一種玻璃基板的涂膠方法
【專利摘要】一種玻璃基板的涂膠方法，屬于平板顯示面板的加工工藝領(lǐng)域。其特征在于包括如下步驟：（1）對(duì)玻璃基板進(jìn)行預(yù)清洗，并使玻璃基板潔凈干燥；（2）之后在紫外光下進(jìn)行照射，使ITO玻璃基板的導(dǎo)電層表面活化；（3）用傳送帶把玻璃基板傳送到涂膠機(jī)的傳送輥上，當(dāng)玻璃基板經(jīng)過支撐輥和涂膠輥之間時(shí)，把經(jīng)過勻膠的涂膠輥上的光刻膠均勻涂覆在玻璃基板上。本發(fā)明所述的采用輥涂法在玻璃基板上涂布正性光刻膠，研究光刻膠黏度、涂膠輥表面結(jié)構(gòu)、膠輥壓入量、涂膠速度和供膠量對(duì)涂膠厚度和涂膠均勻性的影響，得出優(yōu)化涂膠厚度和涂膠均勻性的方法，可有效的解決現(xiàn)有工藝所帶來(lái)的問題，本工藝操作簡(jiǎn)單且易于推廣。
【專利說(shuō)明】一種玻璃基板的涂膠方法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明屬于平板顯示面板的加工工藝領(lǐng)域，尤其涉及一種玻璃基板的涂膠方法。

【背景技術(shù)】
[0002]在IXD行業(yè)，涂膠工藝是指在玻璃基板上涂布一定厚度光刻膠的制造工藝。光刻膠涂布的厚度和均勻性直接影響細(xì)微光刻電路圖形的精度，對(duì)電子產(chǎn)品的集成度和合格率有著極為重要的影響。影響光刻膠涂膠厚度和涂膠均勻性的因素很多，主要有涂膠方法、光刻膠黏度、環(huán)境溫度和濕度等。玻璃基板上涂膠比較常用的涂膠方法有輥涂法、浸涂法和旋涂法三種。在涂膠后容易出現(xiàn)玻璃基板涂膠后光刻膠表面出現(xiàn)氣泡和針孔；光刻膠與ITO玻璃基板粘附不良，甚至出現(xiàn)脫落，導(dǎo)致不耐刻蝕，甚至報(bào)廢；在金相顯微鏡下卻能看到電路圖形側(cè)壁不陡直、有毛刺、鋸齒形現(xiàn)象或出現(xiàn)短路等問題。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明旨在提供種可以解決上述問題的基于玻璃基板的涂膠方法。
[0004]一種玻璃基板的涂膠方法，其特征在于包括如下步驟:
(1)對(duì)玻璃基板進(jìn)行預(yù)清洗，并使玻璃基板潔凈干燥；
(2)之后在紫外光下進(jìn)行照射，使ITO玻璃基板的導(dǎo)電層表面活化；
(3)用傳送帶把玻璃基板傳送到涂膠機(jī)的傳送輥上，當(dāng)玻璃基板經(jīng)過支撐輥和涂膠輥之間時(shí)，把經(jīng)過勻膠的涂膠輥上的光刻膠均勻涂覆在玻璃基板上。
[0005]本發(fā)明所述的一種玻璃基板的涂膠方法，其特征在于所述的光刻膠的粘度為黏度在 20 mPa.s ?25 mPa.S。
[0006]本發(fā)明所述的一種玻璃基板的涂膠方法，其特征在于所述的光刻膠的供膠量為10mT,/miη 以上。
[0007]本發(fā)明所述的一種玻璃基板的涂膠方法，其特征在于所述的涂膠輥上設(shè)置有溝槽，溝槽深度為80 μπι?200μηι。
[0008]本發(fā)明所述的一種玻璃基板的涂膠方法，其特征在于所述的涂膠厚度為L(zhǎng) 3 μ m ?L 7 μ m0
[0009]本發(fā)明所述的一種玻璃基板的涂膠方法，其特征在于所述的涂膠速度為4m/min ?5m/min。
[0010]本發(fā)明所述的采用輥涂法在玻璃基板上涂布正性光刻膠，研究光刻膠黏度、涂膠輥表面結(jié)構(gòu)、膠輥壓入量、涂膠速度和供膠量對(duì)涂膠厚度和涂膠均勻性的影響，得出優(yōu)化涂膠厚度和涂膠均勻性的方法，可有效的解決現(xiàn)有工藝所帶來(lái)的問題，本工藝操作簡(jiǎn)單且易于推廣。

【具體實(shí)施方式】
[0011]本發(fā)明所述的一種玻璃基板的涂膠方法，其特征在于包括如下步驟: (1)對(duì)玻璃基板進(jìn)行預(yù)清洗，并使玻璃基板潔凈干燥；
(2)之后在紫外光下進(jìn)行照射，使ITO玻璃基板的導(dǎo)電層表面活化；
(3)用傳送帶把玻璃基板傳送到涂膠機(jī)的傳送輥上，當(dāng)玻璃基板經(jīng)過支撐輥和涂膠輥之間時(shí)，把經(jīng)過勻膠的涂膠輥上的光刻膠均勻涂覆在玻璃基板上。
[0012]本發(fā)明所述的一種玻璃基板的涂膠方法，其特征在于所述的光刻膠的粘度為黏度在20 mPa*s?25 mPa*s。光刻膠黏度是影響涂膠厚度的主要參數(shù)之一。實(shí)驗(yàn)表明，涂膠厚度和光刻膠黏度正相關(guān)，隨著黏度升高而變大。
[0013]本發(fā)明所述的一種玻璃基板的涂膠方法，其特征在于所述的光刻膠的供膠量為10mT,/miη 以上。
[0014]本發(fā)明所述的一種玻璃基板的涂膠方法，其特征在于所述的涂膠輥上設(shè)置有溝槽，溝槽深度為80 μ m?200 μ m。溝槽越深，涂膠厚度就越大。但是溝槽太深，厚度調(diào)節(jié)范圍大，厚度波動(dòng)也大。溝槽太淺，涂膠厚度小，涂膠輥使用壽命短，且涂膠厚度不穩(wěn)定，難控制。
[0015]本發(fā)明所述的一種玻璃基板的涂膠方法，其特征在于所述的涂膠厚度為1.3μπι?1.7μπι。涂膠厚度和壓入量成反比，即壓入量越大，涂膠厚度越小。涂膠厚度在(1.5±0.2)μπι時(shí)，能夠獲得穩(wěn)定的精密電路圖形。
[0016]本發(fā)明所述的一種玻璃基板的涂膠方法，其特征在于所述的涂膠速度為4m/min?5m/min。涂膠速度調(diào)節(jié)到在4m/min?5m/min,涂膠均勻性達(dá)到最佳效果。
【權(quán)利要求】
1.一種玻璃基板的涂膠方法，其特征在于包括如下步驟: (1)對(duì)玻璃基板進(jìn)行預(yù)清洗，并使玻璃基板潔凈干燥； (2)之后在紫外光下進(jìn)行照射，使ITO玻璃基板的導(dǎo)電層表面活化； (3)用傳送帶把玻璃基板傳送到涂膠機(jī)的傳送輥上，當(dāng)玻璃基板經(jīng)過支撐輥和涂膠輥之間時(shí)，把經(jīng)過勻膠的涂膠輥上的光刻膠均勻涂覆在玻璃基板上。
2.如權(quán)利要求1所述的一種玻璃基板的涂膠方法，其特征在于所述的光刻膠的粘度為黏度在 20mPa.s ?25mPa.S。
3.如權(quán)利要求1所述的一種玻璃基板的涂膠方法，其特征在于所述的光刻膠的供膠量為10 mL/min以上。
4.如權(quán)利要求1所述的一種玻璃基板的涂膠方法，其特征在于所述的涂膠輥上設(shè)置有溝槽，溝槽深度為80 μ m?200 μ m。
5.如權(quán)利要求1所述的一種玻璃基板的涂膠方法，其特征在于所述的涂膠厚度為1.3 μ m ~ 1.7 μ m。
6.如權(quán)利要求1所述的一種玻璃基板的涂膠方法，其特征在于所述的涂膠速度為4m/min ?5m/min。
【文檔編號(hào)】B05C1/08GK104174539SQ201410332927
【公開日】2014年12月3日 申請(qǐng)日期:2014年7月14日 優(yōu)先權(quán)日:2014年7月14日
【發(fā)明者】賈衛(wèi)東, 魏軍鋒 申請(qǐng)人:西安三威安防科技有限公司