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      一種低污染環(huán)保型化學(xué)機(jī)械拋光液的制作方法

      文檔序號:9744238閱讀:221來源:國知局
      一種低污染環(huán)保型化學(xué)機(jī)械拋光液的制作方法
      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001]本發(fā)明涉及拋光液技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種低污染環(huán)保型化學(xué)機(jī)械拋光液。
      【背景技術(shù)】
      [0002]半導(dǎo)體加工過程中,最初的半導(dǎo)體基片(襯底片)拋光沿用機(jī)械拋光、例如氧化鎂、氧化鋯拋光等,但是得到的晶片表面損傷是及其嚴(yán)重的。而單純的化學(xué)拋光,拋光速率較快,表面光潔度高,損傷低,完美性好,但表面平整度和平行度差,拋光后表面一致性差;單純的機(jī)械拋光表面一致性好,表面平整度高,但表面光潔度差,損傷層深。

      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0003]為解決上述存在的問題,本發(fā)明提供一種低污染環(huán)保型化學(xué)機(jī)械拋光液。
      [0004]本發(fā)明解決上述技術(shù)問題采用的技術(shù)方案為:一種低污染環(huán)保型化學(xué)機(jī)械拋光液,由以下質(zhì)量份數(shù)的原料制成:
      四硼酸鈉11-15份,異丙醇3-6份,氮化硼6-7份,苯甲酸鈉5-7份,氧化鈰12-18份,氫氧化鋁1-4份,硬脂酰胺6-9份,磷酸二銨5-7份,三聚磷酸鈉3-4份,液態(tài)石蠟9-12份,乙二胺四乙酸6-8份,草酸鈉4-6份。
      [0005]上述的低污染環(huán)保型化學(xué)機(jī)械拋光液,由以下質(zhì)量份數(shù)的原料制成:
      四硼酸鈉13份,異丙醇5份,氮化硼6.4份,苯甲酸鈉6份,氧化鈰15份,氫氧化鋁2份,硬脂酰胺8份,磷酸二銨6份,三聚磷酸鈉3.5份,液態(tài)石蠟11份,乙二胺四乙酸7份,草酸鈉5份。
      [0006]本發(fā)明解決技術(shù)問題所帶來的有益效果在于:本發(fā)明可以獲得較為完美的表面,又可以得到較高的拋光速率,得到的平整度比其他方法高兩個數(shù)量級,污染性小,環(huán)保性強(qiáng)。
      【具體實施方式】
      [0007]下面結(jié)合具體實施例對本發(fā)明做進(jìn)一步詳細(xì)說明。
      [0008]實施例1
      一種低污染環(huán)保型化學(xué)機(jī)械拋光液,由以下質(zhì)量份數(shù)的原料制成:
      四硼酸鈉11份,異丙醇3份,氮化硼6份,苯甲酸鈉5份,氧化鈰12份,氫氧化鋁I份,硬脂酰胺6份,磷酸二銨5份,三聚磷酸鈉3份,液態(tài)石蠟9份,乙二胺四乙酸6份,草酸鈉4份。
      [0009]實施例2
      一種低污染環(huán)保型化學(xué)機(jī)械拋光液,由以下質(zhì)量份數(shù)的原料制成:
      四硼酸鈉13份,異丙醇5份,氮化硼6.4份,苯甲酸鈉6份,氧化鈰15份,氫氧化鋁2份,硬脂酰胺8份,磷酸二銨6份,三聚磷酸鈉3.5份,液態(tài)石蠟11份,乙二胺四乙酸7份,草酸鈉5份。
      [0010]實施例3
      一種低污染環(huán)保型化學(xué)機(jī)械拋光液,由以下質(zhì)量份數(shù)的原料制成:
      四硼酸鈉15份,異丙醇6份,氮化硼7份,苯甲酸鈉7份,氧化鈰18份,氫氧化鋁4份,硬脂酰胺9份,磷酸二銨7份,三聚磷酸鈉4份,液態(tài)石蠟12份,乙二胺四乙酸8份,草酸鈉6份。
      [0011]上述雖然對本發(fā)明的【具體實施方式】進(jìn)行了描述,但并非對本發(fā)明保護(hù)范圍的限制,所屬領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)該明白,在本發(fā)明的技術(shù)方案的基礎(chǔ)上,本領(lǐng)域技術(shù)人員不需要付出創(chuàng)造性勞動即可做出的各種修改或變形仍在本發(fā)明的保護(hù)范圍以內(nèi)。
      【主權(quán)項】
      1.一種低污染環(huán)保型化學(xué)機(jī)械拋光液,其特征在于:由以下質(zhì)量份數(shù)的原料制成: 四硼酸鈉11-15份,異丙醇3-6份,氮化硼6-7份,苯甲酸鈉5-7份,氧化鈰12-18份,氫氧化鋁1-4份,硬脂酰胺6-9份,磷酸二銨5-7份,三聚磷酸鈉3-4份,液態(tài)石蠟9-12份,乙二胺四乙酸6-8份,草酸鈉4-6份。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低污染環(huán)保型化學(xué)機(jī)械拋光液,其特征在于:由以下質(zhì)量份數(shù)的原料制成: 四硼酸鈉13份,異丙醇5份,氮化硼6.4份,苯甲酸鈉6份,氧化鈰15份,氫氧化鋁2份,硬脂酰胺8份,磷酸二銨6份,三聚磷酸鈉3.5份,液態(tài)石蠟11份,乙二胺四乙酸7份,草酸鈉5份。
      【專利摘要】本發(fā)明公開了一種低污染環(huán)保型化學(xué)機(jī)械拋光液,由以下質(zhì)量份數(shù)的原料制成:四硼酸鈉11-15份,異丙醇3-6份,氮化硼6-7份,苯甲酸鈉5-7份,氧化鈰12-18份,氫氧化鋁1-4份,硬脂酰胺6-9份,磷酸二銨5-7份,三聚磷酸鈉3-4份,液態(tài)石蠟9-12份,乙二胺四乙酸6-8份,草酸鈉4-6份。本發(fā)明可以獲得較為完美的表面,又可以得到較高的拋光速率,得到的平整度比其他方法高兩個數(shù)量級,污染性小,環(huán)保性強(qiáng)。
      【IPC分類】C09G1/02
      【公開號】CN105505228
      【申請?zhí)枴緾N201510912925
      【發(fā)明人】李盛明
      【申請人】青島宏宇環(huán)保空調(diào)設(shè)備有限公司
      【公開日】2016年4月20日
      【申請日】2015年12月11日
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