一種具有抗電磁波效果的oca光學(xué)膠膜的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及保護(hù)膜技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種具有抗電磁波效果的0CA光學(xué)膠膜。
【背景技術(shù)】
[0002]目前市場上提供的手機(jī)保護(hù)膜種類繁多，其一般都是依靠黏膠貼在屏幕上的透明薄膜，較易脫落起泡，抗刮抗震性能差，使用壽命較短。而新型的鋼化玻璃保護(hù)膜則很好解決了上述缺點(diǎn)，并且貼合容易且緊密，具有較高的堅(jiān)韌度。
[0003]然而，目前應(yīng)用于鋼化玻璃的0CA光學(xué)膠膜功能單一，不具有市面上普通保護(hù)膜的抗電磁波功能，導(dǎo)致其使用和保護(hù)性能不佳，難以滿足用戶的需求。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]為了克服現(xiàn)有技術(shù)中存在的缺點(diǎn)和不足，本實(shí)用新型的目的在于提供一種具有抗電磁波效果的0CA光學(xué)膠膜，該0CA光學(xué)膠膜具有抗電磁波的功能，優(yōu)化目前鋼化玻璃膜的功能，提升其使用保護(hù)性能。
[0005]本實(shí)用新型的目的通過下述技術(shù)方案實(shí)現(xiàn):一種具有抗電磁波效果的0CA光學(xué)膠膜，包括從上往下依次設(shè)置的重離型膜、抗電磁波高黏膠層、硅膠層和中離型膜，抗電磁波高黏膠層的上表面、下表面分別與重離型膜的下表面、硅膠層的上表面貼合，硅膠層的下表面與中離型膜的上表面貼合。
[0006]進(jìn)一步的，所述重離型膜為剝離力在8_15g的重離型膜。
[0007]進(jìn)一步的，所述重離型膜為表面經(jīng)過電暈處理的PET重離型膜。
[0008]進(jìn)一步的，所述抗電磁波高黏膠層為含有納米銀顆粒的抗電磁波高黏膠層。
[0009]進(jìn)一步的，所述中離型膜為剝離力在3-10g的中離型膜。
[0010]進(jìn)一步的，所述中離型膜為表面經(jīng)過電暈處理的PET中離型膜、PE中離型膜、0ΡΡ中離型膜、Β0ΡΕΤ中離型膜或Β0ΡΡ中離型膜。
[0011]進(jìn)一步的，所述重離型膜的厚度為23-100 μ m。
[0012]進(jìn)一步的，所述抗電磁波高黏膠層的厚度為30-50 μπι。
[0013]進(jìn)一步的，所述娃膠層的厚度為20-40 μπι。
[0014]進(jìn)一步的，所述中離型膜的厚度為23-100 μ m。
[0015]本實(shí)用新型的有益效果在于:本實(shí)用新型的0CA光學(xué)膠膜通過采用抗電磁波高黏膠層，具有抗電磁波的功能，優(yōu)化目前鋼化玻璃膜的功能，提升其使用保護(hù)性能，結(jié)構(gòu)簡單，成本低，實(shí)用性強(qiáng)。
【附圖說明】
[0016]圖1是本實(shí)用新型所述復(fù)合膜A的剖視圖。
[0017]圖2是本實(shí)用新型所述復(fù)合膜B的剖視圖。
[0018]圖3是本實(shí)用新型具有抗電磁波效果的0CA光學(xué)膠膜的剖視圖。
[0019]附圖標(biāo)記為:1 一復(fù)合膜A、11 一重離型膜、12—抗電磁波高黏膠層、13—第一輕離型膜、2—復(fù)合膜B、21—中離型膜、22—硅膠層、23—第二輕離型膜。
【具體實(shí)施方式】
[0020]為了便于本領(lǐng)域技術(shù)人員的理解，下面結(jié)合實(shí)施例及附圖1-3對本實(shí)用新型作進(jìn)一步的說明，實(shí)施方式提及的內(nèi)容并非對本實(shí)用新型的限定。
[0021]見圖1-3，一種具有抗電磁波效果的0CA光學(xué)膠膜，包括從上往下依次設(shè)置的重離型膜11、抗電磁波高黏膠層12、硅膠層22和中離型膜21，抗電磁波高黏膠層12的上表面、下表面分別與重離型膜11的下表面、硅膠層22的上表面貼合，硅膠層22的下表面與中離型膜21的上表面貼合。
[0022]本實(shí)用新型的0CA光學(xué)膠膜通過采用抗電磁波高黏膠層，具有抗電磁波的功能，優(yōu)化目前鋼化玻璃膜的功能，提升其使用保護(hù)性能，結(jié)構(gòu)簡單，成本低，實(shí)用性強(qiáng)。
[0023]本實(shí)施例中，所述重離型膜11為剝離力在8_15g的重離型膜11。本實(shí)用新型通過采用剝離力在8-15g的重離型膜11，最外層不會(huì)輕易分離，可以更好地保護(hù)本實(shí)用新型的0CA光學(xué)膠膜。
[0024]本實(shí)施例中，所述重離型膜11為表面經(jīng)過電暈處理的PET重離型膜。電暈處理其原理是利用高頻率高電壓在被處理的塑料表面電暈放電(高頻交流電壓高達(dá)5000-15000V/m2)，而產(chǎn)生低溫等離子體，使塑料表面產(chǎn)生游離基反應(yīng)而使聚合物發(fā)生交聯(lián).表面變粗糙并增加其對極性溶劑的潤濕性-這些離子體由電擊和滲透進(jìn)入被印體的表面破壞其分子結(jié)構(gòu)，進(jìn)而將被處理的表面分子氧化和極化，離子電擊侵蝕表面，以致增加承印物表面的附著能力。電暈處理使承印物表面分子結(jié)構(gòu)重新排列，產(chǎn)生更多的極性部位，有利于附著外物。
[0025]本實(shí)施例中，所述抗電磁波高黏膠層12為含有納米銀顆粒的抗電磁波高黏膠層。本實(shí)用新型通過采用含有納米銀顆粒的抗電磁波高黏膠層12，抗電磁波效果好，優(yōu)化目前鋼化玻璃膜的功能，提升其使用保護(hù)性能。
[0026]本實(shí)施例中，所述中離型膜21為剝離力在3-10g的中離型膜21。本實(shí)用新型通過采用剝離力在3-10g的中離型膜21，最外層不會(huì)輕易分離，可以更好地保護(hù)本實(shí)用新型的0CA光學(xué)膠膜。
[0027]本實(shí)施例中，所述中離型膜21為表面經(jīng)過電暈處理的PET中離型膜、PE中離型膜、0ΡΡ中離型膜、Β0ΡΕΤ中離型膜或Β0ΡΡ中離型膜。電暈處理使承印物表面分子結(jié)構(gòu)重新排列，產(chǎn)生更多的極性部位，有利于附著外物。
[0028]本實(shí)施例中，所述重離型膜11的厚度為23-100 μ m。本實(shí)用新型通過將重離型膜11的厚度控制在23-100 μπι，最外層不會(huì)輕易分離，可以更好地保護(hù)本實(shí)用新型的光學(xué)膜。優(yōu)選的，所述重離型膜11的厚度可以為23 μηι、50 μηι、75 μπι或100 μπι。更為優(yōu)選的，所述重離型膜11的厚度為75 μπι。
[0029]本實(shí)施例中，所述抗電磁波高黏膠層12的厚度為30-50 μπι。本實(shí)用新型通過將抗電磁波高黏膠層12的厚度控制在30-50 μ m，抗電磁波效果好，優(yōu)化目前鋼化玻璃膜的功能，提升其使用保護(hù)性能。優(yōu)選的，所述抗電磁波高黏膠層12的厚度為30 μπι、35μπι、40 μm、45μηι或50 μπι。更為優(yōu)選的，所述抗電磁波高黏膠層12的厚度為40 μm。
[0030]本實(shí)施例中，所述硅膠層22的厚度為20-40 μ m。本實(shí)用新型通過將硅膠層22的厚度控制在20-40 μ m，粘合性能好，與抗電磁波高黏膠層12粘貼緊密。優(yōu)選的，所述硅膠層22的厚度為20 μm、25μπι、30 μπι、35 μπι或40 μπι。更為有優(yōu)選的，所述硅膠層22的厚度為30 μπι。
[0031]本實(shí)施例中，所述中離型膜21的厚度為23-100 μπι。本實(shí)用新型通過將中離型膜21的厚度控制在23-100 μ m，最外層不會(huì)輕易分離，可以更好地保護(hù)本實(shí)用新型的光學(xué)膜。優(yōu)選的，所述中離型膜21的厚度可以為23 μηι、50 μηι、75 μπι或100 μπι。更為優(yōu)選的，所述中離型膜21的厚度為75 μπι。
[0032]所述抗電磁波高黏膠層12的原料為添加有抗電磁波材料的高黏膠，抗電磁波材料與高黏膠的重量比為1-5:100，抗電磁波材料由如下重量份的原料組成:
[0033]納米銀顆粒 20-35份
[0034]增稠劑4-5.5份
[0035]分散劑3_5份
[0036]溶劑46-70 份。
[0037]所述高黏膠為丙烯酸類高黏膠、有機(jī)硅類高黏膠和聚氨酯類高黏膠中的任意一種；所述硅膠層22的原料為有機(jī)硅膠。
[0038]所述增稠劑為乙基纖維素；所述分散劑為司班-85 ;所述溶劑是由松油醇1-5份和無水乙醇45-65份組成的混合物。
[0039]一種具有抗電磁波效果的0CA光學(xué)膠膜的制備方法，包括如下步驟:
[0040](1)制備復(fù)合膜厶1:
[0041]取重離型膜11，在重離型膜11的一面進(jìn)行電暈處理后采用刮刀涂布一層抗電磁波高黏膠，高溫固化，形成抗電磁波高黏膠層12，在抗電磁波高黏膠層12的另一面貼合第一輕離型膜13，制得復(fù)合膜A 1，如圖1所示；
[0042](2)制備復(fù)合膜B 2:
[0043]取中離型膜21，在中離型膜21的一面進(jìn)行電暈處理后采用刮刀涂布一層硅膠，高溫固化，形成硅膠層22，在硅膠層22的另一面貼合第二輕離型膜23，制得復(fù)合膜B 2，如圖2所示；
[0044](3)制備具有抗電磁波效果的0CA光學(xué)膠膜:
[0045]將復(fù)合膜A 1撕去第一輕離型膜13，將復(fù)合膜B 2撕去第二輕離型膜23，將復(fù)合膜A 1的抗電磁波高黏膠層12與復(fù)合膜B 2的硅膠層22貼合，制得具有抗電磁波效果的0CA光學(xué)膠膜，如圖3所示。
[0046]所述第一輕離型膜13為剝離力在l_5g的第一輕離型膜13 ;所述第二輕離型膜23為剝離力在l_5g的第二輕離型膜23 ;所述第一輕離型膜13、第二輕離型膜23均為PET輕離型膜、PE輕離型膜、0ΡΡ輕離型膜、Β0ΡΕΤ輕離型膜或Β0ΡΡ輕離型膜；所述第一輕離型膜
13、第二輕離型膜23的厚度均為23-100 μπι。
[0047]所述步驟(1)和所述步驟(2)中，高溫固化的溫度為100-200°C，高溫固化的時(shí)間為 l_3min0
[0048]上述實(shí)施例為本實(shí)用新型較佳的實(shí)現(xiàn)方案，除此之外，本實(shí)用新型還可以其它方式實(shí)現(xiàn)，在不脫離本實(shí)用新型構(gòu)思的前提下任何顯而易見的替換均在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種具有抗電磁波效果的OCA光學(xué)膠膜，其特征在于:包括從上往下依次設(shè)置的重離型膜、抗電磁波高黏膠層、硅膠層和中離型膜，抗電磁波高黏膠層的上表面、下表面分別與重離型膜的下表面、硅膠層的上表面貼合，硅膠層的下表面與中離型膜的上表面貼合。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種具有抗電磁波效果的OCA光學(xué)膠膜，其特征在于:所述重離型膜為剝離力在8-15g的重離型膜。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種具有抗電磁波效果的OCA光學(xué)膠膜，其特征在于:所述重離型膜為表面經(jīng)過電暈處理的PET重離型膜。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種具有抗電磁波效果的OCA光學(xué)膠膜，其特征在于:所述抗電磁波高黏膠層為含有納米銀顆粒的抗電磁波高黏膠層。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種具有抗電磁波效果的OCA光學(xué)膠膜，其特征在于:所述中離型膜為剝離力在3-10g的中離型膜。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種具有抗電磁波效果的OCA光學(xué)膠膜，其特征在于:所述中離型膜為表面經(jīng)過電暈處理的PET中離型膜、PE中離型膜、OPP中離型膜、BOPET中離型膜或BOPP中離型膜。7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種具有抗電磁波效果的OCA光學(xué)膠膜，其特征在于:所述重離型膜的厚度為23-100 μ m。8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種具有抗電磁波效果的OCA光學(xué)膠膜，其特征在于:所述抗電磁波高黏膠層的厚度為30-50 μm。9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種具有抗電磁波效果的OCA光學(xué)膠膜，其特征在于:所述硅膠層的厚度為20-40 μ m。10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種具有抗電磁波效果的OCA光學(xué)膠膜，其特征在于:所述中離型膜的厚度為23-100 μ m。
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及保護(hù)膜技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種具有抗電磁波效果的OCA光學(xué)膠膜，包括從上往下依次設(shè)置的重離型膜、抗電磁波高黏膠層、硅膠層和中離型膜，抗電磁波高黏膠層的上表面、下表面分別與重離型膜的下表面、硅膠層的上表面貼合，硅膠層的下表面與中離型膜的上表面貼合。本實(shí)用新型的OCA光學(xué)膠膜通過采用抗電磁波高黏膠層，具有抗電磁波的功能，優(yōu)化目前鋼化玻璃膜的功能，提升其使用保護(hù)性能，結(jié)構(gòu)簡單，成本低，實(shí)用性強(qiáng)。
【IPC分類】C09J175/04, C09J11/04, C09J133/00, C09J7/02, C09J11/08, C09J183/04
【公開號】CN205133488
【申請?zhí)枴緾N201520791268
【發(fā)明人】朱文峰
【申請人】東莞市納利光學(xué)材料有限公司
【公開日】2016年4月6日
【申請日】2015年10月14日