無噴濺噴頭的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種用于噴射器的噴頭，其包括接收流體供應(yīng)的主體部分和與所述主體部分流體連通的頭部分。所述噴頭的所述頭部分包括外表面，所述外表面包括用于指導(dǎo)來自所述噴頭的高速流體流的多個噴射噴嘴和被布置為同中心地圍繞著所述噴射噴嘴并且指導(dǎo)大致圍繞著所述高速流體流的較低速水幕的外環(huán)的多個噴射孔。所述較低速水幕減少了可能由所述噴射噴嘴指導(dǎo)的高速噴射引起的噴濺。
【專利說明】無噴濺噴頭
[0001]相關(guān)專利申請的交叉引用
[0002]本申請要求2013年3月14日提交的美國臨時申請?zhí)?1/785，107的優(yōu)先權(quán)，所述臨時申請以引用的方式整體并入本文。
[0003]背景
[0004]本公開大體上涉及噴射器領(lǐng)域。例如，噴射器可以用于廚房水龍頭作為水龍頭噴口的可伸展特征或作為側(cè)向噴射件。在其它應(yīng)用中，噴射器可用作花園澆水軟管的連接件或用作壓力清洗機的部件。常規(guī)噴射器通常流體連接至具有入口水壓的水源。水噴射器還通常包括控制通過所述噴射器的分配端的水流的閥門。噴射器的分配端通常包括噴頭，并且所述噴頭的配置通常決定分配的水(即噴射的水)的不同方面。例如，噴頭的配置可以決定噴射的一般形狀(即噴射的幾何形狀為狹窄的、平直的還是圓錐形的等)。一些噴頭可包括噴嘴，并且所述噴嘴的尺寸、形狀和位置可決定所噴射水的方向和速度。
[0005]通常，噴射器可被配置用來增加所述噴射器分配端的水壓，由此增加所分配的水的速度。這種類型的噴射器可適用于例如洗滌餐具。提供高速噴射的噴射器對于使用者而言是難以控制的。因此，從噴射器分配的水可能偏離清潔表面如餐具，并且浸濕、噴濺或噴射周圍的物體如工作臺或使用噴射器的人。因此，使用噴射器洗滌物體可能具有很多意外且不需要的結(jié)果。因此，存在對可以產(chǎn)生不偏離預(yù)定清潔表面的高速噴射的噴射器的需要。
[0006]此外，對節(jié)約水的需要因世界不同區(qū)域內(nèi)的水供應(yīng)短缺而增加。為了增加水節(jié)約，不同聯(lián)邦法律和法規(guī)可能限制廚房和浴室中的耗水量。例如，1992年的聯(lián)邦能源政策法案(Federal Energy Policy Act)通常將廚房中使用的水龍頭和噴頭的流速限制為2.2加侖/分鐘(gpm)。因此，存在對提供可以通過提供不偏離表面的高速水流來有效操作同時有效運轉(zhuǎn)以使得水能得到節(jié)約的噴射器的需要。
[0007]概述
[0008]本公開的示例性實施方案涉及一種用于噴射器的噴頭。所述噴頭包括接收流體供應(yīng)的主體部分和與所述主體部分流體連通的頭部分。頭部分包括外表面和被配置用來指導(dǎo)其中的聞速噴射并布置在其中心部分的多個噴射噴嘴。頭部分還包括于其中布置為外環(huán)的多個噴射孔。所述噴射孔圍繞著噴射噴嘴，并且所述噴射孔被配置用來在與主體部分的縱軸大體平行的方向上指導(dǎo)較低速流體流。這些噴射孔被配置成使得當(dāng)流體供應(yīng)與所述噴射孔和噴射噴嘴二者流體連通時，較低速流體流減少可由高速噴射引起的噴濺。
[0009]本公開的另一個實施方案涉及一種噴頭，其包括接收流體供應(yīng)的主體部分和與所述主體部分流體連通的頭部分。頭部分包括延伸通過其中的多個噴射孔和多個噴射噴嘴。這些噴射噴嘴被配置用來指導(dǎo)來自頭部分和圍繞這些噴射噴嘴的噴射孔的高速噴射。這些噴射孔被配置用來當(dāng)這些噴射孔和噴射噴嘴與流體供應(yīng)流體連通時指導(dǎo)大致限制高速噴射的較低速水幕。這些噴射孔進(jìn)一步被配置成使得當(dāng)流體供應(yīng)與這些噴射孔和噴射噴嘴二者流體連通時，較低速水幕有效減少可能由高速噴射引起的噴濺。
[0010]本公開的又一個實施方案涉及一種噴頭，其包括接收流體供應(yīng)的主體部分和與所述主體部分流體連通的頭部分。頭部分包括延伸通過其中的多個噴射孔和多個噴射噴嘴。這些噴射噴嘴被配置用來指導(dǎo)來自噴頭的高速噴射。所述噴射孔圍繞著噴射噴嘴并且大約間隔至多1_。當(dāng)流體供應(yīng)與噴射孔流體連通時，通過所述噴射孔分配的流體流大致為圓柱形的。
[0011]附圖簡述
[0012]圖1是根據(jù)本公開的一個示例性實施方案的噴射器的底部透視圖。
[0013]圖2是圖1所示噴射器的透視圖，所述噴射器正分配來自中心噴射噴嘴的水。
[0014]圖3是圖1所示噴射器的透視圖，所述噴射器正分配來自中心噴射噴嘴和噴射孔外環(huán)的水。
[0015]圖4是圖1所示噴射器的剖面圖,所述噴射器正分配來自中心噴射噴嘴和噴射孔外環(huán)的水。
[0016]詳細(xì)描述
[0017]根據(jù)一個示例性實施方案，噴射器4可以例如用于水龍頭組件(附圖中未示出)。噴射器4可以用于不同類型的水龍頭組件，如廚房水龍頭、浴室水龍頭或洗衣室水龍頭。這類噴射器可被配置為(但不限于)用于水龍頭噴口的可拔出噴嘴或者為側(cè)向噴射連接件。噴射器還可以用作花園澆水軟管或壓力清洗機的連接件或者其它合適的應(yīng)用。
[0018]參見圖1，噴射器4可包括入口端8、分配端7(例如，頭部分)和主體部分9。入口端8可流體連接至流體供應(yīng)6 (例如，供水管線)。主體部分9可位于入口端8與分配端7之間。此外，主體部分9可容納流體管道(未示出)，其可用于將水流從入口端8導(dǎo)向到分配端7。噴射器4的分配端7可包括噴頭I，所述噴頭I包括設(shè)置于其中、延伸通過其中并且流體連接至噴射器4的入口端8的多個孔。噴射器4還可以包括用于控制通過噴射器4的入口端8的水流的閥門(未示出)。
[0019]噴射器4的主體部分9可包括用于指導(dǎo)朝向分配端7的分開部分的水流的多個通道(圖1未示出)。另外，主體部分9中的每個這類通道可以通過閥門分別調(diào)節(jié)壓力，以便使分配端7的每個部分具有不同水壓。例如，一個通道內(nèi)經(jīng)受的水壓可以通過閥門或另一個流動限制或流動調(diào)節(jié)裝置來增加，由此增加水流動通過所述通道和排出噴射噴嘴3的速度。
[0020]進(jìn)一步參見圖1，噴頭I被示出為包括多個噴射孔2(例如，小孔、開口、孔等)和多個噴射噴嘴3(例如，小孔、噴口(jet)、噴嘴等)。噴射孔2被示出為具有相同尺寸并且被布置為鄰近噴頭上的徑向向外位置設(shè)置的大致圓形圖案。然而，這些噴射孔2可具有任何合適的尺寸并被布置為任何適合的圖案。這些噴射噴嘴3被示出為具有比噴射孔2的尺寸大的相同尺寸并且被布置為鄰近噴頭I上的徑向向內(nèi)位置設(shè)置的大致圓形圖案。然而，噴射噴嘴3可具有任何合適的尺寸并且被布置為任何合適的圖案，如多邊形或六邊形圖案。
[0021]噴射孔2被配置來當(dāng)啟動噴射器以排出來自噴頭的水時形成噴射水幕形式的相對較軟(更柔和等)、較低速流體流。圖1示出的噴射器4被配置成使得從噴射孔2排出的較低速水幕具有足夠的速度以便在沖擊噴射表面時維持水幕的形狀和完整性并僅形成最少量的偏離或噴濺。噴射器4還被配置成使得當(dāng)啟動噴射器4以自噴頭排出水時噴射噴嘴3形成呈一系列水流或水“射流”形式的更有力、更高速的流體流(如圖2的實例所示)。較高速的水射流意圖提供足夠高的質(zhì)量流速和能量以從有待清潔的表面(例如，餐具、炊具等)除去碎屑(例如，粘在上面的食物或其它物質(zhì)等)。同時(即與此結(jié)合)，較高速水射流提供了有力的水噴射(例如，用于清潔表面等)，而在較高速射流周圍布置為大致同軸配置的較低速水幕意圖通過至少部分使來自偏離射流的水限制在水幕界限內(nèi)(如圖3和圖4中的實例所示)，使與較高速射流沖擊表面或物體時的偏離有關(guān)的“噴濺”減至最少。此外，在水幕意圖幫助限制射流的噴濺或偏離/反射時，所述水幕還意圖促進(jìn)沖洗或除去由射流從表面驅(qū)除或疏松的碎屑或其它物質(zhì)。
[0022]根據(jù)一個示例性實施方案，設(shè)置在主體部分9中的第一通道可流體連接至分配端7的中心部分并且流體連接至噴射噴嘴3 (以形成射流的流動路徑)。此外，閥門(或其它流動限制或流動調(diào)節(jié)裝置)可用于增加第一通道內(nèi)的水壓并通過一個或多個噴射噴嘴3排出，由此增加從噴射噴嘴3流出水的速度以形成射流。因此，噴射噴嘴3可提供更高速的水射流或水流，由此增加從噴射噴嘴3中分配的水的擦洗力。
[0023]根據(jù)一個示例性實施方案，噴射噴嘴3被布置為大致圓形的圖案。在其它實施方案中，噴射噴嘴3可被布置為任何合適的圖案(例如，星形或其它多邊形圖案)。此外，噴頭I的噴射噴嘴3可流體連接至流體供應(yīng)6。
[0024]如圖2所示，噴射器4可包括其中從噴頭的徑向向內(nèi)部分分配較高速水流并且阻斷來自噴射孔2的流體流的設(shè)置(即，一個或多個噴射噴嘴3沒有被來自噴射孔2的較低速水幕流所圍繞)。這個設(shè)置的特征可在于有力的較高速水射流，它在沖擊噴射表面時可能具有不需要的偏離趨勢，由此無意識地浸濕或噴濺周圍物體。
[0025]根據(jù)一個示例性實施方案，如圖1所示，噴射孔2被布置為外“環(huán)”。噴射孔2也流體連接至供水系統(tǒng)6。應(yīng)理解，噴頭I可包括更多或更少數(shù)目的噴射孔2，其可布置為不同的其它圖案。例如，噴射孔2可包括同中心地圍繞著中心噴射噴嘴3或噴射噴嘴3的中心環(huán)的多個環(huán)(即，具有不同直徑的環(huán))。
[0026]單個噴射孔2的開口可由一個孔洞限定。根據(jù)本公開的不同實施方案，流體可以在與噴射孔2的孔洞縱軸大致平行的第一方向A上流動通過(S卩，分配通過)每個噴射孔2的開口。根據(jù)本公開的一個示例性實施方案，每個噴射孔2的孔洞的縱軸可以與噴頭I的縱軸軸向地對齊或平行地延伸。而且，每個噴射孔2的縱軸可以與噴頭I的端表面13(例如，外表面)垂直。因此，噴射孔2的外環(huán)可以被配置成使得水在第一方向A上從噴射孔開口分配，所述第一方向A與噴射器4的縱軸大致平行或者與噴頭I的端表面13垂直。此外，用于噴頭I的組合噴射孔2的開口可以為共平面的(即，設(shè)置在一個平面上)。噴射孔2的外環(huán)的孔洞和開口可被配置成使得從其中分配的水限定大致圓柱形的形狀。此外，從噴射孔2中分配的水可以形成圍繞著較高速射流3的較低速水幕。
[0027]根據(jù)本公開的一個替代性實施方案，噴頭I的端表面13可以為大致平直的?；蛘撸吮砻?3可以為凸面的或凹面的。噴射孔2的孔洞和開口可被布置為外環(huán)并且稍微徑向向外地(即，從噴射器的中心軸開始分散)定向(即，指向)。這個定向/配置意圖提供稍微呈圓錐形的水幕噴射。根據(jù)這個實施方案，從噴射孔2中分配的這類稍微呈圓錐形的水幕還被配置用來屏蔽或限制可能從由一個或多個中心噴射噴嘴3中分配的水中偏離的任何水。
[0028]根據(jù)本公開的替代性實施方案，噴頭I的端表面13可具有稍許彎曲(即向外為凸面或凹面的端表面)。對于稍微凸/凹的噴頭1，噴射孔2的孔洞和開口可以與端表面13垂直抑或稍微徑向向外地指向。根據(jù)配置，噴射孔2可提供稍微呈圓錐形或圓柱形的水幕。根據(jù)這些實施方案，從噴射孔2中分配的較低速水幕可屏蔽從一個或多個中心噴射噴嘴3中分配的任何偏離的水。
[0029]根據(jù)本公開的不同實施方案，噴射孔2的開口的直徑可以小于一個或多個中心噴射噴嘴3的開口的直徑。例如，根據(jù)一個實施方案，噴頭I可包括大約8個具有約Imm直徑的噴射噴嘴3。噴頭I還可以包括約100個至180個之間的具有0.28mm至0.32mm之間的直徑并布置為兩個同中心外環(huán)的噴射孔2。更確切地說，噴頭I可以包括130個至160個之間的具有0.28mm至0.32mm之間的直徑并布置為兩個同中心外環(huán)的噴射孔2。更具體地說，噴頭I可以包括大約144個具有約0.31mm的近似直徑并布置為兩個同中心外環(huán)的噴射孔。
[0030]此外，噴射孔2可以使用光蝕刻方法形成在噴頭I中。然而，任何合適的方法和工藝都可用于形成噴射孔2，并且本公開并不意圖限制在噴頭I中形成噴射孔2的可能方式。例如，在其它實施方案中，可以使用鉆孔或拉削工藝在噴頭I中加工出噴射孔2。
[0031]根據(jù)本公開的不同實施方案，中心噴射噴嘴3和外噴射孔2可以由單一構(gòu)件如不銹鋼盤整體地形成于噴頭I中。例如，可以使用光蝕刻工藝在盤的徑向向外部分內(nèi)設(shè)置(即，形成)多個噴射孔2，并且可以使用另一種工藝(例如，拉削、穿孔等)在所述盤的中心部分加工出噴射孔3。
[0032]根據(jù)一個替代性實施方案，噴頭I可以由單獨構(gòu)件形成，每個單獨構(gòu)件包括噴射孔2和噴射噴嘴3 二者之一。例如，可以使用光蝕刻工藝在具有中心孔的不銹鋼盤上形成噴射孔2。此外，不銹鋼盤的中心孔可以由包括一系列其中形成有中心噴射噴嘴的另一個構(gòu)件(例如，一個盤)接納。包括噴射噴嘴3的所述構(gòu)件可以由任何合適的材料(例如，塑料、金屬等)形成?？梢允褂貌煌椒ㄈ缱⑺艹尚凸に噥硇纬砂ㄒ幌盗行纬捎袊娚鋰娮?的構(gòu)件。
[0033]根據(jù)一個示例性實施方案，噴射孔2可以彼此間隔規(guī)定的距離。例如，根據(jù)一個具體實施方案，噴射孔2的開口可以測量到大約0.31mm的直徑，并且噴射孔2可以彼此間隔大約Imm或更少。有利地是，當(dāng)噴射孔2在外環(huán)中被布置為間隔大約Imm時，從噴射孔2中分配的水可以由大致圓柱形的水幕形狀限定。此外，可以通過使用具有較低流速的流來維持“水幕”。由噴射孔2形成的“水幕”可以圍繞著從一系列中心噴射噴嘴3中分配的較高速的水流。因此，噴射器4可以被配置成使得從噴射孔2中分配的水具有比從內(nèi)部噴射噴嘴3中分配的水相對較低的速度。應(yīng)理解，這些噴射孔可以間隔任何合適的距離并且本文所公開的距離不具有限制性。
[0034]因為噴頭的噴射孔2的外環(huán)可以徑向圍繞著一系列中心噴射噴嘴3，所以從外環(huán)分配的較低速水流意圖屏蔽或限制從內(nèi)部噴射噴嘴分配的可能偏離清潔表面的較高速水。因此，具有噴射孔2環(huán)和一系列中心噴射噴嘴3的噴頭可以被配置用來提供清潔噴射表面的充足擦洗力，而可能偏離或噴濺出噴射表面的水量顯著減少。
[0035]根據(jù)不同實施方案，被布置為噴頭I內(nèi)的外環(huán)的噴射孔2的數(shù)量可以基于噴射器4的總體流體流速的最大限度來確定。例如，噴射器4的最大流速可以為2.2加侖/分鐘(gpm)?；蛘?，淋浴器中使用的裝置的最大流速可以為2.5 gpm ο給定噴射器4的最大流速為
2.2gpm，則噴射孔2的組合流速可以近似等于噴射噴嘴3的組合流速(即，外環(huán)和內(nèi)環(huán)可各自具有小于或近似等于1.1gpm的流速)?；蛘?，噴射孔2的組合流速可以比噴射噴嘴3的組合流速小。例如，噴射孔2的組合流速可以比這些噴嘴3的組合流速小大約20%至30%。此外，噴嘴3的給定總體流速可以確定足夠的噴射孔2總體流速以便提供有效的屏蔽效應(yīng)或“水幕”。例如，噴嘴3可以具有大約1.0gpm的給定流速，并且為了有效屏蔽來自噴嘴3的水的水偏離或噴濺，可以為噴射孔2選擇大約0.75gpm的總體流速。根據(jù)其它實施方案，噴射孔2可以呈被配置用來以所需圖案(例如，圓形水幕等)發(fā)射所需水流的一個或若干個曲線開口的形式(例如，弧形槽、環(huán)等)。
[0036]噴射器4可以進(jìn)一步包括用于分別調(diào)節(jié)通過噴射孔2和噴射噴嘴3分配的水的流速的一個或多個閥門(未示出)。這個閥門可以允許水選擇性流動通過將水導(dǎo)向噴射孔2的第一通道和/或?qū)⑺畬?dǎo)向噴射噴嘴3的通道。一個或多個這類閥門可以例如通過設(shè)置在噴射器4的主體部分9的外部表面上的機械或電開關(guān)來可操作地控制。
[0037]根據(jù)本公開的替代性實施方案，噴射孔2可以非圓形圖案(例如，橢圓形或正方形)布置在噴頭I上。此外，噴射噴嘴3可以被配置用來將水向內(nèi)地導(dǎo)向交叉或會聚的一點。噴射噴嘴3還可以被配置成使得通過其中分配的水與噴頭I的端表面13大致垂直。
[0038]本領(lǐng)域技術(shù)人員將輕易了解，包括被布置和配置用來有效減少來一個或多個中心噴射噴嘴的噴濺的噴射孔外環(huán)的噴射器的益處。例如，噴射器可包括分配高速水流(其也偏離清潔表面)的強有力中心噴嘴和分配呈保護(hù)性水幕形式(有效限制自中心噴嘴偏離的水)的水的一系列外噴射孔。因此，當(dāng)人們使用噴射器洗滌物品(即餐具)時，他/她可以更高效、更有效且更準(zhǔn)確地進(jìn)行清潔操作。
[0039]如本文使用，術(shù)語“近似”、“大約”、“大致”、“基本上”以及類似術(shù)語意圖具有與本公開的主題所涉及的領(lǐng)域的普通技術(shù)人員通常和公認(rèn)的用法相一致的廣泛含義。審閱本公開的本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)理解，這些術(shù)語意圖允許對所描述并且要求保護(hù)的某些特征進(jìn)行描述，而并不將這些特征的范圍限于所提供的確切數(shù)值范圍。因此，這些術(shù)語應(yīng)該被解釋為指示所描述并且要求保護(hù)的主題的非實質(zhì)性和無關(guān)緊要的修改或變化應(yīng)視為是在所附的權(quán)利要求書中所敘述的本公開的范圍之內(nèi)。
[0040]應(yīng)注意，本文用于描述各種實施方案的術(shù)語“示例性”意圖指示這些實施方案是可能的實例、代表和/或可能實施方案的說明(并且這個術(shù)語并不欲暗示這些實施方案一定是不尋常或最好的實例)。
[0041]本文使用的術(shù)語“連接(coupled) ”、“連接(connected) ”等意指兩個元件直接或間接彼此連接。這種連接可以是固定的(例如永久的)或可移動的(例如可拆除的或可松開的)。實現(xiàn)這種連接的方法可以是這兩個構(gòu)件或者這兩個構(gòu)件與任何另外的中間構(gòu)件彼此一體地形成為單個整體，也可以是這兩個構(gòu)件或者這兩個構(gòu)件與任何另外的中間構(gòu)件彼此附接。
[0042]本文中提及元件的位置(例如“頂部”、“底部”、“上方”、“下方”等)僅用來描述附圖中各種元件的取向。應(yīng)注意，各種元件的取向可能根據(jù)其它示例性實施方案而不同并且這些變化意圖由本公開所涵蓋。
[0043]值得注意的是，如不同示例性實施方案所示的噴射器的構(gòu)造和布置僅為說明性的。雖然本公開中僅詳細(xì)地描述了幾個實施方案，但是審閱本公開的本領(lǐng)域技術(shù)人員將容易認(rèn)識到，許多修改是可能的(例如各種元件的大小、尺寸、結(jié)構(gòu)、形狀和比例、參數(shù)值、安裝布置、材料的使用、顏色、取向、制造工藝等的變化)而不實質(zhì)性背離本文描述的主題的新穎教義和優(yōu)勢。舉例來說，顯示為一體形成的元件可以由多個零件或元件構(gòu)成，元件的位置可以顛倒或發(fā)生其它變化，并且不連續(xù)元件或位置的性質(zhì)或數(shù)目可以改變或變化?？梢愿鶕?jù)替代性實施方案將任何工藝或方法步驟的次序或順序進(jìn)行變換或重新排序。各種示例性實施方案的設(shè)計、操作條件和布置可以發(fā)生其他替代、修改、變化或省略，而不背離本公開的范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種噴頭，其包括: 接收流體供應(yīng)的主體部分；以及 與所述主體部分流體連通的頭部分，其中所述頭部分包括外表面； 在所述頭部分內(nèi)形成的多個噴射噴嘴和多個噴射孔，所述噴射噴嘴被布置在所述頭部分的中心部分內(nèi)，并且所述噴射孔被布置為所述頭部分內(nèi)的外環(huán)，以使得所述噴射孔圍繞著所述噴射噴嘴； 其中所述噴射噴嘴被配置用來指導(dǎo)其中的高速噴射，并且所述噴射孔被配置用來在與所述主體部分的縱軸平行的方向上指導(dǎo)較低速流體流； 其中所述噴射孔進(jìn)一步被配置成使得當(dāng)所述流體供應(yīng)與所述噴射孔和所述噴射噴嘴二者流體連通時，所述較低速流體流有效減少可能由所述高速噴射引起的噴濺。
2.如權(quán)利要求1所述的噴頭，其中當(dāng)所述流體供應(yīng)與所述噴射孔流體連通時，所述較低速流體流大致為圓柱形。
3.如權(quán)利要求1所述的噴頭，其進(jìn)一步包括用于分別調(diào)節(jié)所述較低速流體流和所述高速噴射的閥門。
4.如權(quán)利要 求1所述的噴頭，其中所述噴頭包括設(shè)置于其中的100個與180個之間的具有0.28mm與0.32mm之間的測量直徑的噴射孔。
5.如權(quán)利要求1所述的噴頭，其中所述噴射孔是使用光蝕刻工藝形成。
6.如權(quán)利要求1所述的噴頭，其中所述頭部分是由不銹鋼盤形成。
7.如權(quán)利要求1所述的噴頭，其中被布置為外環(huán)的所述噴射孔大約間隔至多1mm。
8.—種噴頭,其包括: 接收流體供應(yīng)的主體部分； 與所述主體部分流體連通的頭部分； 多個噴射噴嘴，其延伸通過所述頭部分并被配置用來指導(dǎo)來自所述頭部分的高速噴射；以及 多個噴射孔，其延伸通過所述頭部分、圍繞著所述噴射噴嘴并且被配置用來當(dāng)所述噴射孔和噴射噴嘴與所述流體供應(yīng)流體連通時指導(dǎo)大致限制所述高能噴射的較低速水幕； 其中所述噴射孔進(jìn)一步被配置成使得當(dāng)所述流體供應(yīng)與所述噴射孔和所述噴射噴嘴二者流體連通時，所述較低速水幕有效減少可能由所述高速噴射引起的噴濺。
9.如權(quán)利要求8所述的噴頭，其中當(dāng)所述流體供應(yīng)與所述噴射孔流體連通時，所述較低速流體流大致為圓柱形。
10.如權(quán)利要求8所述的噴頭，其中當(dāng)所述流體供應(yīng)與所述噴射孔流體連通時，所述較低速流體流為圓錐形。
11.如權(quán)利要求8所述的噴頭，其進(jìn)一步包括用于分別調(diào)節(jié)所述較低速流體流和所述高速噴射的閥門。
12.如權(quán)利要求8所述的噴頭，其中所述噴頭包括設(shè)置于其中的100個與180個之間的具有0.28mm與0.32mm之間的測量直徑的噴射孔。
13.如權(quán)利要求8所述的噴頭，其中所述噴射孔是使用光蝕刻工藝形成。
14.如權(quán)利要求8所述的噴頭，其中所述頭部分是由不銹鋼盤形成。
15.如權(quán)利要求8所述的噴頭，其中被布置為外環(huán)的所述噴射孔大約間隔至多1mm。
16.—種噴頭,其包括: 接收流體供應(yīng)的主體部分；以及 與所述主體部分流體連通的頭部分； 延伸通過所述頭部分并被配置用來指導(dǎo)來自所述頭部分的高速噴射的多個噴射噴嘴；以及 大約間隔至多1_、延伸通過所述頭部分并圍繞所述噴射噴嘴的多個噴射孔； 其中當(dāng)所述流體供應(yīng)與所述噴射孔流體連通時，通過所述噴射孔分配的流體流大致為圓柱形。
17.如權(quán)利要求16所述的噴頭，其中所述噴射孔是使用光蝕刻工藝形成。
18.如權(quán)利要求16所述的噴頭，其中所述噴射孔被配置成使得當(dāng)所述流體供應(yīng)與所述噴射孔和所述噴射噴嘴二者流體連通時，通過所述噴射孔分配的所述流體流有效減少可能由所述高速噴射引起的噴濺。
19.如權(quán)利要求16所述的噴頭，其中所述噴頭包括設(shè)置于其中的100個與180個之間的具有0.28mm與0.32mm之間的測量直徑的噴射孔。
20.如權(quán)利要求16所述的噴頭，其中所述頭部分是由不銹鋼盤形成。
21.—種噴頭,其包括: 具有中心軸的頭部分； 設(shè)置于所述頭部分內(nèi)并被配置用來以第一速度并在與所述中心軸大致平行的方向上發(fā)射水射流的多個噴射噴嘴； 設(shè)置于所述頭部分內(nèi)并被配置用來發(fā)射大致平行于且圍繞著所述中心軸和所述噴射噴嘴的不連續(xù)水流環(huán)的多個噴射孔，所述噴射孔被配置用來以第二速度發(fā)射水，所述第二速度小于所述第一速度。
【文檔編號】B05B1/32GK104043543SQ201410093304
【公開日】2014年9月17日 申請日期:2014年3月13日 優(yōu)先權(quán)日:2013年3月14日
【發(fā)明者】皮特·卡瓊赫, 格雷戈里·德瓦爾特, 肯·S·漢娜 申請人:科勒公司