一種涂布方法及涂布裝置制造方法
【專利摘要】根據(jù)本發(fā)明涉及一種涂布方法及涂布裝置，其中涂布方法步驟包括：將混入磁性顆粒的待涂物涂布在載體的待涂面上；在待涂面上施加交變磁場以促使磁性顆粒在待涂物內(nèi)產(chǎn)生振動(dòng)，從而使得待涂物在待涂面上分布均勻。根據(jù)本發(fā)明的涂布方法和噴涂裝置，能夠把待涂物均勻涂布在載體的待涂面上，以避免因待涂物的分布不均而帶來不利影響。
【專利說明】一種涂布方法及涂布裝置

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明屬于涂布【技術(shù)領(lǐng)域】，尤其涉及一種涂布方法及涂布裝置。

【背景技術(shù)】
[0002]涂布方法通常分為輥壓式涂布方法和噴涂式涂布方法，其能夠把膠液或油漆等待涂物涂布在玻璃基板、紙、布、樹脂或機(jī)械零部件等載體上。涂布方法的應(yīng)用非常廣泛，例如機(jī)械零部件的噴漆、薄膜的制造以及液晶面板的TFT玻璃和彩膜濾光片的制造等。
[0003]目前，通常使用氣壓方式把噴嘴內(nèi)的待涂物噴涂在載體上，噴嘴在載體的上方勻速移動(dòng)進(jìn)行噴涂，以得到相對均勻的待涂物層。但是，當(dāng)噴嘴內(nèi)存在異物或噴嘴移動(dòng)過程出現(xiàn)振動(dòng)，噴涂在載體上的待涂物層就會出現(xiàn)不均。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]為了解決上述問題，本發(fā)明的目的是提供一種涂布方法和涂布裝置，其能夠把待涂物均勻涂布在載體的待涂面上。
[0005]根據(jù)本發(fā)明的第一方面，提供了一種涂布方法，其步驟包括:將混入磁性顆粒的待涂物涂布在載體的待涂面上；在待涂面上施加交變磁場以促使磁性顆粒在待涂物內(nèi)產(chǎn)生振動(dòng)，從而使得待涂物在待涂面上分布均勻。當(dāng)涂布在載體的待涂面上的待涂物分布不均時(shí)，待涂物內(nèi)振動(dòng)的磁性顆粒將促動(dòng)待涂物產(chǎn)生小范圍流動(dòng)，從而使其均勻分布在載體的待涂面上。
[0006]在一個(gè)實(shí)施例中，交變磁場由輸入交變電流的電磁鐵組形成。由于電磁鐵組形成的交變磁場的靈活性較強(qiáng)，因此通過輸入的交變電流可以改變磁場強(qiáng)度和交變頻率，以使該涂布方法適用于不同厚度的涂布于待涂面的待涂物層。
[0007]在一個(gè)實(shí)施例中，電磁鐵組由以陣列分布的電磁鐵組成，陣列由多個(gè)排和多個(gè)列組成，各排內(nèi)的任意相鄰電磁鐵的間距均等于各列內(nèi)的任意相鄰電磁鐵的間距。這種陣列分布的電磁鐵組能夠使其產(chǎn)生大致均勻的電磁場，促使運(yùn)動(dòng)在磁場內(nèi)大部分磁性顆粒運(yùn)動(dòng)大致相同，進(jìn)一步促使待涂物在載體的待涂面上分布均勻。
[0008]在一個(gè)實(shí)施例中，交變電流為恒定頻率的交變電流。當(dāng)輸入恒定頻率的交變電流時(shí)，電磁鐵組能夠產(chǎn)生均勻有序的變化磁場，使得其作用于各磁性顆粒的磁力和時(shí)間相等，從而使得各磁性顆粒的往復(fù)運(yùn)動(dòng)的行程大致相同，更進(jìn)一步地促使待涂物在載體的待涂面上分布均勻。
[0009]在一個(gè)實(shí)施例中，待涂物為光刻膠，而載體為制造液晶面板TFT玻璃或彩膜濾光片的玻璃基板。使用本發(fā)明的涂布方法在玻璃基板上涂布的光刻膠，能夠促使光刻膠的分布均勻，避免在顯示屏上出現(xiàn)宏觀色不均。
[0010]在一個(gè)實(shí)施例中，交流電流的頻率大于3000Hz，磁性顆粒選擇成能夠在1500C -300°c時(shí)失去磁性的且粒徑為10-99nm的顆粒，每毫升混合物內(nèi)含有100-200粒磁性顆粒。通過這種方法，不僅可以確保光刻膠層的分布均勻，滿足液晶面板TFT或彩膜濾光片的需求，而且還可以避免磁性顆粒干擾顯示面板的正常顯示。
[0011]在一個(gè)實(shí)施例中，在待涂面的邊緣處施加恒定磁場，以促使磁性顆粒在待涂面的邊緣處進(jìn)行堆積，以阻止待涂物外流。由此可以避免資源浪費(fèi)，擴(kuò)大涂布后載體的可利用面積，從而可以省略后續(xù)的切邊步驟，提高生產(chǎn)效率。
[0012]根據(jù)本發(fā)明第二方面，提供了一種涂布裝置，其包括:用于放置載體的承載面；能夠把混入磁性顆粒的待涂物涂布在載體的待涂面上的涂布機(jī)構(gòu)；以及設(shè)在承載面下方的交變磁場源。其中，交變磁場源構(gòu)造成能夠在待涂面上產(chǎn)生交變磁場，并促使磁性顆粒在待涂物內(nèi)產(chǎn)生振動(dòng)，從而使待涂物在待涂面上均勻分布。
[0013]在一個(gè)實(shí)施例中，交變磁場源為輸入交流電流的第一電磁鐵組。第一電磁鐵組形成的交變磁場的靈活性較強(qiáng)，通過改變輸入的交變電流能夠改變磁場強(qiáng)度和交變頻率，以使該涂布裝置適用于不同厚度的涂布于待涂面的待涂物層。
[0014]在一個(gè)實(shí)施例中，第一電磁鐵組由以陣列分布的第一電磁鐵組成，陣列由多個(gè)排和多個(gè)列組成，排內(nèi)任意相鄰的第一電磁鐵的間距等于列內(nèi)任意相鄰的第一電磁鐵的間距。這種陣列分布的第一電磁鐵組能夠使其產(chǎn)生大致均勻的電磁場，促使各磁性顆粒的運(yùn)動(dòng)大致相同，進(jìn)一步促使待涂物在載體的待涂面上分布均勻。
[0015]在一個(gè)實(shí)施例中，交流電流為恒定頻率的交流電流。當(dāng)輸入恒定頻率的交變電流時(shí)，電磁鐵組能夠產(chǎn)生均勻有序的變化磁場，使得其作用于各磁性顆粒的磁力和時(shí)間相等，從而使得各磁性顆粒的往復(fù)運(yùn)動(dòng)的行程大致相同，更進(jìn)一步地促使待涂物在載體的待涂面上分布均勻。
[0016]在一個(gè)實(shí)施例中，待涂物為光刻膠，而載體為制造液晶面板TFT玻璃或彩膜濾光片的玻璃基板。使用本發(fā)明的涂布裝置在玻璃基板上涂布的光刻膠，能夠促使光刻膠的分布均勻，避免顯示屏出現(xiàn)異常。
[0017]在一個(gè)實(shí)施例中，交流電流的頻率大于3000Hz，磁性顆粒選擇成能夠在1500C _300°C時(shí)失去磁性的且粒徑為10-99nm的顆粒，每毫升混合物內(nèi)含有100-200粒磁性顆粒。使用本發(fā)明的涂布裝置在玻璃基板上涂布的光刻膠，能夠促使光刻膠的分布均勻，避免顯示屏出現(xiàn)異常。
[0018]在一個(gè)實(shí)施例中，所述涂布裝置還包括設(shè)置在承載面的邊緣處下方的恒定磁場源，恒定磁場源構(gòu)造成能夠促使磁性顆粒在待涂面的邊緣處進(jìn)行堆積，從而阻止待涂物外流。由此可以避免資源浪費(fèi)，擴(kuò)大涂布后載體的可利用面積，從而省略后續(xù)的切邊步驟，提高生產(chǎn)效率。
[0019]在一個(gè)實(shí)施例中，恒定磁場為輸入直流電流的第二電磁鐵組，第二電磁鐵組由多個(gè)環(huán)繞在交變磁場源外的第二電磁鐵組成，任意相鄰第二電磁鐵的間隔距離為定值。這種間隔距離間隔的第二電磁鐵能夠產(chǎn)生均勻電場，以使待涂面的邊緣處的磁性顆粒分布比較均勻。
[0020]根據(jù)本發(fā)明的涂布方法和噴涂裝置，能夠把待涂物均勻涂布在載體的待涂面上，以避免因待涂物的分布不均而帶來不利影響，例如漆層不均造成的美觀效果不佳、薄膜厚度不均造成的性能降低以及TFT玻璃和彩膜濾光片的玻璃基板上的光刻膠層不均造成的顯示異常。
[0021]同時(shí)，根據(jù)本發(fā)明的涂布方法和噴涂裝置還能夠避免資源浪費(fèi)，擴(kuò)大涂布后載體的可利用面積，從而可以省略后續(xù)的切邊步驟，提高生產(chǎn)效率。
[0022]另外，根據(jù)本發(fā)明的噴涂裝置的結(jié)構(gòu)簡單緊湊，加工方便，裝配簡單，使用安全高效，從而便于實(shí)施推廣應(yīng)用。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0023]在下文中將基于實(shí)施例并參考附圖來對本發(fā)明進(jìn)行更詳細(xì)的描述。其中:
[0024]圖1為根據(jù)本發(fā)明的涂布裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；以及
[0025]圖2為沿圖1中A-A線的剖視圖。
[0026]在附圖中，相同的部件使用相同的附圖標(biāo)記。附圖并未按照實(shí)際的比例繪制。

【具體實(shí)施方式】
[0027]下面將結(jié)合附圖對本發(fā)明作進(jìn)一步說明。
[0028]圖1和2顯示了根據(jù)本發(fā)明的涂布裝置10，其主要用于向載體3上涂布待涂物7，并促使形成在載體3上的待涂物層分布均勻。該涂布裝置10包括基座2和形成在基座2的頂端的承載面2a。承載面2a用于放置載體3，其與載體3的接觸面能夠完全吻合。在一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施例中，承載面2a為平面，以用于放置玻璃基板(即載體3)。
[0029]根據(jù)本發(fā)明，該涂布裝置10還包括能夠把混入磁性顆粒的待涂物7涂布在載體3的待涂面3a上的涂布機(jī)構(gòu)4，以及設(shè)在承載面2a下方的交變磁場源5。涂布機(jī)構(gòu)4可選擇成能夠噴涂磁性顆粒的噴嘴，或者能夠以滾壓方式把待涂物7涂布在待涂面3a上的輥輪。其中，噴嘴和輥輪均屬于本領(lǐng)域技術(shù)人員熟知，在此不作詳細(xì)描述
[0030]根據(jù)本發(fā)明，交變磁場源5可設(shè)置在基座2的內(nèi)部或底部的下方，其用于在待涂面3a上產(chǎn)生交變磁場，并促使磁性顆粒在待涂物7內(nèi)產(chǎn)生振動(dòng)，從而使待涂物7在待涂面3a上均勻分布。當(dāng)涂布在載體3的待涂面3a上的待涂物7分布不均時(shí)，待涂物7內(nèi)振動(dòng)的磁性顆粒將促動(dòng)待涂物7產(chǎn)生小范圍流動(dòng)，從而使其均勻分布在載體3的待涂面3a上。
[0031]待涂物7可為膠液或油漆，而載體3可為玻璃基板、紙、布、樹脂或機(jī)械零部件等。通過涂布裝置10進(jìn)行涂布，可以避免因待涂物7的分布不均而帶來不良影響，例如漆層不均造成的美觀效果不佳、薄膜厚度不均造成的性能降低以及TFT玻璃和彩膜濾光片的玻璃基板上的光刻膠層不均造成的顯示異常。
[0032]根據(jù)本發(fā)明，交變磁場源5可為輸入交流電流的第一電磁鐵組，當(dāng)然也可以為能夠切換永磁體磁極的裝置。但是，由于第一電磁鐵組形成的交變磁場的靈活性較強(qiáng)，因此在改變輸入的交變電流同時(shí)能夠改變磁場強(qiáng)度和交變頻率，以使該涂布裝置10適用于不同厚度的涂布于待涂面3a的待涂物層。
[0033]在該實(shí)施例中，第一電磁鐵組由以陣列分布的第一電磁鐵501組成，陣列由多個(gè)排和多個(gè)列組成，各排內(nèi)的任意相鄰第一電磁鐵501的間距LI均等于各列內(nèi)的任意相鄰第一電磁鐵501的間距L2。這種陣列分布的第一電磁鐵501組能夠產(chǎn)生大致均勻的電磁場，促使運(yùn)動(dòng)在磁場內(nèi)大部分或全部磁性顆粒的運(yùn)動(dòng)大致相同，進(jìn)一步促使待涂物7在載體3的待涂面3a上分布均勻。
[0034]在一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施例中，交變電流為恒定頻率的交變電流。當(dāng)?shù)谝浑姶盆F組輸入恒定頻率的交變電流時(shí)，第一電磁鐵組能夠產(chǎn)生均勻有序的變化磁場，使得其作用于各磁性顆粒的磁力和時(shí)間相等，從而使得各磁性顆粒的往復(fù)運(yùn)動(dòng)的行程大致相同，更進(jìn)一步地促使待涂物7在載體3的待涂面3a上分布均勻。
[0035]在一個(gè)實(shí)施例中,各第一電磁鐵501均為U形電磁鐵，各U形電磁鐵的纏繞方式和電流方向均相同，其開口端均處于同一平面并與承載面2a相平行。其中，U形電磁鐵501的開口距離等于其與相鄰U形電磁鐵501之間的間隔距離。通過這種方式，可以促使交變磁場的磁場線的分布趨近均勻。
[0036]在另一個(gè)實(shí)施例中，各第一電磁鐵501均為條形電磁鐵，各條形電磁鐵的纏繞方式和電流方向均相同，其一端均處于同一平面并與承載面2a相平行。通過這種方式，可以促使交變磁場的磁場線的分布趨近均勻。
[0037]在一個(gè)實(shí)施例中，待涂物7為光刻膠，而載體3為制造液晶面板TFT玻璃或彩膜濾光片的玻璃基板。通過根據(jù)本發(fā)明的涂布裝置10在玻璃基板上涂布的光刻膠，能夠確保涂布于玻璃基板的光刻膠層的分布趨近于均勻，進(jìn)而避免顯示屏出現(xiàn)異常。
[0038]交流電流的頻率優(yōu)選大于3000Hz，而磁性顆粒選擇成能夠在150°C _300°C時(shí)失去磁性的且粒徑為10-99nm的顆粒，并且每毫升混合物內(nèi)含有100-200粒磁性顆粒。所述的磁性顆?？蓛?yōu)選為鐵氧體顆?；騈dFeB顆粒。通過這種方法，不僅可以確保光刻膠層的分布均勻，滿足液晶面板TFT或彩膜濾光片的要求，而且還可以避免磁性顆粒干擾顯示面板的正常顯示。
[0039]為了避免載體的待涂面3a外緣處的待涂物7外流，涂布裝置10還包括設(shè)置在承載面2a的邊緣處下方的恒定磁場源6。恒定磁場源6處于虛線框B外并圍繞著虛線框B分布，而交變磁場源5處于虛線框B內(nèi)。恒定磁場源6構(gòu)造成能夠促使磁性顆粒在待涂面3a的邊緣處進(jìn)行堆積，從而阻止待涂物7外流。由此，可以避免資源浪費(fèi)，擴(kuò)大涂布后載體的可利用面積，從而省略后續(xù)的切邊步驟，提高生產(chǎn)效率。
[0040]如圖2所示，恒定磁場源6可為輸入直流電流的第二電磁鐵組。第二電磁鐵組由多個(gè)環(huán)繞在交變磁場源外的第二電磁鐵601組成，任意相鄰的第二電磁鐵601的間隔距離L3為定值。第二電磁鐵601既可以是U形電磁鐵，也可以條形電磁鐵。這種間隔距離相等的第二電磁鐵601能夠產(chǎn)生均勻電場，以使待涂面3a的邊緣處的磁性顆粒的分布比較均勻。
[0041]除此之外，本發(fā)明還提供了一種涂布方法，其步驟包括:將混入磁性顆粒和待涂物涂布在載體的上；在待涂面上施加交變磁場以促使磁性顆粒在待涂物內(nèi)產(chǎn)生振動(dòng)，從而使得待涂物在待涂面上分布均勻。當(dāng)涂布在載體的待涂面上的待涂物分布不均時(shí)，待涂物內(nèi)振動(dòng)的磁性顆粒將促動(dòng)待涂物產(chǎn)生小范圍流動(dòng)，從而使其均勻分布在載體的待涂面上。
[0042]待涂物可為膠液或油漆，而載體可為玻璃基板、紙、布、樹脂或機(jī)械零部件等。通過這種涂布方法，可以避免因待涂物的分布不均而給待涂布后的載體帶來不良影響，例如漆層不均造成的美觀效果不佳、薄膜厚度不均造成的性能降低以及TFT玻璃和彩膜濾光片的玻璃基板上的光刻膠層不均造成的顯示異常。
[0043]根據(jù)本發(fā)明的交變磁場由輸入交變電流的電磁鐵組形成，當(dāng)然也可以由能夠切換永磁體磁極的裝置形成。但是，由于電磁鐵組形成的交變磁場的靈活性較強(qiáng)，因此在改變輸入的交變電流同時(shí)能夠改變磁場強(qiáng)度和交變頻率，以使該涂布方法適用于不同厚度的涂布于待涂面的待涂物層。
[0044]在一個(gè)實(shí)施例中，電磁鐵組是由以陣列分布的電磁鐵組成的。見圖2，陣列由多個(gè)排和多個(gè)列組成，各排內(nèi)的任意相鄰電磁鐵的間距LI均等于各列內(nèi)的任意相鄰電磁鐵的間距L2。這種陣列分布的電磁鐵組能夠產(chǎn)生大致均勻的電磁場，促使運(yùn)動(dòng)在磁場內(nèi)大部分磁性顆粒運(yùn)動(dòng)大致相同，進(jìn)一步促使待涂物在載體的待涂面上分布均勻。
[0045]在一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施例中，交變電流為恒定頻率的交變電流。當(dāng)電磁鐵組輸入恒定頻率的交變電流時(shí)，電磁鐵組能夠產(chǎn)生均勻有序的變化磁場，使得其作用于各磁性顆粒的磁力和時(shí)間相等，從而使得各磁性顆粒的往復(fù)運(yùn)動(dòng)的行程大致相同，更進(jìn)一步地促使待涂物在載體的待涂面上分布均勻。
[0046]在一個(gè)實(shí)施例中，待涂物為光刻膠，而載體為制造液晶面板TFT玻璃或彩膜濾光片的玻璃基板。使用根據(jù)本發(fā)明的涂布方法在玻璃基板上涂布的光刻膠，能夠確保涂布于玻璃基板的光刻膠層的分布趨近于均勻，進(jìn)而避免在顯示屏上出現(xiàn)宏觀色不均。
[0047]電流頻率的交流電流的頻率選擇成大于3000Hz,磁性顆粒選擇成能夠在1500C _300°C時(shí)失去磁性的且粒徑為10-99nm的顆粒，每毫升混合物內(nèi)含有100-200粒磁性顆粒。其中，所述的磁性顆?？蓛?yōu)選為鐵氧體顆?；騈dFeB顆粒。通過這種方法，不僅可以確保光刻膠層的分布均勻，滿足液晶面板TFT或彩膜濾光片的需求，而且還可以避免磁性顆粒干擾顯示屏的正常顯示。
[0048]為了避免載體的待涂面外緣處的待涂物外流，可在待涂面的邊緣處施加恒定磁場，以促使磁性顆粒在待涂面的邊緣處進(jìn)行堆積，從而阻止待涂物外流。由此，可以避免資源浪費(fèi)，提高涂布后載體的可利用面積，從而可以省略后續(xù)的切邊步驟，提高生產(chǎn)效率。
[0049]需要說明的是，由于本領(lǐng)域技術(shù)人員根據(jù)實(shí)際的載體3和待涂物7能夠選擇合適的電壓、電流和電磁鐵線圈圈數(shù)等參數(shù)，因此為了節(jié)約篇幅不再詳述。
[0050]根據(jù)本發(fā)明的涂布方法及涂布裝置10能夠把待涂物均勻涂布在載體的待涂面上，以避免因待涂物的分布不均而給載體帶來不良影響，例如因光刻膠的分布不均而造成液晶面板的宏觀色不均。
[0051]雖然已經(jīng)參考優(yōu)選實(shí)施例對本發(fā)明進(jìn)行了描述，但在不脫離本發(fā)明的范圍的情況下，可以對其進(jìn)行各種改進(jìn)并且可以用等效物替換其中的部件。尤其是，只要不存在結(jié)構(gòu)沖突，各個(gè)實(shí)施例中所提到的各項(xiàng)技術(shù)特征均可以任意方式組合起來。本發(fā)明并不局限于文中公開的特定實(shí)施例，而是包括落入權(quán)利要求的范圍內(nèi)的所有技術(shù)方案。
【權(quán)利要求】
1.一種涂布方法，其特征在于，包括步驟: 步驟I，將混入磁性顆粒和待涂物涂布在載體的待涂面上； 步驟2，在所述待涂面上施加交變磁場，以促使所述磁性顆粒在所述待涂物內(nèi)產(chǎn)生振動(dòng)，從而使得所述待涂物在所述待涂面上均勻分布。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的涂布方法，其特征在于，所述交變磁場由輸入交變電流的電磁鐵組形成。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的涂布方法，其特征在于，所述電磁鐵組由以陣列分布的電磁鐵組成，所述陣列由多個(gè)排和多個(gè)列組成，所述排內(nèi)任意相鄰的所述電磁鐵的間距等于所述列內(nèi)任意相鄰的所述電磁鐵的間距。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的涂布方法，其特征在于，所述交變電流為恒定頻率的交流電流。
5.根據(jù)權(quán)利要求1到4中任一項(xiàng)所述的涂布方法，其特征在于，所述待涂物為光刻膠，而所述載體為制造液晶面板TFT玻璃或彩膜濾光片的玻璃基板。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的涂布方法，其特征在于，所述交流電流的頻率大于3000Hz，所述磁性顆粒選擇成能夠在150°C _300°C時(shí)失去磁性的且粒徑為10-99nm的顆粒，每毫升所述混合物內(nèi)含有100-200粒所述磁性顆粒。
7.根據(jù)權(quán)利要求1到4中任一項(xiàng)所述的涂布方法，其特征在于，在步驟2中，在所述待涂面的邊緣處施加恒定磁場，以促使所述磁性顆粒在所述待涂面的邊緣處進(jìn)行堆積，以阻止所述待涂物外流。
8.一種涂布裝置，其包括用于放置載體的承載面，其特征在于，所述涂布裝置還包括能夠把混入磁性顆粒的待涂物涂布在所述載體的待涂面上的涂布機(jī)構(gòu)，以及設(shè)在所述承載面下方的交變磁場源，其中，所述交變磁場源構(gòu)造成能夠在所述待涂面上產(chǎn)生交變磁場，并促使所述磁性顆粒在所述待涂物內(nèi)產(chǎn)生振動(dòng)，從而使所述待涂物在所述待涂面上均勻分布。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的涂布裝置，其特征在于，所述交變磁場源為輸入交流電流的第一電磁鐵組。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的涂布裝置，其特征在于，所述電第一磁鐵組由以陣列分布的第一電磁鐵組成，所述陣列由多個(gè)排和多個(gè)列組成，所述排內(nèi)任意相鄰的所述第一電磁鐵的間距等于所述列內(nèi)任意相鄰的所述第一電磁鐵的間距。
11.根據(jù)權(quán)利要求8所述的涂布裝置，其特征在于，所述交流電流為恒定頻率的交流電流。
12.根據(jù)權(quán)利要求7到11中任一項(xiàng)所述的涂布裝置，其特征在于，所述待涂物為光刻膠，而所述載體為制造液晶面板TFT玻璃或彩膜濾光片的玻璃基板。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的涂布裝置，其特征在于，所述交流電流的頻率大于3000Hz，所述磁性顆粒選擇成能夠在150°C _300°C時(shí)失去磁性的且粒徑為10-99nm的顆粒，每毫升所述混合物內(nèi)含有100-200粒所述磁性顆粒。
14.根據(jù)權(quán)利要求7到11中任一項(xiàng)所述的涂布裝置，其特征在于，還包括設(shè)置在所述承載面的邊緣處下方的恒定磁場源，所述恒定磁場源構(gòu)造成能夠促使所述磁性顆粒在所述待涂面的邊緣處進(jìn)行堆積，從而阻止所述待涂物外流。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的涂布裝置，其特征在于，所述恒定磁場為輸入直流電流的第二電磁鐵組，所述第二電磁鐵組由多個(gè)環(huán)繞在所述交變磁場源外的電磁鐵組成，任意相鄰所述第二電磁鐵的間隔距離為定值。
【文檔編號】B05C13/02GK104353594SQ201410648230
【公開日】2015年2月18日 申請日期:2014年11月14日 優(yōu)先權(quán)日:2014年11月14日
【發(fā)明者】宋江江 申請人:深圳市華星光電技術(shù)有限公司