留的光刻膠在高壓的去膠溶劑下沖洗溶解。而排液孔206與真空泵504連接，通過真空泵504將去膠溶劑及溶解的光刻膠迅速排出。
[0024]另外，本發(fā)明的涂布機噴嘴清潔裝置的清潔器長度制作成和噴嘴一樣長(即和玻璃的短邊一樣長)。由于不需要行走玻璃的短邊這樣長的距離，所以當噴嘴回到原點后，清潔器直接升起，可以在很短的時間內(例如I秒內)完成清潔，能夠縮短噴嘴清潔的時間。
[0025]本發(fā)明的涂布機噴嘴清潔裝置可以減少由涂布過程中產(chǎn)生的凝膠問題造成的缺陷，提高玻璃基板的品質，減少清潔噴嘴的時間，提高整個涂布的單件工時。
[0026]在圖5所示的實施例中，所述涂布機噴嘴清潔裝置包括清潔器200、去膠溶劑供應裝置300、排液裝置500。所述清潔器200具有與噴嘴100匹配的凹槽210。清潔時，噴嘴100的端部容納在凹槽210內。所述凹槽210的側壁上設置有去膠溶劑供應孔202。所述去膠溶劑供應裝置300與所述去膠溶劑供應孔202連接以供應去膠溶劑至所述凹槽210內。所述凹槽210的底壁上設置有排液孔206。所述排液裝置500與所述排液孔206連接。上述的去膠溶劑例如為溶劑油和橙油。上述的去膠溶劑也可以為酒精。
[0027]在圖1所示的實施例中，所述凹槽210的兩個側壁上均設置有多個去膠溶劑供應孔。如圖2至圖4所示，所述凹槽210的一個側壁設置有一排去膠溶劑供應孔202，另一側壁設置有一排去膠溶劑供應孔204。如圖6所示，在一個實施例中，所述去膠溶劑供應孔204沿所述清潔器200的長度方向設置有兩排。
[0028]如圖2所示，所述排液孔206與噴嘴100的光刻膠噴出孔102在豎直方向上不重疊(不在一條直線上)。由此，能夠良好地溶解噴嘴100的光刻膠噴出孔端部的光刻膠。
[0029]其中，優(yōu)選的是，所述清潔器200的長度與所述噴嘴100的長度相等，由此可以縮短清潔時間。所述清潔器200可以為橡膠清潔器。
[0030]如圖1所示，所述去膠溶劑供應裝置300包括容納去膠溶劑的壓力罐302，所述壓力罐302經(jīng)管道與所述去膠溶劑供應孔202連接。所述壓力罐302與所述去膠溶劑供應孔202之間設置有閥門304。所述排液裝置500包括真空泵504。所述真空泵504經(jīng)管道與所述排液孔206連接。所述真空泵504與所述排液孔206之間設置有閥門502。所述排液裝置500還包括廢液罐506，所述真空泵504與所述廢液罐506連接。由此，可以迅速地將溶解了光刻膠的去膠溶劑排出至廢液罐506。另外，所述去膠溶劑供應裝置400包括容納去膠溶劑的壓力罐402，所述壓力罐402經(jīng)管道與所述去膠溶劑供應孔204連接。所述壓力罐402與所述去膠溶劑供應孔204之間設置有閥門404。與圖1所示實施例相比較，在圖5所示的實施例中沒有設置去膠溶劑供應裝置400。所述去膠溶劑供應裝置300與所述去膠溶劑供應裝置400結構相同。
[0031]本發(fā)明的涂布機噴嘴清潔裝置包括清潔器、去膠溶劑供應裝置、排液裝置，所述清潔器具有與噴嘴匹配的凹槽，所述凹槽的側壁上設置有去膠溶劑供應孔，所述凹槽的底壁上設置有排液孔，通過去膠溶劑溶解殘留在噴嘴上的光刻膠，并經(jīng)匹配間隙和排液孔將其排出，順暢地清除殘留在噴嘴上的光刻膠。本發(fā)明的涂布機噴嘴清潔裝置中，在清潔器內增設去膠溶劑供應孔和排液孔。在清潔時，使用真空泵抽取，能夠有效清除光刻膠在噴嘴的殘留，減少由涂布過程中產(chǎn)生的凝膠問題造成的缺陷，提高基板品質。另外，將清潔器設計為與噴嘴一樣長，能夠減少清潔噴嘴的時間，減少涂布的單件工時。
[0032]以上【具體實施方式】對本發(fā)明進行了詳細的說明，但這些并非構成對本發(fā)明的限制。本發(fā)明的保護范圍并不以上述實施方式為限，但凡本領域普通技術人員根據(jù)本發(fā)明所揭示內容所作的等效修飾或變化，皆應納入權利要求書中記載的保護范圍內。
【權利要求】
1.一種涂布機噴嘴清潔裝置，其特征在于，所述涂布機噴嘴清潔裝置包括清潔器(200),去膠溶劑供應裝置(300)、排液裝置(500)，所述清潔器(200)具有與噴嘴(100)匹配的凹槽(210)，所述凹槽(210)的側壁上設置有去膠溶劑供應孔(202)，所述去膠溶劑供應裝置(300 )與所述去膠溶劑供應孔(202 )連接以供應去膠溶劑至所述凹槽(210 )內，所述凹槽(210)的底壁上設置有排液孔(206)，所述排液裝置(500)與所述排液孔(206)連接。
2.根據(jù)權利要求1所述的涂布機噴嘴清潔裝置，其特征在于，所述凹槽(210)的兩個側壁上均設置有多個所述去膠溶劑供應孔。
3.根據(jù)權利要求1所述的涂布機噴嘴清潔裝置，其特征在于，所述凹槽(210)的兩個相對的側壁上分別設置有至少一排去膠溶劑供應孔(202)和至少一排去膠溶劑供應孔(204)，所述至少一排去膠溶劑供應孔(202)和所述至少一排去膠溶劑供應孔(204)沿所述清潔器(200)的長度方向排列。
4.根據(jù)權利要求1所述的涂布機噴嘴清潔裝置，其特征在于，所述排液孔(206)與噴嘴(100)的光刻膠噴出孔在豎直方向上不重疊。
5.根據(jù)權利要求1所述的涂布機噴嘴清潔裝置，其特征在于，所述凹槽(210)的底壁上設置有一排或兩排所述排液孔(206 )。
6.根據(jù)權利要求1所述的涂布機噴嘴清潔裝置，其特征在于，所述清潔器(200)的凹槽(210)與噴嘴(100)之間具有匹配間隙(600)。
7.根據(jù)權利要求1所述的涂布機噴嘴清潔裝置，其特征在于，所述去膠溶劑供應孔(202)沿所述清潔器(200)的長度方向設置有一排或兩排。
8.根據(jù)權利要求1所述的涂布機噴嘴清潔裝置，其特征在于，所述清潔器(200)的長度與所述噴嘴(100)的長度相等。
9.根據(jù)權利要求1所述的涂布機噴嘴清潔裝置，其特征在于，所述清潔器(200)為橡膠清潔器。
10.根據(jù)權利要求1所述的涂布機噴嘴清潔裝置，其特征在于，所述去膠溶劑供應裝置(300 )包括容納去膠溶劑的壓力罐(302 )，所述壓力罐(302 )經(jīng)管道與所述去膠溶劑供應孔(202)連接，所述排液裝置(500)包括真空泵(504)，所述真空泵(504)經(jīng)管道與所述排液孔(206)連接，所述排液裝置(500)還包括廢液罐(506)，所述真空泵(504)與所述廢液罐(506)連接。
【文檔編號】B05B15/02GK103846183SQ201310719683
【公開日】2014年6月11日 申請日期:2013年12月20日 優(yōu)先權日:2013年12月20日
【發(fā)明者】張岳妍 申請人:深圳市華星光電技術有限公司