技術(shù)編號(hào)：3257810
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種用于真空沉積系統(tǒng)的噴射器。背景技術(shù)已知的真空沉積系統(tǒng)用于在大尺寸的基底或面板上制造薄膜結(jié)構(gòu)。例如這種系統(tǒng)被用來(lái)沉積CIGS (銅銦鎵硒)太陽(yáng)能電池或OLED (有機(jī)發(fā)光裝置)ニ極管。真空沉積系統(tǒng)通常包括連接至真空沉積室的蒸發(fā)源。真空蒸發(fā)源蒸發(fā) 或升華物質(zhì)，該物質(zhì)以氣態(tài)形式被輸送至真空沉積室。特別地，這種真空蒸發(fā)源被用來(lái)蒸發(fā)硒以供玻璃基底在水平的自上而下或自下而上的隊(duì)列系統(tǒng)中的硒化。真空沉積室適于接納待由蒸發(fā)物質(zhì)覆蓋的基底從而制作面板。不同的腔...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。