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      活性面貼付用切割膜及切割后被加工物拾取的方法

      文檔序號(hào):8538812閱讀:271來(lái)源:國(guó)知局
      活性面貼付用切割膜及切割后被加工物拾取的方法
      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001] 本發(fā)明涉及一種活性面貼付用切割膜及切割后被加工物拾取的方法。
      【背景技術(shù)】
      [0002] 歷來(lái),硅化合物,鍺系化合物,砷化鎵等作為材料的半導(dǎo)體晶圓,一般來(lái)說(shuō),制造后 需要做背面減薄,更進(jìn)一步,需要做相對(duì)應(yīng)的背面處理(刻蝕,拋光處理等)。然后在硅片背 面貼付切割膜,切割成小片,再進(jìn)行清洗,擴(kuò)膜,拾取,封裝等工序。
      [0003] 上述的切割膜,通常由塑料構(gòu)成的基材上,涂布,干燥由丙烯系構(gòu)成的粘著劑組成 物,形成粘著劑層(厚度約1~50 μ m),切割膜在實(shí)際切割時(shí),膜必須有能和硅片緊密貼付的 粘著力。從這點(diǎn)來(lái)看,列如,對(duì)硅片鏡面貼付的膜拾取的時(shí)候,一般需要?jiǎng)冸x的力(剝離角 度:15°,牽引速度150mm/min,貼膜時(shí)溫度23°,揭膜時(shí)溫度23° )。另一方面,切割后剝 膜時(shí),為了容易剝離,且不損壞硅片,就需要低粘性。切割膜對(duì)半導(dǎo)體芯片來(lái)說(shuō),不能留殘膠 (粘著劑層在硅片表面的殘留現(xiàn)象),污染低,也是非常重要的特點(diǎn)之一。作為有這種特點(diǎn)的 切割膜,例如分子量在ΚΓ5的低分子量的成分含有量在10%以下的聚合物所構(gòu)成的粘著 劑層的再剝離粘著膜。 上述拾取的工序,通常是在切割后硅片做擴(kuò)膜的工序后實(shí)行,擴(kuò)膜的工序是為了,切割 膜易于從半導(dǎo)體芯片上剝離的工序。而且這種擴(kuò)膜工序,切割膜在某種程度張開(kāi)的狀態(tài)下, 拾取的半導(dǎo)體芯片下方的切割膜點(diǎn)狀或線狀的形式向上提,芯片在這種情況下,處于易剝 離的狀態(tài),通過(guò)從上方吸真空的方式,是現(xiàn)在主流的拾取方式。
      [0004] 但是近年來(lái),隨著客戶的需求的不斷改進(jìn),生產(chǎn)時(shí)間的加緊,為了防止減薄后,硅 片的破損,(背面減薄工藝,減薄后破碎層除去工藝)等工藝完成后,數(shù)小時(shí)內(nèi),硅片不揭膜 的案例也在增加,還有破碎層除去工藝方面,會(huì)使用干磨(CMP處理,濕刻,干刻等)。
      [0005] 這樣的話,硅片背面減薄,出碎肩等數(shù)小時(shí)內(nèi)背面不揭膜的情況下,因?yàn)橘N膜時(shí)間 長(zhǎng),粘性又會(huì)回復(fù)到一個(gè)比較高的情況,拾取就會(huì)比較難實(shí)行,只是因?yàn)?,硅片的減薄面,自 然氧化膜尚未完全形成的狀態(tài)的活性面,同切割膜貼合,未氧化的活性原子和粘著劑層之 間起化學(xué)反應(yīng)。
      [0006] 活性面具體來(lái)說(shuō),就是自然氧化膜還未完全形成,為氧化狀態(tài)的活性原子(例如同 粘著劑層反應(yīng)的原子)存在的那一面。

      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0007] 針對(duì)上述問(wèn)題,本發(fā)明提供一種切割膜長(zhǎng)時(shí)間貼付活性面,在拾取的時(shí)候,也能容 易取下切割膜的活性面貼付用切割膜及切割后被加工物拾取的方法。
      [0008] 為達(dá)到上述發(fā)明目的,本發(fā)明活性面貼付用切割膜,包括基材,在所述基材至少一 面設(shè)有放射線硬化性粘著劑層,所述放射線硬化性粘著劑層包括重量平均分子量在50萬(wàn) 以上的丙烯系聚合物和/或從碳素-碳素二重結(jié)合基的氰脲酸酯系化合物中選取一種放射 線聚合性化合物,作為膠帶粘著劑層化合物成分的丙烯,烷基脂,占切割膜總體質(zhì)量的60% 以上,且聚合性方面作為使用含羥基單體經(jīng)聚合后得到的丙烯酸聚合物,側(cè)鎖部分羥基以 10/100~100/100,同與其反應(yīng)的官能基和含有碳素-碳素二重結(jié)合基反應(yīng),向聚合物導(dǎo)入 碳素-碳素二重化合物,重量平均分子量在50萬(wàn)以上的二重結(jié)合側(cè)鎖導(dǎo)入型丙烯系聚合 物,和碳素-碳素二重結(jié)合基的氰脲酸酯系化合物,以及從碳素-碳素二重結(jié)合基的氰脲酸 酯系化合物中選取一種放射線聚合性化合物(B),丙烯系聚合物(A),按100的重量比率,放 射線聚合性化合物(B)從5~150的重量比例,按此比例為特征的活性面貼付切割膜。
      [0009] 進(jìn)一步地,所述的反射線聚合性化合物的分子中,含有碳素-碳素二重結(jié)合基 2~12 個(gè)。
      [0010] 進(jìn)一步地,所述的放射線聚合性化合物碳素-碳素二重結(jié)合基,從乙烯基,芳基, 丙烯基,以及甲基丙烯基中選取一種。
      [0011] 進(jìn)一步地,丙烯系聚合物(A)的重量平均分子量在80萬(wàn)至300萬(wàn)。
      [0012] 進(jìn)一步地,所述的放射線硬化層粘著劑層為單層的形態(tài)或多層的形態(tài)。
      [0013] 進(jìn)一步地,丙稀系聚合物(A),碳素-碳素二重結(jié)合,側(cè)鎖,主鎖中以及主鎖末端存 在的丙稀系聚合物,加入放射線硬化性單體和低聚物的低分子量成分,切割膜在活性面貼 附后,通過(guò)放射線照射。
      [0014] 進(jìn)一步地,丙烯系聚合物(A)包括丙烯酸甲酯,丙烯酸乙酯、丙烯酸羥丙酯、丙烯 酸異丙酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸異丁酯、正庚基丙烯酸酯、丙烯酸辛酯、丙烯酸癸酯、丙烯酸 十二酯、丙烯酸十三酯、丙烯酸十四酯、十五基丙烯酸酯、丙烯酸十六酯、丙烯酸十七烷基、 丙烯酸十八酯、丙烯酸酯、丙烯酸環(huán)己酯等,丙烯酸苯酯、芳基丙烯酸酯。
      [0015] 進(jìn)一步地,所述的放射線硬化性粘著劑層設(shè)有離型膜保護(hù)。
      [0016] 進(jìn)一步地,基材的厚度為30至200 μ m。
      [0017] 為達(dá)到上述發(fā)明目的,本發(fā)明切割后被加工物拾取的方法,對(duì)于被加工物的活性 面,在權(quán)利要求1至9任一所述的活性面貼付用切割膜貼付后切割,對(duì)形成的切割片進(jìn)行拾 取。
      [0018] 與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明的有益效果是:作為切割膜,特定的丙酸烯系化合物作為 吸水性樹(shù)脂,且使用含特點(diǎn)放射線聚合性化合物的切割膜,在硅片的背面減薄,作為減薄后 的活性面,貼膜一長(zhǎng)段時(shí)間后容易剝離。
      【附圖說(shuō)明】
      [0019] 圖1是本發(fā)明切割膜的簡(jiǎn)略斷面圖; 圖2是本發(fā)明切割膜粘著力測(cè)定方法的簡(jiǎn)略斷面圖。
      【具體實(shí)施方式】
      [0020] 下面結(jié)合說(shuō)明書(shū)附圖對(duì)本發(fā)明做進(jìn)一步的描述。
      [0021] 本發(fā)明,活性面貼付切割膜,以及相關(guān)使用該活性面貼付切割膜的被加工物的切 斷片的pick up方法,比較詳細(xì)的說(shuō)法是硅系化合物,鍺系化合物,砷化鎵等作為材料的加 工物(例如應(yīng)用在半導(dǎo)體硅片,半導(dǎo)體封裝,玻璃,陶瓷等方面)進(jìn)行切割后,在切斷片拾取 的時(shí)候。前面所說(shuō)的在被加工物的自然氧化膜沒(méi)有完全形成狀態(tài)的活性面進(jìn)行貼付的狀態(tài) 下,使用活性面貼付切割膜,以及使用該活性面貼付切割膜切割后被加工物的切斷片的拾 取方法。
      [0022] 本發(fā)明的切割膜,至少有一面有放射線硬化性粘著劑層構(gòu)成,且放射線硬化性粘 著劑層,重量平均分子量在50萬(wàn)以上的丙烯系聚合物(A)(也有單獨(dú)的稱為丙烯系聚合物 的情況),以及從碳素-碳素二重結(jié)合基的氰脲酸酯系化合物中選取一種放射線聚合性化合 物(B)(也有單獨(dú)的稱為放射線聚合性化合物的情況),丙烯、系聚合物(A),按100的重量 比率,含有放射線聚合性化合物(B)從5~150的重量比例。這樣,本發(fā)明的切割膜,至少有 一面有放射線硬化性粘著劑層構(gòu)成,且放射線硬化性粘著劑層,因重量平均分子量在50萬(wàn) 以上的丙烯、聚合物(A)丙烯系粘著劑中,所定的比率,使用了放射線聚合性化合物(B)構(gòu) 成,經(jīng)放射線的照射,放射線硬化性粘著劑層硬化,可能對(duì)活性面有效的形成三次元網(wǎng)狀構(gòu) 造。為了這個(gè)目的本發(fā)明的切割膜長(zhǎng)時(shí)間貼付活性面后,經(jīng)放射線照射,對(duì)活性面的粘著力 減弱,方便切斷片的拾取pick up。
      [0023] 關(guān)于放射線聚合性化合物(B),碳素-碳素二重結(jié)合基,根據(jù)含有放射線具有的 重合性是非常重要的。
      [0024] 丙烯系聚合物(A) 丙稀系聚合物(A),重量平均分子量在50萬(wàn)以上(例如在50萬(wàn)~500萬(wàn))的丙稀系聚合 物, 作為放射線硬化性粘著劑組成物作為吸水性樹(shù)脂使用。丙烯系聚合物(A)重量平均分 子量,未滿50萬(wàn),對(duì)半導(dǎo)體硅片等被加工物的污染防止性較低,在活性面貼附后剝離時(shí)容 易產(chǎn)生殘膠。對(duì)丙烯系聚合物,低分子量物質(zhì)(成分)的含有量越少越好,依據(jù)這個(gè)觀點(diǎn),丙 烯系聚合物(A)的重量平均分子量80萬(wàn)以上(例如在80萬(wàn)~300萬(wàn))比較合適。
      [0025] 丙烯系聚合物(A),丙烯酸酯作為主要成分的聚合物(均聚物、共聚物),丙烯系聚 合物,作為單體的主要成分,例如,丙烯酸甲酯,丙烯酸乙酯、丙烯酸羥丙酯、丙烯酸異丙酯、 丙烯酸丁酯、丙烯酸異丁酯、正庚基丙烯酸酯、丙烯酸辛酯、丙烯酸癸酯、丙烯酸十二酯、丙 烯酸十三酯、丙烯酸十四酯、十五基丙烯酸酯、丙烯酸十六酯、丙烯酸十七烷基、丙烯酸十八 酯、丙烯酸酯、丙烯酸環(huán)己酯等,丙烯酸苯酯、芳基丙烯酸酯。芳基丙烯酸酯又可以與兩種上 述所說(shuō)的相結(jié)合。丙烯酸酯作為丙烯酸甲酯,丙烯酸乙酯、、丙烯酸丁酯、丙烯酸異丁酯、正 庚基丙烯酸酯的芳基丙烯酸酯比較適合。
      [0026] 丙烯系聚合物為了改善凝聚力,耐熱等特性為
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