丙酮、無水乙醇和去離子水超聲清洗帶ITO的玻璃襯底，并用對其進行氧等離子處理，放入真空腔體。把靶材和襯底的距離設(shè)定為95mm。用機械泵和分子泵把腔體的真空度抽到1.0X10_5Pa，氧氣的工作氣體流量為35SCCm，壓強調(diào)節(jié)為4.0Pa，襯底溫度為750°C，得到的樣品的化學式為SrAla86NbO5:0.08Eu3+，0.06Tb3+的發(fā)光薄膜，然后將得到的發(fā)光薄膜在真空度中真空度為0.0lPa,退火溫度為800°C，退火處理3h，然后在發(fā)光薄膜上面蒸鍍一層Ag,作為陰極。
[0082]實施例7
[0083]選用純度為99.99%的粉體，將BaO，Al2O3, Nb2O5, Eu2O3和Tb4O7粉體按照摩爾數(shù)為Immol, 0.465mmol, 0.5mmol, 0.02mmol 和 0.0075mmol 進行混合，經(jīng)過均勻混合后，在 125CTC下燒結(jié)成直徑為50mm，厚度為2mm的陶瓷靶材，并將靶材裝入真空腔體內(nèi)。然后，先后用丙酮、無水乙醇和去離子水超聲清洗帶ITO的玻璃襯底，并用對其進行氧等離子處理，放入真空腔體。把靶材和襯底的距離設(shè)定為60mm。用機械泵和分子泵把腔體的真空度抽到5.0X10_4Pa，氧氣的工作氣體流量為25sccm，壓強調(diào)節(jié)為2.0Pa，襯底溫度為500°C，得到的樣品的化學式為BaAla93NbO5:0.04Eu3+，0.03Tb3+的發(fā)光薄膜，然后將得到的發(fā)光薄膜在真空度中真空度為0.0lPa,退火溫度為600°C，退火處理2h，然后在發(fā)光薄膜上面蒸鍍一層Ag,作為陰極。
[0084]實施例8
[0085]選用純度為99.99%的粉體，將BaO，Al2O3, Nb2O5, Eu2O3和Tb4O7粉體按照摩爾數(shù)為Immol, 0.49mmol, 0.5mmol, 0.005mmol 和 0.0025mmol 進行混合，經(jīng)過均勻混合后，在 900°C下燒結(jié)成直徑為50mm，厚度為2mm的陶瓷靶材，并將靶材裝入真空腔體內(nèi)。然后，先后用丙酮、無水乙醇和去離子水超聲清洗帶ITO的玻璃襯底，并用對其進行氧等離子處理，放入真空腔體。把靶材和襯底的距離設(shè)定為45mm。用機械泵和分子泵把腔體的真空度抽到
1.0X10_3Pa，氧氣的工作氣體流量為lOsccm，壓強調(diào)節(jié)為0.2Pa，襯底溫度為250°C。得到的樣品的化學式為BaAla98NbO5:0.0lEu3+, 0.0lTb3+的發(fā)光薄膜，然后將得到的發(fā)光薄膜在真空度中真空度為0.0lPa，退火溫度為500°C，退火處理lh，然后在發(fā)光薄膜上面蒸鍍一層Ag,作為陰極。
[0086]實施例9
[0087]選用純度為99.99%的粉體，將BaO，Al2O3, Nb2O5, Eu2O3和Tb4O7粉體按照摩爾數(shù)為Immol, 0.43mmol, 0.5mmol, 0.04mmo1 和 0.015mmo I 進行混合，經(jīng)過均勻混合后，在 1300 °C下燒結(jié)成直徑為50mm，厚度為2mm的陶瓷靶材，并將靶材裝入真空腔體內(nèi)。然后，先后用丙酮、無水乙醇和去離子水超聲清洗帶ITO的玻璃襯底，并用對其進行氧等離子處理，放入真空腔體。把靶材和襯底的距離設(shè)定為95mm。用機械泵和分子泵把腔體的真空度抽到1.0X10_5Pa，氧氣的工作氣體流量為35SCCm，壓強調(diào)節(jié)為4.0Pa，襯底溫度為750°C，得到的樣品的化學式為BaAla86NbO5:0.08Eu3+，0.06Tb3+的發(fā)光薄膜，然后將得到的發(fā)光薄膜在真空度中真空度為0.0lPa,退火溫度為800°C，退火處理3h，然后在發(fā)光薄膜上面蒸鍍一層Ag,作為陰極。
[0088]以上所述實施例僅表達了本發(fā)明的幾種實施方式，其描述較為具體和詳細，但并不能因此而理解為對本發(fā)明專利范圍的限制。應(yīng)當指出的是，對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本發(fā)明構(gòu)思的前提下，還可以做出若干變形和改進，這些都屬于本發(fā)明的保護范圍。因此，本發(fā)明專利的保護范圍應(yīng)以所附權(quán)利要求為準。
【主權(quán)項】
1.一種銪鋱共摻雜鋁鈮酸鹽發(fā)光材料，其特征在于:其化學式為MeAll_x_yNb05:xEu3+, yTb3+,MeAl!^yNbO5是基質(zhì)，Eu3+和Tb3+離子是激活元素，其中，x為0.01?0.08，y為0.01?0.06, Me為I丐元素、銀元素和鋇元素中的一種。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光材料，其特征在于:所述X為0.04，y為0.03。
3.—種銪鋱共摻雜鋁鈮酸鹽發(fā)光材料的制備方法，其特征在于，包括以下步驟: 根據(jù) MeAlnyNbO5:xEu3+, yTb3+各元素的化學計量比稱取Me0，Al203，Nb205，Eu203 和 Tb4O7粉體并混合均勻，其中，X為0.01?0.08, y為0.01?0.06, MeO為氧化|丐、氧化銀和氧化鋇中的一種 '及 將混合均勻的粉體在900 °C?1300 °C下燒結(jié)0.5小時?5小時即得到化學式為MeAl1^yNbO5:xEu3+, yTb3+的銪鋱共摻雜鋁鈮酸鹽發(fā)光材料，x為0.01?0.08，y為0.01?0.06, Me為I丐元素、銀元素和鋇元素中的一種。
4.一種銪鋱共摻雜鋁鈮酸鹽發(fā)光薄膜，其特征在于，該銪鋱共摻雜鋁鈮酸鹽發(fā)光薄膜的材料的化學通式為MeAlnyNbO5:xEu3+, yTb3+，MeAl1^yNbO5是基質(zhì)，Eu3+和Tb3+離子是激活元素，其中，X為0.01?0.08, y為0.01?0.06, Me為I丐元素、銀元素和鋇元素中的一種。
5.一種銪鋱共摻雜鋁鈮酸鹽發(fā)光薄膜的制備方法，其特征在于，包括以下步驟: 根據(jù) MeAlnyNbO5:xEu3+, yTb3+各元素的化學計量比稱取Me0，Al203，Nb205，Eu203 和 Tb4O7粉體并混合均勻，將混合均勻的粉體在900°C?1300°C下燒結(jié)0.5小時?5小時得到靶材，其中，X為0.01?0.08, y為0.01?0.06, MeO為氧化I丐、氧化銀和氧化鋇中的一種； 將所述靶材以及襯底裝入磁控濺射鍍膜設(shè)備的真空腔體，并將真空腔體的真空度設(shè)置為 1.0 X KT3Pa ?1.0 X KT5Pa ;及 調(diào)整磁控濺射鍍膜工藝參數(shù)為:基靶間距為45mm?95mm，磁控濺射工作壓強0.2Pa?4Pa，工作氣體的流量為1sccm?35sCCm，襯底溫度為250°C?750°C，接著進行制膜，得到化學式為MeAlmNbO5:xEu3+, yTb3+的銪鋱共摻雜鋁鈮酸鹽發(fā)光薄膜，x為0.01?0.08，y為0.01?0.06, Me為I丐元素、銀元素和鋇元素中的一種。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的銪鋱共摻雜鋁鈮酸鹽發(fā)光薄膜的制備方法，其特征在于，還包括步驟:將所述銪鋱共摻雜鋁鈮酸鹽發(fā)光薄膜于50(TC?80(TC下真空退火處理Ih?3h。
7.一種薄膜電致發(fā)光器件，該薄膜電致發(fā)光器件包括依次層疊的襯底、陽極層、發(fā)光層以及陰極層，其特征在于，所述發(fā)光層的材料為銪鋱共摻雜鋁鈮酸鹽發(fā)光材料，該銪鋱共摻雜鋁鈮酸鹽發(fā)光材料的化學式為MeAlmNbO5:xEu3+, yTb3+,MeAl1^yNbO5是基質(zhì)，Eu3+和Tb3+離子是激活元素，其中，X為0.01?0.08, y為0.01?0.06,Me為|丐元素、銀元素和鋇元素中的一種。
8.一種薄膜電致發(fā)光器件的制備方法，其特征在于，包括以下步驟: 提供具有陽極的襯底； 在所述陽極上形成發(fā)光層，所述發(fā)光層的材料為銪鋱共摻雜鋁鈮酸鹽發(fā)光材料，該銪鋱共摻雜鋁鈮酸鹽發(fā)光材料的化學式為MeAll-XiNbO5:xEu3+, yTb3+，MeAl1^yNbO5是基質(zhì)，Eu3+和Tb3+離子是激活元素，其中，X為0.01?0.08, y為0.01?0.06, Me為I丐元素、銀元素和鋇元素中的一種； 在所述發(fā)光層上形成陰極。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的薄膜電致發(fā)光器件的制備方法，其特征在于，所述發(fā)光層的制備包括以下步驟: 根據(jù) MeAlnyNbO5:xEu3+, yTb3+各元素的化學計量比稱取Me0，Al203，Nb205，Eu203 和 Tb4O7粉體并混合均勻在900°C?1300°C下燒結(jié)0.5小時?5小時制成靶材，其中，x為0.01?0.08, y為0.01?0.06, MeO為氧化I丐、氧化銀和氧化鋇中的一種； 將所述靶材以及所述襯底裝入磁控濺射鍍膜設(shè)備的真空腔體，并將真空腔體的真空度設(shè)置為 1.0X KT3Pa ?1.0X KT5Pa ； 調(diào)整磁控濺射鍍膜工藝參數(shù)為:基靶間距為45mm?95mm，磁控濺射工作壓強0.2Pa?4Pa，工作氣體的流量為1sccm?35sCCm，襯底溫度為250°C?750°C，接著進行制膜，在所述陽極上形成發(fā)光層。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的薄膜電致發(fā)光器件的制備方法，其特征在于，還包括步驟:將所述銪鋱共摻雜鋁鈮酸鹽發(fā)光薄膜于500°C?800°C下真空退火處理Ih?3h。
【專利摘要】一種銪鋱共摻雜鋁鈮酸鹽發(fā)光材料，其化學式為MeAl1-x-yNbO5：xEu3+,yTb3+，MeAl1-x-yNbO5是基質(zhì)，Eu3+和Tb3+離子是激活元素，其中，x為0.01～0.08，y為0.01～0.06，Me為鈣元素、鍶元素和鋇元素中的一種。該銪鋱共摻雜鋁鈮酸鹽發(fā)光材料制成的發(fā)光薄膜的電致發(fā)光光譜（EL）中，在490nm和510nm波長區(qū)都有很強的發(fā)光峰，能夠應(yīng)用于薄膜電致發(fā)光顯示器中。本發(fā)明還提供該銪鋱共摻雜鋁鈮酸鹽發(fā)光材料的制備方法及其應(yīng)用。
【IPC分類】C09K11-67, H01L33-50
【公開號】CN104650869
【申請?zhí)枴緾N201310580990
【發(fā)明人】周明杰, 陳吉星, 王平, 黃輝
【申請人】海洋王照明科技股份有限公司, 深圳市海洋王照明技術(shù)有限公司, 深圳市海洋王照明工程有限公司
【公開日】2015年5月27日
【申請日】2013年11月18日