一種研磨組合物的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種研磨組合物,其特征在于,包括下列重量份數(shù)的物質(zhì):水楊酸鈉35-40份,醋酸鈉2-7份,含氫硅油3-8份,甲基硅油9-15份,分子篩1-3份,硅藻土2-7份,硼酸鈉3-8份,聚丙烯4-9份,甲基三乙氧基硅烷14-19份,抗氧劑2-4份,防老劑1份,氯化鈣2-5份。本發(fā)明的化學(xué)機(jī)械研磨劑中包括親水基表面潔性劑材料,可以降低化學(xué)機(jī)械研磨劑和正在水性薄膜間的表面張力,使化學(xué)機(jī)械研磨劑和琉水性薄膜更緊密貼合。
【專利說明】一種研磨組合物
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種研磨組合物。
【背景技術(shù)】
[0002]在半導(dǎo)體制造中,化學(xué)機(jī)械研磨(CMP)技術(shù)可以實(shí)現(xiàn)整個(gè)晶圓的平坦化,成為芯片制造工藝中重要的步驟之一。在化學(xué)機(jī)械研磨中,化學(xué)機(jī)械研磨劑(Slurry)是化學(xué)機(jī)械研磨技術(shù)的關(guān)鍵要素之一,其性能直接影響拋光后表面的質(zhì)量。設(shè)計(jì)化學(xué)機(jī)械研磨劑時(shí),希望能達(dá)到去除速率高、平面度好、膜厚均勻、無殘留、缺陷少等效果。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0003]本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是提供一種研磨組合物。
[0004]為解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明采用的技術(shù)方案是:
一種研磨組合物,其特征在于,包括下列重量份數(shù)的物質(zhì):水楊酸鈉35-40份,醋酸鈉2-7份,含氫硅油3-8份,甲基硅油9-15份,分子篩1-3份,硅藻土 2-7份,硼酸鈉3-8份,聚丙烯4-9份,甲基三乙氧基硅烷14-19份,抗氧劑2-4份,防老劑1份,氯化鈣2-5份。
[0005]本發(fā)明的化學(xué)機(jī)械研磨劑中包括親水基表面潔性劑材料,可以降低化學(xué)機(jī)械研磨劑和正在水性薄膜間的表面張力,使化學(xué)機(jī)械研磨劑和琉水性薄膜更緊密貼合,從而減少琉水性薄膜表面上的殘留物和顆粒等缺陷,改善化學(xué)機(jī)械研磨的效果。
【具體實(shí)施方式】
[0006]實(shí)施例1
一種研磨組合物,其特征在于,包括下列重量份數(shù)的物質(zhì):水楊酸鈉35-40份,醋酸鈉2-7份,含氫硅油3-8份,甲基硅油9-15份,分子篩1-3份,硅藻土 2-7份,硼酸鈉3-8份,聚丙烯4-9份,甲基三乙氧基硅烷14-19份,抗氧劑2-4份,防老劑1份,氯化鈣2-5份。
【權(quán)利要求】
1.一種研磨組合物,其特征在于,包括下列重量份數(shù)的物質(zhì):水楊酸鈉35-40份,醋酸鈉2-7份,含氫硅油3-8份,甲基硅油9-15份,分子篩1-3份,硅藻土 2-7份,硼酸鈉3-8份,聚丙烯4-9份,甲基 三乙氧基硅烷14-19份,抗氧劑2-4份,防老劑1份,氯化鈣2-5份。
【文檔編號】C09K3/14GK104046320SQ201410282507
【公開日】2014年9月17日 申請日期:2014年6月23日 優(yōu)先權(quán)日:2014年6月23日
【發(fā)明者】范向奎 申請人:青島寶泰新能源科技有限公司