本申請(qǐng)涉及顯示領(lǐng)域，具體涉及一種抗指紋減反射材料、抗指紋減反射膜及顯示裝置。

背景技術(shù)：

1、在顯示器的使用過(guò)程中，外部的入射光在顯示器表面反射，反射的圖像與顯示器顯示的圖像混合，會(huì)造成顯示圖像的清晰度下降，用戶難以清晰觀察顯示圖像，并且會(huì)造成眼睛疲勞，因此，需要通常需要賦予顯示器表面防反射功能。

2、減反射涂層可實(shí)現(xiàn)顯示器表面的防反射功能，現(xiàn)有的減反射涂層通常是紫外光固化材料，該類材料通過(guò)光引發(fā)劑吸收紫外線能量生成自由基，自由基與丙烯酸酯類單體或低聚物反應(yīng)形成涂層。這類材料需要單獨(dú)加入光引發(fā)劑，而常用的光引發(fā)劑如膦氧化合物(tpo)已被歐盟echa列為cmr生殖毒性1b，對(duì)人類健康產(chǎn)生危害，被限制使用或禁用。

3、另一方面，中尺寸以及小尺寸顯示器在使用時(shí)容易沾染指紋影響顯示效果，因此顯示器表面的減反射涂層會(huì)包含抗指紋af(anti-finger)效果，目前有兩種途徑可以實(shí)現(xiàn)抗指紋：一種是在減反射涂層表面單獨(dú)沉積一層af層，但af層經(jīng)時(shí)穩(wěn)定性不佳，隨著時(shí)間延長(zhǎng)af層會(huì)降解失去af效果；其二是在減反射涂層的紫外光固化材料中加入af助劑，通過(guò)交聯(lián)反應(yīng)使af助劑固定在分子鏈上，其穩(wěn)定性好，但這種af助劑價(jià)格昂貴，成本高。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本申請(qǐng)的實(shí)施例提供一種抗指紋減反射材料、抗指紋減反射膜及顯示裝置，本申請(qǐng)?zhí)峁┑目怪讣y減反射材料、抗指紋減反射膜無(wú)需添加光引發(fā)劑即可實(shí)現(xiàn)減反射和抗指紋效果，使用安全且成本較低。

2、本申請(qǐng)的實(shí)施例提供一種抗指紋減反射材料，所述抗指紋減反射材料包括組分a、組分b以及組分c；

3、所述組分a具有式ⅰ所表示的結(jié)構(gòu)：

4、

5、其中，n≥1，m≥1，n、m為整數(shù)；

6、r1表示烷基、芳香基團(tuán)、雜環(huán)基團(tuán)，或這些基團(tuán)的組合；

7、r2表示烷基、烷氧基、酮基、芳香基團(tuán)，或這些基團(tuán)的組合；

8、r3表示烷基，r3基團(tuán)末端的h不取代或至少一個(gè)h被oh取代；

9、r4表示烷基或烷氧基；

10、所述組分b包括減反射粒子；

11、所述組分c包括溶劑。

12、在一些實(shí)施例中，所述組分b為丙烯酸異氰基乙酯修飾的中空二氧化硅微球，具有如下結(jié)構(gòu)：

13、

14、在一些實(shí)施例中，n≥6和/或m≥3。

15、在一些實(shí)施例中，所述組分a具有式ⅰ-1或式ⅰ-2所表示的結(jié)構(gòu)：

16、

17、在一些實(shí)施例中，所述中空二氧化硅微球的粒徑范圍為10nm～200nm，殼層厚度范圍為1nm～10nm，中空率≥50％。

18、在一些實(shí)施例中，所述抗指紋減反射材料中以質(zhì)量份數(shù)計(jì)包括：60～90份組分a、10～40份組分b和1000～5000份組分c。

19、本申請(qǐng)的實(shí)施例還提供一種抗指紋減反射膜，所述抗指紋減反射膜包括：

20、基材層；以及

21、抗指紋減反射涂層，設(shè)置于所述基材層上；

22、其中，所述抗指紋減反射涂層由如上所述的抗指紋減反射材料光固化形成。

23、在一些實(shí)施例中，所述抗指紋減反射膜的折射率范圍為1.25～1.35。

24、在一些實(shí)施例中，所述抗指紋減反射膜的反射率r≤1.5％。

25、本申請(qǐng)的實(shí)施例還提供一種顯示裝置，所述顯示裝置包括如上所述的抗指紋減反射膜。

26、本申請(qǐng)?zhí)峁┑目怪讣y減反射材料包括組分a、組分b以及組分c，其中，組分a的結(jié)構(gòu)中包括全氟側(cè)基、芳基酮基與丙烯酰氧基等基團(tuán)，組分a中的全氟側(cè)基可實(shí)現(xiàn)抗指紋效果，組分a中的芳基酮基與丙烯酰氧基在光照下可自引發(fā)聚合形成涂層，不需要額外加入光引發(fā)劑；組分b包括減反射粒子，組分a與組分b結(jié)合可同時(shí)實(shí)現(xiàn)減反射效果。本申請(qǐng)?zhí)峁┑目怪讣y減反射材料、抗指紋減反射膜能夠?qū)崿F(xiàn)抗指紋和減反射減的效果，無(wú)需添加光引發(fā)劑，使用安全且成本較低。

技術(shù)特征：

1.一種抗指紋減反射材料，其特征在于，包括組分a、組分b以及組分c；

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的抗指紋減反射材料，其特征在于，所述組分b為丙烯酸異氰基乙酯修飾的中空二氧化硅微球，具有如下結(jié)構(gòu)：

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的抗指紋減反射材料，其特征在于，n≥6和/或m≥3。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的抗指紋減反射材料，其特征在于，所述組分a具有式ⅰ-1或式ⅰ-2所表示的結(jié)構(gòu)：

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的抗指紋減反射材料，其特征在于，所述中空二氧化硅微球的粒徑范圍為10nm～200nm，殼層厚度范圍為1nm～10nm，中空率≥50％。

6.根據(jù)權(quán)利要求1至5任一項(xiàng)所述的抗指紋減反射材料，其特征在于，所述抗指紋減反射材料中以質(zhì)量份數(shù)計(jì)包括：60～90份組分a、10～40份組分b和1000～5000份組分c。

7.一種抗指紋減反射膜，其特征在于，包括：

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的抗指紋減反射膜，其特征在于，所述抗指紋減反射膜的折射率范圍為1.25～1.35。

9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的抗指紋減反射膜，其特征在于，所述抗指紋減反射膜的反射率r≤1.5％。

10.一種顯示裝置，其特征在于，包括如權(quán)利要求7至9任一項(xiàng)所述的抗指紋減反射膜。

技術(shù)總結(jié)
本申請(qǐng)涉及一種抗指紋減反射材料、抗指紋減反射膜及顯示裝置，所述抗指紋減反射材料包括組分A、組分B以及組分C，其中，組分A中的全氟側(cè)基可實(shí)現(xiàn)抗指紋效果，組分A中的芳基酮基與丙烯酰氧基在光照下可自引發(fā)聚合形成涂層，不需要額外加入光引發(fā)劑，組分A與組分B的結(jié)合可同時(shí)實(shí)現(xiàn)減反射效果。本申請(qǐng)?zhí)峁┑目怪讣y減反射材料、抗指紋減反射膜能夠?qū)崿F(xiàn)抗指紋和減反射減的效果，無(wú)需添加光引發(fā)劑，使用安全且成本較低。

技術(shù)研發(fā)人員：鮑愛兵,周淼
受保護(hù)的技術(shù)使用者：廣州華睿光電材料有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2024/12/23