專利名稱：連續(xù)式真空封口、鍍膜方法與裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是有關(guān)于一種封口、鍍膜方法與裝置，特別是指一種對至少一待加工物進行充填封口或鍍膜以形成加工成品的連續(xù)式真空封口、鍍膜方法與裝置。
(2)背景技術(shù)一般對于一待加工物用于真空充填封口的真空裝置是具有一真空工作室，且在該真空工作室上另設(shè)有一切換件，當該待加工物置入該真空工作室后，由該切換件切換為真空模式而對該真空工作室進行抽真空的動作，當達到真空狀態(tài)后，再由切換件切換成加工模式以對該待加工物進行充填封口的動作，當該待加工物完成充填封口而形成一加工成品后，再開啟該真空工作室(此時空氣會進入)以取出加工成品，而等下一個待加工物置入該真空工作室后，再由切換件切換成真空模式以進行抽真空的動作，如此反復(fù)循環(huán)地運作。
但是此種反復(fù)循環(huán)運作的真空裝置具有以下缺點1.每次完成加工成品并取出后，空氣會進入該真空工作室內(nèi)，因此須再切換至真空模式以對該真空工作室再次進行抽真空的動作，而經(jīng)過數(shù)次空氣進入再抽真空的重復(fù)動作后，難免會使該真空工作室內(nèi)的真空狀況未能達到理想，當對該待加工物施予填充液體時，極容易因真空度的不穩(wěn)定而導(dǎo)致填充液體被抽出或濺出，嚴重影響真空充填封口的成效。
2.因該真空工作室具有相當體積，所以每次進行抽真空動作時須費時一段時間才能夠讓下一個待加工物進行充填封口，因此也造成生產(chǎn)線的停頓，無法連續(xù)而只能夠作批次作業(yè)，并有生產(chǎn)量小、生產(chǎn)速度慢的缺點，且每次對該真空工作室抽真空均耗費相當電力，嚴重影響經(jīng)濟效益與成本，所以有改善的必要。
(3)

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種對至少一待加工物進行充填封口或鍍膜，并能有效提升優(yōu)良率及生產(chǎn)量，且能更精確完美地形成加工成品的連續(xù)式真空封口、鍍膜方法與裝置。
本發(fā)明提供一種連續(xù)式真空封口、鍍膜裝置，包含有一真空工作室、一與該真空工作室前端相接的前容置室、一與該真空工作室后端相接的后容置室，及一壓力平衡自動調(diào)整單元；該前容置室具有一第一扇門，而該真空工作室與該前容置室相接處具有一第二扇門，以及該真空工作室與該后容置室相接處另具有一第三扇門，同時該后容置室另具有一第四扇門。
本發(fā)明提供一種連續(xù)式真空封口、鍍膜方法，包含有以下步驟(甲)將至少一待加工物置入該前容置室內(nèi)，并同時關(guān)閉該第一、第二、第三及第四扇門；接著進行步驟(乙)，將該前容置室及該真空工作室抽成真空，并使該真空工作室持續(xù)地維持在真空的狀態(tài)；然后進行步驟(丙)借由該壓力平衡自動調(diào)整單元以控制該前容置室及該真空工作室內(nèi)的真空壓力達到平衡；接著再進行步驟(丁)，當該前容置室及該真空工作室內(nèi)的真空壓力達到平衡時，開啟該第二扇門以使該待加工物進入該真空工作室內(nèi)，然后再關(guān)閉該第二扇門，并在該真空工作室內(nèi)對該待加工物進行充填封口或鍍膜的動作以形成加工成品；接著進行步驟(戊)，當該待加工物于該真空工作室內(nèi)進行充填封口或鍍膜的同時，對該后容置室進行抽真空的動作；然后進行步驟(己)，當該待加工物形成加工成品后，借由該壓力平衡調(diào)整單元而再次對該真空工作室及該后容置室內(nèi)的真空壓力進行平衡控制，而當二者的真空壓力達到平衡時，開啟該第三扇門以使該加工成品進入該后容置室內(nèi)，并再關(guān)閉該第三扇門；最后進行步驟(庚)，將該后容置室注入氣體以使該第四扇門開啟，并取出該加工成品。這樣，該真空工作室即可在整個運作過程中均保持理想的真空狀態(tài)，不會有空氣的進入而需數(shù)次反復(fù)地進行抽真空的動作，進而順利地進行充填封口或鍍膜的動作而有效提升加工成品的優(yōu)良率及產(chǎn)量。
(4)


下面結(jié)合附圖及實施例對本發(fā)明進行詳細說明
圖1是本發(fā)明連續(xù)式真空封口、鍍膜方法與裝置一第一較佳實施例的裝置配置示意圖。
圖2是一流程圖，并說明該第一較佳實施例中，該真空封口方法的實施步驟。
圖3是該第一較佳實施例的一裝置配置示意圖，并說明一真空工作室的一第二扇門開啟以使一待加工物進入的情形。
圖4是該第一較佳實施例的一裝置配置示意圖，并說明該第二扇門關(guān)閉以使該待加工物隔絕于該真空工作室內(nèi)以形成一加工成品的情形。
圖5是該第一較佳實施例的一裝置配置示意圖，并說明一第三扇門開啟以使該加工成品進入一后容置室內(nèi)的情形。
圖6是該第一較佳實施例的一裝置配置示意圖，并說明一第四扇門開啟以順利取出該加工成品的情形。
圖7是一流程圖，并說明本發(fā)明連續(xù)式真空封口、鍍膜方法與裝置的一第二較佳實施例中，該真空鍍膜方法的實施步驟。
圖8是該第二較佳實施例的一裝置配置示意圖，并說明一待加工物于一真空工作室內(nèi)進行鍍膜動作以形成一加工成品的情形。
(5)具體實施方式
為了方便說明，以下的實施例，相同的元件以相同的標號表示。
如圖1所示，是本發(fā)明連續(xù)式真空封口、鍍膜方法與裝置的第一較佳實施例，該連續(xù)式真空裝置包含有一前容置室1、一真空工作室2、一后容置室3及一壓力平衡自動調(diào)整單元4。該壓力平衡自動調(diào)整單元具有一設(shè)置于該前容置室1與該真空工作室2間的第一壓力平衡自動調(diào)整機構(gòu)41，及一設(shè)置于該真空工作室2與該后容置室3間的第二壓力平衡自動調(diào)整機構(gòu)42，而該前容置室1的前端具有一可開啟關(guān)閉的第一扇門11，且該第一扇門11開啟時，可供至少一待加工物5置入于該前容置室1內(nèi)。圖1中僅顯示一待加工物5。但也可同時置入多件待加工物。
該真空工作室2的前端與該前容置室1的后端相接，并在相接處具有一可開啟關(guān)閉的第二扇門21，且當該第二扇門21開啟時，該真空工作室2可與該前容置室1相通，而當該第二扇門21關(guān)閉時，該真空工作室2則與該前容置室1隔絕，此外，該真空工作室2的后端另具有一可開啟關(guān)閉的第三扇門。
該后容置室3的前端是與該真空工作室2的后端相接，同時該后容置室3的后端具有一可開啟關(guān)閉第四扇門31，另外，當該真空工作室2的第三扇門22開啟時，該真空工作室2可與該后容置室3相通，而當該第三扇門22關(guān)閉時，該真空工作室2則與該后容置室3隔絕。
該第一壓力平衡自動調(diào)整機構(gòu)41是可控制該前容置室1與該真空工作室2內(nèi)的真空壓力達到平衡，而該第二壓力平衡自動調(diào)整機構(gòu)42則是可控制該真空工作室2與該后容置室3內(nèi)的真空壓力達到平衡。
配合圖2所示，圖2是顯示本發(fā)明利用前述連續(xù)式真空裝置進行真空封口的步驟流程圖，現(xiàn)就以步驟流程的方式加以說明首先進行步驟(71)，將該至少一待加工物5置入該前容置室1內(nèi)，并如圖1所示同時關(guān)閉該第一、第二、第三及第四扇門11、21、22、31。
接著進行步驟(72)，將該前容置室1及該真空工作室2抽成真空，并使該真空工作室2持續(xù)地維持在真空的狀態(tài)。
然后進行步驟(73)，借由所設(shè)置的第一壓力平衡自動調(diào)整機構(gòu)41以使得該前容置室1與該真空工作室2內(nèi)的真空壓力達到平衡。
然后進行步驟(74)，當該前容置室1與該真空工作室2內(nèi)的真空壓力達到平衡時，開啟該真空工作室2的第二扇門21以使該待加工物5進入該真空工作室2內(nèi)(見圖3)，然后再關(guān)閉該第二扇門21，并在該真空工作室2內(nèi)對該待加工物5進行充填及封口的動作以形成加工成品5’(見圖4)。
接著進行步驟(75)，當該待加工物5于該真空工作室2內(nèi)進行充填封口的同時，對該后容置室3進行抽真空的動作。
然后進行步驟(76)，當該待加工物5形成加工成品5’后，借由所設(shè)置的第二壓力平衡調(diào)整機構(gòu)42而對該真空工作室2及該后容置室3內(nèi)的真空壓力進行平衡控制，而當二者的真空壓力達到平衡時，開啟該第三扇門22以使該加工成品5’進入該后容置室3內(nèi)(見圖5)，并再關(guān)閉該第三扇門22。
最后進行步驟(77)，當該加工成品5’進入該后容置室3后，對該后容置室3注入氣體以改變真空狀態(tài)，并使該第四扇門31開啟以順利取出該加工成品5’(見圖6)。這樣，該真空工作室2在整個充填封口的過程中均可保持在理想的真空狀態(tài)下，不會有空氣的進入而需數(shù)次反復(fù)地進行抽真空的動作，進而能順利地進行充填封口的動作，且能更進一步地有效提升優(yōu)良率并精確完美地形成加工成品5’。此外，在本實施例中是將該待加工物5置入該前容置室1后，再由該真空工作室2內(nèi)進行充填封口的動作，而實際操作上，亦可將該待加工物5預(yù)先充填后再置入該前容置室1，最后再由該真空工作室2內(nèi)進行封口的動作，這樣亦能有效達到提升優(yōu)良率并更精確完美地形成加工成品5’的目的。
如圖7、8所示，是本發(fā)明連續(xù)式真空封口、鍍膜方法與裝置的第二較佳實施例，其連續(xù)式真空裝置與該第一較佳實施例相同，因此不再贅述，而其真空鍍膜方法與真空封口方法不同處在于步驟(74’)中，是在該真空工作室2內(nèi)對至少一待加工物6進行鍍膜的動作以形成加工成品6’，換言之，該真空裝置除可用于真空充填封口外，亦可運用在真空鍍膜上，而使得該真空裝置具有雙重用途的功效。
本發(fā)明連續(xù)式真空封口、鍍膜方法與裝置主要是對于進行加工處理(充填封口、鍍膜)的真空工作室2，在其前后端各設(shè)置一較小空間的前容置室1及后容置室3作為真空隔絕的銜接，而具有以下優(yōu)點1.該真空工作室2在整個加工處理的過程中均可保持在理想的真空狀態(tài)，不會有取出加工成品5’(6’)時導(dǎo)致空氣進入而需反復(fù)數(shù)次抽真空并影響加工成效的問題發(fā)生，且能更進一步地有效提升優(yōu)良率以精確完美地形成加工成品5’(6’)。
2.由于該前容置室1及該后容置室3的空間是遠小于該真空工作室2，因此在抽真空時的抽氣量小，所消耗的電力較少，其抽真空時間亦較短，而使得該待加工物5(6)在置入該前容置室1及取出該加工成品5’(6’)后均能對該前容置室1及該后容置室3迅速完成抽真空的動作，并使得整體運作更加順暢連續(xù)，而提高加工成品的產(chǎn)量，所以確實能達到本發(fā)明的目的。
權(quán)利要求
1.一種連續(xù)式真空封口方法，用于一真空裝置上以對至少一待加工物進行充填封口的動作，該真空裝置包含有一真空工作室、一與該真空工作室的前端相接的前容置室，及一與該真空工作室的后端相接的后容置室，此外，該前容置室具有一第一扇門，而該真空工作室與該前容置室相接處具有一第二扇門，以及該真空工作室與該后容置室相接處另具有一第三扇門，同時該后容置室另具有一第四扇門，其特征在于，該真空封口方法包含有以下步驟(甲)將該至少一待加工物置入該前容置室內(nèi)，并同時關(guān)閉該第一、第二、第三及第四扇門；(乙)將該前容置室及該真空工作室抽成真空，并使該真空工作室持續(xù)地維持在真空的狀態(tài)；(丙)控制該前容置室及該真空工作室內(nèi)的真空壓力達到平衡；(丁)當該前容置室及該真空工作室內(nèi)的真空壓力達到平衡時，開啟該第二扇門以使該待加工物進入該真空工作室內(nèi)，然后再關(guān)閉該第二扇門，并在該真空工作室內(nèi)對該容器進行充填及封口的動作以形成加工成品；(戊)當該待加工物于該真空工作室內(nèi)進行充填封口的同時，對該后容置室進行抽真空的動作；(己)當該待加工物形成加工成品后，再次對該真空工作室及該后容置室內(nèi)的真空壓力進行平衡控制，而當二者的真空壓力達到平衡時，開啟該第三扇門以使該加工成品進入該后容置室內(nèi)，并再關(guān)閉該第三扇門；及(庚)將該后容置室注入氣體以使該第四扇門開啟，并取出該加工成品。
2.一種連續(xù)式真空封口方法，用于一真空裝置上以對至少一待加工物進行真空鍍膜的動作，該真空裝置包含有一真空工作室、一與該真空工作室的前端相接的前容置室，及一與該真空工作室的后端相接的后容置室；該前容置室具有一第一扇門，而該真空工作室與該前容置室相接處具有一第二扇門，以及該真空工作室與該后容置室相接處另具有一第三扇門，同時該后容置室另具有一第四扇門，其特征在于，該真空鍍膜方法包含有以下步驟(甲)將該至少一待加工物置入該前容置室內(nèi)，并同時關(guān)閉該第一、第二、第三及第四扇門；(乙)將該前容置室及該真空工作室抽成真空，并使該真空工作室持續(xù)地維持在真空的狀態(tài)；(丙)控制該前容置室及該真空工作室內(nèi)的真空壓力達到平衡；(丁)當該前容置室及該真空工作室內(nèi)的真空壓力達到平衡時，開啟該第二扇門以使該待加工物進入該真空工作室內(nèi)，然后再關(guān)閉該第二扇門，并在該真空工作室內(nèi)對該待加工物進行真空鍍膜的動作以形成加工成品；(戊)當該待加工物于該真空工作室內(nèi)進行真空鍍膜的同時，對該后容置室進行抽真空的動作；(己)當該待加工物形成加工成品后，再次對該真空工作室及該后容置室內(nèi)的真空壓力進行平衡控制，而當二者的真空壓力達到平衡時，開啟該第三扇門以使該加工成品進入該后容置室內(nèi)，并再關(guān)閉該第三扇門；及(庚)將該后容置室注入氣體以使該第四扇門開啟，并取出該加工成品。
3.一種連續(xù)式真空裝置，可供至少一待加工物進行真空加工的動作以形成加工成品，其特征在于，該真空裝置包含有一前容置室，可供該待加工物的置入，并具有一可開啟關(guān)閉的第一扇門；一真空工作室，可供該待加工物進行真空加工的動作以形成加工成品，該真空工作室的前端是與該前容置室相接，并在相接處具有一可開啟關(guān)閉的第二扇門，當該第二扇門開啟時，該真空工作室可與該前容置室相通，而當該第二扇門關(guān)閉時，該真空工作室則與該前容置室隔絕；該真空工作室的后端另具有一可開啟關(guān)閉的第三扇門；一后容置室，與該真空工作室的后端相接并具有一可開啟關(guān)閉第四扇門，當該真空工作室的第三扇門開啟時，該真空工作室可與該后容置室相通，而當該第三扇門關(guān)閉時，該真空工作室則與該后容置室隔絕；及一壓力平衡自動調(diào)整單元，可分別控制該前容置室與該真空工作室以及該真空工作室與該后容置室內(nèi)的真空壓力達到平衡，當該前容置室與該真空工作室內(nèi)的真空壓力達到平衡時，可開啟該真空工作室內(nèi)的第二扇門以使該待加工物進入該真空工作室內(nèi)，并再關(guān)閉該第二扇門，而當該待加工物進入該真空工作室內(nèi)并形成加工成品后，該壓力平衡自動調(diào)整單元再次控制該真空工作室與該后容置室的真空壓力達到平衡，并開啟該第三扇門以使該加工成品進入該后容置室內(nèi)，最后再開啟該第四扇門以取出該加工成品。
4.如權(quán)利要求3所述的連續(xù)式真空裝置，其特征在于當該待加工物置入該真空工作室內(nèi)時，可對該待加工物進行充填封口的動作以形成加工成品。
5.如權(quán)利要求3所述的連續(xù)式真空裝置，其特征在于當該待加工物置入該真空工作室內(nèi)時，可對該待加工物進行真空鍍膜的動作以形成加工成品。
全文摘要
一種連續(xù)式真空封口、鍍膜方法與裝置，該裝置包含有一前容置室、一與該前容置室相接的真空工作室，及一與該真空工作室相接的后容置室，而其方法包含將一待加工物置入該前容置室內(nèi)，再將該前容置室及該真空工作室抽成真空，然后控制該前容置室及該真空工作室內(nèi)的真空壓力達到平衡，并使該待加工物置入該真空工作室內(nèi)進行充填封口或鍍膜以形成加工成品，同時再將該后容置室抽成真空并控制其真空壓力與該真空工作室平衡，以使該加工成品進入該后容置室內(nèi)，最后再對該后容置室注入氣體以取出該加工成品。
文檔編號B65B31/02GK1537783SQ03123180
公開日2004年10月20日 申請日期2003年4月18日 優(yōu)先權(quán)日2003年4月18日
發(fā)明者駱俊光, 藍群杰 申請人:諾亞公司