一種耐指紋表面處理劑及其使用方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種耐指紋表面處理劑及其使用方法，所述的耐指紋表面處理劑由有機硅氧烷、溶劑和添加劑組成。利用有機硅氧烷為主體對金屬基材表面進行處理，經(jīng)過處理的表面具有疏水、疏油的耐指紋特點，而且不會形成肉眼可見的涂層，不影響表面的光學(xué)性質(zhì)和功能測試。該處理劑廉價易得，處理方法操作簡便，重復(fù)性好，實用性強。尤其適用于防止產(chǎn)品表面水漬、汗液、指紋等污染。
【專利說明】一種耐指紋表面處理劑及其使用方法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明屬于表面處理領(lǐng)域，具體涉及一種耐指紋表面處理劑及其使用方法。

【背景技術(shù)】
[0002]在制造行業(yè)，產(chǎn)品經(jīng)清洗后容易殘留水潰，且在運輸、裝配過程中又容易受到沾染人體汗液中油脂，這些污染極大地影響了制造的良品率，造成重大經(jīng)濟損失。目前針對水潰、汗液和指紋等污染問題的解決方案主要是采用涂覆耐指紋涂層，常見方法有物理氣相沉積法和濕化學(xué)法2種。氟硅材料由于其較小的表面張力而具有良好的疏水、疏油的耐指紋性能，而被廣泛用作耐指紋材料。譬如通過物理氣相沉積法蒸鍍氟硅低表面能材料，得到的耐指紋手機屏幕、外殼等產(chǎn)品；或者通過濕化學(xué)法浸涂氟硅等低表面能材料得到的耐指紋鋼板等產(chǎn)品。
[0003]專利200710043176.5提供了一種有機預(yù)涂金屬板上硅氧氟涂層的制備方法。利用等離子體增強化學(xué)氣相沉積技術(shù)，經(jīng)過等離子體清洗后，以加熱的氟硅材料作為原料，在金屬板表面鍍上一層氟氧硅涂層，具有較好疏水效果。專利200810033610.6制備了耐蝕耐指紋的表面處理劑。化學(xué)成分的重量百分配比為7?45%有機高分子樹脂、2?15%有機硅樹脂溶液、0.5?10%水系蠟、0.5?10%納米氧化物、0.1?20%金屬化合物、0.1?15%硅烷混合物，其余為水。專利201280027595.9發(fā)明了一種疏水性烴涂層。首先利用酸燒結(jié)的S12納米顆粒和含甲硅烷基的物質(zhì)形成底漆層，然后在底漆基礎(chǔ)上附接一層疏水性烴涂層，最佳條件下可實現(xiàn)靜態(tài)水接觸角138°。
[0004]由于PVD或CVD操作工藝有較高要求，需要高溫、高功率等必要條件；而且處理周期長，技術(shù)成本高，限制了其普遍應(yīng)用?，F(xiàn)有的濕化學(xué)涂布技術(shù)不限制產(chǎn)品材質(zhì)，但是耐指紋處理劑成分復(fù)雜，所得到的耐指紋涂層大多具有肉眼可見的厚度，即便是透光率較高，也會對產(chǎn)品外觀產(chǎn)生一定影響，難以滿足很多產(chǎn)品對外觀顏色和色澤有的嚴格要求。因此，開發(fā)對外觀無干擾的耐指紋處理劑及簡便、快速的處理方法顯得十分重要。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明的目的在于提供一種耐指紋表面處理劑及其使用方法，經(jīng)過處理的表面具有疏水、疏油的耐指紋性能和耐腐蝕性能，而且表面形成的納米尺度超薄膜不影響其光學(xué)性質(zhì)和功能測試。該處理劑廉價易得，處理方法操作簡便，重復(fù)性好，實用性強。尤其適用于防止產(chǎn)品表面水潰、汗液、指紋等污染。
[0006]為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用如下技術(shù)方案:
一種耐指紋表面處理劑由有機硅氧烷、溶劑和添加劑組成。
[0007]各組分的重量百分數(shù)為:有機硅氧烷0.0Of 30%、溶劑6(Γ99.99%、添加劑
0.001?10%，各組分的重量百分數(shù)之和為100%。
[0008]所述的有機硅氧烷為氟基硅氧烷、乙烯基硅氧烷、苯基硅氧烷、環(huán)氧基硅氧烷、氨基娃氧燒、疏基娃氧燒中的一種或多種。
[0009]所述的溶劑為水、乙醇中的一種或多種。
[0010]所述的添加劑為十二烷基磺酸鈉、三乙醇胺、四甲基胺、十六胺、苯甲酸鈉、乙二胺四乙酸二鈉、氨基酸鈉、葡萄糖酸鈉、硅酸鈉、鑰酸鈉、鎢酸鈉、錫酸鈉、偏硅酸鈉中的一種或多種。
[0011]一種使用如上所述的耐指紋表面處理劑的方法:在金屬基材表面涂布所述的耐指紋表面處理劑，然后在2(T20(TC下烘干。
[0012]所述的涂布包括浸涂、嗔涂、刷涂和棍涂。
[0013]所述的金屬基材為金屬和非金屬材料表面的金屬鍍層。
[0014]本發(fā)明的顯著優(yōu)點在于:
1、表面形成肉眼不可見的超薄膜，不影響表面外觀和色澤。
[0015]2、處理之后，疏水效果明顯得到改善。
[0016]3、處理劑直接修飾在產(chǎn)品表面，結(jié)合力強，反應(yīng)迅速。
[0017]4、耐指紋處理劑同時具有耐腐蝕的功能。
[0018]5、采用本處理方法不需要重新布置工藝流程和線路，投資成本低。
[0019]6、處理方法操作簡便，重復(fù)性好。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0020]圖1是未處理前和經(jīng)過處理的拉出式龍頭外觀對比圖。
[0021]圖2是未處理前和經(jīng)過處理的拉出式龍頭表面水滴測試對比圖。

【具體實施方式】
[0022]實施例1
首先按重量配比制備表面處理劑如下:90%水、5%三氟丙基三甲氧基硅烷、2%十二烷基磺酸鈉、3%三乙醇胺，混合均勻，接著，將拉出式龍頭浸泡到以上溶液中，f 10分鐘后取出，60°C烘干。
[0023]對比未處理前和經(jīng)過處理的拉出式龍頭表面外觀對比圖，結(jié)果見圖1。
[0024]對比未處理前和經(jīng)過處理的拉出式龍頭表面水滴測試，結(jié)果見圖2。
[0025]實施例2
參照實施例1中，將“拉出式龍頭”替換為“花灑”，其他條件不變。
[0026]實施例3
首先按重量配比制備表面處理劑如下:95.99%水、0.005%乙烯基三乙氧基硅烷、
0.005%十八胺、2%鑰酸鈉、2%錫酸鈉，混合均勻，接著，將花灑浸泡到以上溶液中，Γ10分鐘后取出，60°C烘干。
[0027]實施例4
首先按重量配比制備表面處理劑如下:60%乙醇、30%乙烯基三乙氧基硅烷、5%三乙醇胺、5%鎢酸鈉，混合均勻，接著，將花灑浸泡到以上溶液中，Γ10分鐘后取出，60°C烘干。
[0028]實施例5
首先按重量配比制備表面處理劑如下:50%水、40%乙醇、8%乙烯基三乙氧基硅烷、1%鑰酸鈉、1%六次四甲基亞胺，混合均勻，接著，將花灑浸泡到以上溶液中，廣10分鐘后取出，60°C烘干。
[0029]實施例6
首先按重量配比制備表面處理劑如下:80%水、10%乙醇、0.5%乙烯基三乙氧基硅烷、2%乙二胺四乙酸二鈉、2%葡萄糖酸鈉、2%氨基酸鈉，混合均勻，接著，將花灑浸泡到以上溶液中，1^10分鐘后取出，60°C烘干。
[0030]實施例7
首先按重量配比制備表面處理劑如下:80%水、10%乙醇、2%苯基三乙氧基硅烷、2%環(huán)氧基硅氧烷、0.5%錫酸鈉、0.5%苯甲酸鈉，混合均勻，接著，將花灑浸泡到以上溶液中，f 10分鐘后取出，60°C烘干。
[0031]實施例8
首先按重量配比制備表面處理劑如下:90%水、5%三氟丙基三甲氧基硅烷、2%十二烷基磺酸鈉、3%三乙醇胺，混合均勻，利用噴槍將處理劑噴涂在花灑表面，60°C烘干。其中，噴槍采用0.1MPa空氣壓力，產(chǎn)品距離噴口 30厘米。
[0032]實施例9
首先按重量配比制備表面處理劑如下:90%水、5%三氟丙基三甲氧基硅烷、2%十二烷基磺酸鈉、3%三乙醇胺，混合均勻，利用毛刷將處理劑刷涂在花灑表面，60°C烘干。其中，刷涂的線速度為10 cm/min,來回刷涂3、遍即可。
[0033]以上所述僅為本發(fā)明的較佳實施例，凡依本發(fā)明申請專利范圍所做的均等變化與修飾，皆應(yīng)屬本發(fā)明的涵蓋范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種耐指紋表面處理劑，其特征在于:由有機硅氧烷、溶劑和添加劑組成。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的耐指紋表面處理劑，其特征在于:各組分的重量百分數(shù)為:有機硅氧烷0.0Ol?30%、溶劑60?99.99%、添加劑0.001?10%，各組分的重量百分數(shù)之和為100% ο
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的耐指紋表面處理劑，其特征在于:所述的有機硅氧烷為氟基硅氧烷、乙烯基硅氧烷、苯基硅氧烷、環(huán)氧基硅氧烷、氨基硅氧烷、巰基硅氧烷中的一種或多種。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的耐指紋表面處理劑，其特征在于:所述的溶劑為水、乙醇中的一種或多種。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的耐指紋表面處理劑，其特征在于:所述的添加劑為十二烷基磺酸鈉、三乙醇胺、四甲基胺、十六胺、苯甲酸鈉、乙二胺四乙酸二鈉、氨基酸鈉、葡萄糖酸鈉、硅酸鈉、鑰酸鈉、鎢酸鈉、錫酸鈉、偏硅酸鈉中的一種或多種。
6.一種使用如權(quán)利要求1所述的耐指紋表面處理劑的方法，其特征在于:在金屬基材表面涂布所述的耐指紋表面處理劑，然后在2(T20(TC下烘干。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于:所述的涂布包括浸涂、噴涂、刷涂和輥涂。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于:所述的金屬基材為金屬和非金屬材料表面的金屬鍍層。
【文檔編號】C09D5/00GK104448999SQ201410673362
【公開日】2015年3月25日 申請日期:2014年11月18日 優(yōu)先權(quán)日:2014年11月18日
【發(fā)明者】林志敏, 劉圣杰, 余澤峰, 謝英偉 申請人:廈門建霖工業(yè)有限公司