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      用于給容器滅菌的裝置的制作方法

      文檔序號(hào):4397096閱讀:270來(lái)源:國(guó)知局
      專利名稱:用于給容器滅菌的裝置的制作方法
      用于給容器滅菌的裝置本發(fā)明涉及一種給容器(特別是塑料瓶)滅菌的裝置。但要指出的是,本發(fā)明還 適用于容器的其他處理,例如可用于容器的密閉或生產(chǎn)或清潔?,F(xiàn)有技術(shù)已知有許多這樣的裝置。利用過(guò)氧化氫氣體給容器消毒是其中一種已知 的方法。在現(xiàn)有技術(shù)中已知的一種裝置中,容器通過(guò)循環(huán)傳輸帶被引導(dǎo)通過(guò)滅菌室,并在此 滅菌室內(nèi)通過(guò)含過(guò)氧化氫的氣體被消毒。在這種裝置中面臨的問(wèn)題是,必須盡可能有效地 防止這種含過(guò)氧化氫的氣體的任何泄漏,因?yàn)檫@種氣體對(duì)使用者是有害的。本發(fā)明適用于給容器的內(nèi)壁滅菌的裝置和對(duì)容器的外壁進(jìn)行滅菌的裝置。而且, 本發(fā)明還適用于在無(wú)菌環(huán)境中給容器填充飲料的裝置?,F(xiàn)有技術(shù)中已知利用所謂的水鎖來(lái)防止氣體從裝置中的任何泄漏。在這種情況 下,液體進(jìn)入固定槽,旋轉(zhuǎn)傳輸帶的元件(例如還攜帶有容器)恒速地滑動(dòng)通過(guò)該液體。這 樣,一方面可以旋轉(zhuǎn),另一方面氣體在此液體屏障處不能泄漏。換句話說(shuō),這種水鎖形成可 旋轉(zhuǎn)的密封連接或液池(Iiquidbath),形成液壓密封。
      從DE2139057可知一種用于各種產(chǎn)品的腐敗檢驗(yàn)(s印tic conditioning)的設(shè) 備。該設(shè)備包括通過(guò)圓頂(cupola)而與外部大氣密封的室。而且,提供了與液池的可旋轉(zhuǎn) 的密封連接(形成液壓連接)。從EP1601606 Bl可知一種用于在灌注工廠中的容器的無(wú)菌處理的機(jī)器。在該文 獻(xiàn)中,也提供了兩個(gè)填充有液體的環(huán)形槽,其中環(huán)形體始終滑動(dòng)從而以這種方式實(shí)現(xiàn)密封。 在這種情況下,填充有液體的兩個(gè)槽直接連接無(wú)菌室。本發(fā)明的一個(gè)目的是增加這種裝置關(guān)于滅菌介質(zhì)的泄漏的安全性。另一個(gè)目的是 簡(jiǎn)化現(xiàn)有技術(shù)中已知的裝置。這是通過(guò)權(quán)利要求1的裝置來(lái)實(shí)現(xiàn)的。有利的實(shí)施方式和進(jìn) 一步的改進(jìn)形成了從屬權(quán)利要求的主題。本發(fā)明的用于給容器滅菌的裝置包括處理室,處理室被填充有在預(yù)定熱力學(xué)條件 下且特別是在預(yù)定壓力下的滅菌氣體介質(zhì);被填充有液體介質(zhì)的槽,槽沿著閉合回路延伸; 和多個(gè)用于保持容器的保持裝置,其中保持裝置被排布得能夠相對(duì)形成處理室的壁中的至 少一個(gè)壁旋轉(zhuǎn)。還提供了分隔壁,其部分地伸入槽中的液體介質(zhì)并被排布得能夠相對(duì)槽旋 轉(zhuǎn)。在這種情況下,分隔壁被連接至保持裝置,從而特別是在旋轉(zhuǎn)時(shí)與保持裝置固定在一 起。根據(jù)本發(fā)明,在處理室和槽中的液體介質(zhì)之間設(shè)置有排放口,氣體介質(zhì)可通過(guò)排放口被 排放。在這種情況下,一方面排放口可被排布在槽的外壁的外側(cè)。但是,排放口也可被排 布在槽中的液體介質(zhì)的填充液面之上(因此,可能仍然位于槽的內(nèi)部或槽的壁形成的空腔 內(nèi))。在這兩種結(jié)構(gòu)中,排放口因而按定義被提供在槽和處理室之間。術(shù)語(yǔ)“之間”因而 被理解為位于槽(特別是該槽中的液體)與處理室之間的空間。滅菌介質(zhì)優(yōu)選為過(guò)氧化氫或含過(guò)氧化氫的氣體。液體介質(zhì)特別為水,特別優(yōu)選為 抑菌溶液。分隔壁優(yōu)選伸入液體介質(zhì)以使得液體介質(zhì)與分隔壁一起作為密封件以將處理室 與周?chē)h(huán)境密封開(kāi)。含有液體介質(zhì)的槽和分隔壁的組合形成的上述的“水鎖”。
      優(yōu)選地,含有液體的槽基本為圓形,處理室因而特別為無(wú)菌處理室。通過(guò)本發(fā)明的排放口,可在水鎖和處理室之間形成壓力平衡,因而可以特別可靠 的方式避免氣體介質(zhì)以不期望的方式(即,以任何其他方式)的任何泄漏。
      優(yōu)選地,在處理室和槽中的液體介質(zhì)之間設(shè)有用于氣體介質(zhì)的緩沖室。要指出的 是,也可以僅提供緩沖室,而不提供上述排放口。申請(qǐng)人保留將相應(yīng)的權(quán)利要求指向包含上 述緩沖室的裝置的權(quán)利。優(yōu)選地,緩沖室內(nèi)的氣體介質(zhì)處于比處理室的壓力低的壓力。但 是,特別優(yōu)選的是,緩沖室中的槽的壓力大于外部大氣壓。通過(guò)處理室和緩沖室之間的這種壓力下降,氣體介質(zhì)總是從處理室進(jìn)入緩沖室。 這樣,處理室可總是被保持為無(wú)菌室。另一方面,緩沖室優(yōu)選不被設(shè)計(jì)為無(wú)菌室。優(yōu)選地,分隔壁被排布在蓋住處理室的蓋子上。更具體地,容器的保持裝置也被排 布成在旋轉(zhuǎn)時(shí)與該蓋子固定在一起。在進(jìn)一步有利的實(shí)施方式中,處理室被固定側(cè)壁和可相對(duì)固定側(cè)壁旋轉(zhuǎn)的側(cè)壁所 限定。該結(jié)構(gòu)使得可獲得無(wú)菌處理室的特別有效的密封。優(yōu)選地,裝置包括兩個(gè)上述類型 的槽,上述分隔壁分別伸入槽中。在這種情況下,優(yōu)選地,兩個(gè)槽總是以固定方式被排布,而 兩個(gè)分隔壁相對(duì)這些槽旋轉(zhuǎn)。在進(jìn)一步有利的實(shí)施方式中,分隔壁連接至上述蓋子,從而在 旋轉(zhuǎn)時(shí)與蓋子固定在一起。在進(jìn)一步有利的實(shí)施方式中,這些槽中的一個(gè)被排布在要被滅菌的容器之下或容 器的傳輸器之下,而另一個(gè)槽被排布在要被滅菌的容器之上。這樣,可實(shí)現(xiàn)處理室的完全密 封。在這種情況下,可以為填充有液體介質(zhì)的兩個(gè)槽的每一個(gè)提供上述類型的緩沖室,并且 在兩種情況下也都可以提供排放口,氣體介質(zhì)可借由排放口被排放。優(yōu)選地,槽包括徑向外邊界壁和徑向內(nèi)邊界壁,徑向外邊界壁高于徑向內(nèi)邊界壁。 這樣,為清潔的目的,槽可被填充以使得清潔劑相對(duì)槽向內(nèi)流動(dòng)。槽特別為成形為環(huán)(ring) 的通道或環(huán)的一段的通道。在進(jìn)一步有利的實(shí)施方式中,至少兩個(gè)轉(zhuǎn)向壁被設(shè)置在處理室和緩沖室之間,轉(zhuǎn) 向壁使氣體介質(zhì)的流向轉(zhuǎn)向排放口。由于緩沖室內(nèi)的更低壓力,氣體介質(zhì)從處理室流進(jìn)緩 沖室,并在過(guò)程中通過(guò)轉(zhuǎn)向壁被轉(zhuǎn)向。在這種情況下,優(yōu)選一個(gè)轉(zhuǎn)向壁被以固定方式排布, 而其他轉(zhuǎn)向壁被排布得能夠相對(duì)該固定轉(zhuǎn)向壁旋轉(zhuǎn)。 優(yōu)選地,蓋子以可旋轉(zhuǎn)方式被排布。在進(jìn)一步有利的實(shí)施方式中,至少一個(gè)用于清潔緩沖室的噴嘴被提供在蓋子上。 優(yōu)選地,多個(gè)噴嘴以圓周方向分布,且有利地是,也以徑向方向分布。在進(jìn)一步有利的實(shí)施 方式中,還設(shè)有用于清潔至少兩個(gè)轉(zhuǎn)向壁之間的中間空間的噴嘴。有利地,至少一個(gè)用于清潔槽的噴嘴也被提供在槽上。因而,也可以清潔上述“水 鎖”。優(yōu)選地,該噴嘴還用來(lái)填充該槽。在進(jìn)一步有利的實(shí)施方式中,至少一個(gè)以固定方式被排布的噴嘴也被提供在緩沖 室內(nèi)。優(yōu)選地,該噴嘴被排布在緩沖室的底部。優(yōu)選地,含有液體的槽被排布在要被滅菌的容器之下。但是,槽也可被設(shè)置在要被 滅菌的容器之上,或者如所提及的,可設(shè)置兩個(gè)這樣的槽。在進(jìn)一步有利的實(shí)施方式中,排放口被排布在液體介質(zhì)的填充液面之上。特別優(yōu) 選的是,在這種情況下,排放口連接著用于氣體介質(zhì)的排放管,排放管部分地延伸穿過(guò)槽。有利地,排放管至少部分地延伸穿過(guò)槽內(nèi)的液體。通過(guò)該實(shí)施方式,就不需要形成在槽的外壁和處理室之間的額外的緩沖室。在這種情況下,緩沖室優(yōu)選形成與液體介質(zhì)之上。進(jìn)一步的優(yōu)點(diǎn)和實(shí)施方式將從附圖中顯現(xiàn),在圖中

      圖1顯示用于給容器滅菌的裝置的示意圖;圖2顯示本發(fā)明的用于給容器滅菌的裝置的局部視圖;圖3先生本發(fā)明的用于給容器滅菌的裝置的進(jìn)一步局部視圖;圖4顯示上密封裝置的詳細(xì)視圖;圖5顯示下密封裝置的詳細(xì)視圖;圖6顯示本方面的裝置的進(jìn)一步的詳細(xì)視圖;圖7顯示在進(jìn)一步實(shí)施方式中的本發(fā)明的裝置的詳細(xì)視圖;且圖8顯示圖7的裝置的俯視圖。圖1顯示用于給容器滅菌的裝置1。該裝置包括處理室2,通過(guò)它容器10被滅菌。 該處理室2部分地由固定部件且部分地由相對(duì)這些固定件轉(zhuǎn)動(dòng)的部件形成。在圖1中,固 定部件以實(shí)線顯示,相對(duì)固定部件轉(zhuǎn)動(dòng)的部件以虛線顯示。無(wú)菌氣體經(jīng)入口開(kāi)口 13被引入處理室2。為了密封相對(duì)固定部件旋轉(zhuǎn)的部件,提 供兩個(gè)槽6,槽6始終填充有抑菌溶液或例如填充有水。該溶液被表示為標(biāo)記B。分隔壁12 始終伸入下槽6和上槽6,即該分隔壁12浸入液體B中。由于該分隔壁浸入兩個(gè)槽6內(nèi),處 理室2以整體形式被密封。標(biāo)記8表示傳輸裝置,其引導(dǎo)容器10穿過(guò)處理室2。第一壓力 Pl占據(jù)在處理室內(nèi)部,低于壓力Pl的大氣壓Pat占據(jù)在處理室的外部。由于這些壓力差異,液體介質(zhì)B的填充液面不平衡,而是分隔壁12伸入處理室2 的那側(cè)的液面始終低于分隔壁12位于處理室2的外側(cè)的那側(cè)的液面。在這種情況下,裝置 1的可旋轉(zhuǎn)單元可圍繞旋轉(zhuǎn)軸D旋轉(zhuǎn)。兩個(gè)槽6相似地圍繞此旋轉(zhuǎn)軸D以環(huán)(或環(huán)的一段) 的形狀延伸。處理室2也圍繞旋轉(zhuǎn)軸D以圓環(huán)(或圓環(huán)的一段)的形狀延伸。圖2顯示本發(fā)明的用于給容器滅菌的裝置的詳細(xì)視圖。此處,容器10也被至少部 分地沿著穿過(guò)處理室2的圓形路徑引導(dǎo)。在這種情況下,容器10被排布在保持裝置8上。 保持裝置8又連接至側(cè)壁24,側(cè)壁24限定處理室2。在操作時(shí),無(wú)菌介質(zhì)A被提供在處理 室2內(nèi)。圖2僅顯示一個(gè)槽6,其填充有溶液B。另外的槽(未示出)用來(lái)密封壁24和(固 定的)頂部23之間的空間。標(biāo)記18表示蓋子,其蓋住處理室2。在該蓋子18上還設(shè)有分隔壁12,如上所述, 分隔壁12伸入槽6和溶液B中。排放口 14被設(shè)置在處理室和槽6之間。在操作期間,氣 體介質(zhì)可經(jīng)由該排放口 14被排放。標(biāo)記16表示氣體介質(zhì)A的緩沖室。由于排放口 14,因 而實(shí)現(xiàn)了壓力P2占據(jù)此緩沖室16,該壓力低于處理室2中的壓力pl,但高于裝置外部的大 氣壓pat。標(biāo)記35表示轉(zhuǎn)向壁,轉(zhuǎn)向壁因而形成曲徑(labyrinth),處理室2的壓力pl沿 著該曲徑可降低至緩沖室16內(nèi)的壓力p2。標(biāo)記22表示另一個(gè)(固定)側(cè)壁,該側(cè)壁限定處理室2。處理2因而由兩個(gè)側(cè)壁 22和24、底部23和蓋子18所限定。在蓋子18和側(cè)壁22之間形成有開(kāi)口或缺口 25,通過(guò) 該缺口 25氣體介質(zhì)A流出處理室2。氣體介質(zhì)的最大流速出現(xiàn)在此(環(huán)形)缺口 25處。 因而,清潔的室和周?chē)h(huán)境的無(wú)菌邊界被限定在此環(huán)形缺口處。
      標(biāo)記5表示特別是用于空氣的出口,從而允許緩沖室16和裝置的外部區(qū)域之間的 壓力平衡。標(biāo)記7和9表示填充液面測(cè)量裝置,它們測(cè)定液體介質(zhì)B在槽6中的填充液面。 當(dāng)填充液面非常低時(shí),溶液也可能被再填充(refill)。槽6在徑向方向上由第一邊界壁32 和第二邊界壁34限定。在這種情況下,內(nèi)邊界壁34低于外邊界壁32。這樣具有的優(yōu)點(diǎn)是, 槽6可被填充得使液體介質(zhì)B進(jìn)入緩沖室16從而也能夠清潔后者。標(biāo)記31、33和38表示用于裝置1的內(nèi)部清潔的噴嘴。此處,兩個(gè)噴嘴33和38被 排布在可旋轉(zhuǎn)的蓋子18上,并且如圖2所示,清潔轉(zhuǎn)向壁35的左邊和右邊的區(qū)域。噴嘴31 以固定方式被排布并用來(lái)實(shí)現(xiàn)緩沖室16的內(nèi)部清潔。而且,噴嘴39被設(shè)置在槽6中,用于 后者的內(nèi)部清潔。標(biāo)記29表示出口開(kāi)口,液體介質(zhì)B經(jīng)由該出口開(kāi)口被從槽中排放出來(lái)。 因而,下方噴嘴31、39清潔環(huán)形通道的固定部分,而噴嘴33和38清潔其旋轉(zhuǎn)部分。標(biāo)記46、48和56表示不同的閥,這些閥的功能將在下文詳細(xì)解釋。在操作期間, 兩個(gè)閥46和48被關(guān)閉。氣體介質(zhì)經(jīng)由入口(未示出)進(jìn)入處理室2并按箭頭P6的方向 經(jīng)排放口 14以限定的方式被排出。標(biāo)記52和54表示遮水板,其用作脫水器,從而在需要 時(shí)能夠?qū)⒘鬟^(guò)排放口 14的任何液體運(yùn)走。如果液體介質(zhì)B的填充液面下降至低于特定水平,閥48可被打開(kāi),槽6可經(jīng)由噴 嘴39而被再填充液體介質(zhì)B。在所謂的CIP清潔(cleaning inplace,原位清潔)期間,清 潔劑按箭頭Pl的方向流動(dòng)通過(guò)噴嘴33進(jìn)入第二緩沖室16,從而清潔其內(nèi)部。相似地,清 潔劑按箭頭P2的方向流動(dòng)通過(guò)噴嘴39進(jìn)入槽6,同時(shí)也按箭頭P4的方向流動(dòng)通過(guò)噴嘴31 進(jìn)入緩沖室16。這樣清潔后,槽6也可被再次填充有液體介質(zhì)。
      在圖1所示的實(shí)施方式中,設(shè)置在處理室2之下的閥以固定方式被排布。而且,也可以打開(kāi)閥56并從槽6中抽干液體介質(zhì)或者也抽干清潔劑。過(guò)氧化氫或 含過(guò)氧化氫的混合物可按箭頭P4的方向被引入至緩沖室16。為進(jìn)行SIP(Sterilizatic)n in place,原位滅菌)清潔,緩沖室16可經(jīng)由噴嘴31、 33和38被再次填充有滅菌介質(zhì),同時(shí)該介質(zhì)可經(jīng)由排放口再被抽干。非無(wú)菌氣體介質(zhì)位于緩沖室16內(nèi),如上所述,無(wú)菌介質(zhì)A位于處理室2內(nèi)。在圖2所示的實(shí)施方式中,兩個(gè)槽6也可彼此相鄰地(或彼此相對(duì)同中心地 (concentrically))排布。更具體地,除圖2所示的槽6之外,還可提供含有相應(yīng)分隔壁12 的第二內(nèi)槽。在這種情況下,該內(nèi)槽可被填充有滅菌介質(zhì),并可將處理室2與緩沖室16密 封開(kāi)來(lái),而圖2所示的槽可被填充有水,從而將緩沖室16與周?chē)h(huán)境密封開(kāi)來(lái)。這樣,可以 更加有效地防止有侵害性的氣體從緩沖室的任何泄漏。而且,通過(guò)這種過(guò)量的密封,可以在 即使一個(gè)密封失靈的情況下仍維持整體的密封效果。此外,在本文所示的另一個(gè)實(shí)施方式 中,兩個(gè)槽可被設(shè)置成彼此相鄰。圖3顯示了下方密封件(S卩,排布在要被滅菌的容器下方的密封件)的示意圖。與 圖2所示的密封件相反,在圖3中位于處理室2和緩沖室16之間的密封件的情況下,介質(zhì) 的流動(dòng)未被轉(zhuǎn)向多次。除此之外,下方密封件的排布很大程度上與上方密封件的排布一致, 因而不再詳細(xì)解釋。氣體介質(zhì)A按實(shí)線方向從處理室2向排放口 14流動(dòng)。圖4顯示上方密封件的詳細(xì)視圖。在圖中也可以特別看出槽6或水鎖,也可看出 被設(shè)置在圖中槽6的左方的過(guò)氧化氫屏障,以及帶有排放口 14的緩沖室16。圖5顯示下方密封件的視圖。在該下方密封件中,氣體介質(zhì)A的排放口(未示出)也可被提供在緩沖室16中。
      圖6顯示上方密封件的更詳細(xì)的視圖。此處可見(jiàn)凹口或空穴11,其特別用來(lái)從清 潔流體中收集液體。此處,標(biāo)記31也表示噴嘴,其用來(lái)將介質(zhì)引入至緩沖室16。箭頭P8圖 示出氣體介質(zhì)A在操作期間經(jīng)由排放口排出。圖7顯示本發(fā)明的裝置的另一個(gè)實(shí)施方式的詳細(xì)視圖。雖然在之前附圖所示的實(shí) 施方式中,排放口 14被排布在槽6的外部或槽6的壁34與處理室2之間,但在圖7所示的 實(shí)施方式中,排放口 14被設(shè)置在兩個(gè)壁34和32之間,但高于槽6的填充液面N。更具體 地,排放口 14被設(shè)置在分隔壁12和壁34之間。此處,緩沖室16高于相對(duì)分隔壁12處于左側(cè)的液體介質(zhì)B。標(biāo)記30表示排放管, 排放口 14位于其末端。此排放管30從槽6的底部27基本垂直地向上延伸,因而穿過(guò)液體 B。底部27之下是管30的彎曲段。在圖7的實(shí)施方式中,排放口 14被排布得低于兩個(gè)壁32和34的上端。這樣,過(guò) 量液體可經(jīng)由排放口 14被排走。但是,也可以提供封閉構(gòu)件(未示出,例如通過(guò)使用浮體 來(lái)提供),當(dāng)填充液面N甚至排放口 14的高度時(shí),該封閉構(gòu)件使排放口關(guān)閉。圖7因而顯示出了一個(gè)特別節(jié)省空間的實(shí)施方式。在液面N之上,得到另一個(gè)環(huán) 形通道,該通道具有負(fù)壓。此處,最大流速也是在(環(huán)形)缺口 25處獲得的。圖8顯示圖7的裝置的俯視圖。可看出,此處共有四個(gè)排放口 14被設(shè)置在槽6內(nèi)。 這四個(gè)排放口 14按圓周方向平均地分布。排放口 14的界面稍微小于分隔壁12與槽6的 壁34之間的徑向距離。整個(gè)密封系統(tǒng)被方便地插入在裝置的運(yùn)載板和清潔室的罩之間。在本申請(qǐng)文件中公開(kāi)的所有特征,只要它們單獨(dú)地或組合地相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)來(lái)說(shuō) 是新穎的,則是本發(fā)明的精髓。
      權(quán)利要求
      一種用于給容器(10)滅菌的裝置,所述裝置包括處理室(2),處理室(2)被填充有在預(yù)定熱力學(xué)條件下的滅菌用氣體介質(zhì)(A);槽(6),槽(6)被填充有液體介質(zhì)并沿著閉合回路延伸;多個(gè)保持裝置(8),用于保持容器,其中保持裝置(8)被排布得能夠相對(duì)形成處理室(2)的壁(18、22、23、24)中的至少一個(gè)旋轉(zhuǎn);以及分隔壁(12),分隔壁(12)伸入位于槽(6)中的液體介質(zhì)(B)中并被排布得能夠相對(duì)槽(6)旋轉(zhuǎn),其特征在于,在處理室(2)和位于槽(6)中的液體介質(zhì)(B)之間設(shè)有排放口(14),氣體介質(zhì)(A)經(jīng)由該排放口(14)被排放。
      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置,其特征在于,在所述處理室(2)和位于所述槽(6)的液 體介質(zhì)(B)之間設(shè)有氣體介質(zhì)(A)的緩沖室(16)。
      3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的裝置,其特征在于,在所述緩沖室(16)內(nèi)的介質(zhì)(A)處于比 處理室(2)的壓力低的壓力(p2)。
      4.根據(jù)前述權(quán)利要求的至少一項(xiàng)所述的裝置(1),其特征在于,所述分隔壁被排布在 蓋住所述處理室(2)的蓋子(18)上。
      5.根據(jù)前述權(quán)利要求的至少一項(xiàng)所述的裝置(1),其特征在于,所述處理室(2)被固定 側(cè)壁(22)和可旋轉(zhuǎn)側(cè)壁(24)所限定,所述可旋轉(zhuǎn)側(cè)壁(24)可相對(duì)所述固定側(cè)壁(22)旋 轉(zhuǎn)。
      6.根據(jù)前述權(quán)利要求的至少一項(xiàng)所述的裝置(1),其特征在于,所述裝置(1)包括兩個(gè) 彼此分開(kāi)的槽(6),還包括兩個(gè)分隔壁(12),所述兩個(gè)分隔壁(12)分別伸入槽(6)中。
      7.根據(jù)前述權(quán)利要求的至少一項(xiàng)所述的裝置(1),其特征在于,所述槽(6)包括徑向 外邊界壁(32)和徑向內(nèi)邊界壁(34),并且所述徑向外邊界壁(32)低于所述徑向內(nèi)邊界壁 (34)。
      8.根據(jù)前述權(quán)利要求的至少一項(xiàng)所述的裝置(1),其特征在于,在所述處理室和所述 緩沖室(16)之間設(shè)置有至少兩個(gè)轉(zhuǎn)向壁(34、36),所述轉(zhuǎn)向壁使氣體介質(zhì)(A)的流向轉(zhuǎn)向 所述排放口。
      9.根據(jù)前述權(quán)利要求的至少一項(xiàng)所述的裝置(1),其特征在于,所述蓋子(18)以可旋 轉(zhuǎn)的方式被排布。
      10.根據(jù)前述權(quán)利要求的至少一項(xiàng)所述的裝置(1),其特征在于,在所述蓋子(18)上設(shè) 有至少一個(gè)用于清潔所述緩沖室(16)的噴嘴(38)。
      11.根據(jù)前述權(quán)利要求的至少一項(xiàng)所述的裝置(1),其特征在于,在所述槽(6)中設(shè)有 至少一個(gè)用于清潔所述槽(6)的噴嘴(39)。
      12.根據(jù)前述權(quán)利要求2-10的至少一項(xiàng)所述的裝置(1),其特征在于,在所述緩沖室 (16)中設(shè)有至少一個(gè)以固定方式排布的噴嘴(37)。
      13.根據(jù)前述權(quán)利要求的至少一項(xiàng)所述的裝置(1),其特征在于,所述槽(6)被排布在 要被滅菌的容器(16)之下。
      14.根據(jù)前述權(quán)利要求的至少一項(xiàng)所述的裝置(1),其特征在于,所述排放口被排布在 所述液體介質(zhì)(B)的填充液面(N)之上。
      15.根據(jù)前述權(quán)利要求的至少一項(xiàng)所述的裝置(1),其特征在于,所述排放口(14)與氣 體介質(zhì)的排放管(30)連接,所述排放管(30)部分地延伸穿過(guò)所述槽(6)。
      全文摘要
      本發(fā)明涉及一種用于給容器(10)滅菌的裝置,其包括第一處理空間(2),該第一處理空間(2)填充有在預(yù)定熱力學(xué)條件下的滅菌用氣體介質(zhì)(A);槽(6),槽(6)被填充有液體介質(zhì)(B)并沿著閉合回路延伸;多個(gè)保持裝置(8),保持裝置(8)用于保持所述容器(10),其中保持裝置(8)被排布得相對(duì)所述處理空間(2)可旋轉(zhuǎn);和分隔壁(12),分隔壁(12)伸入位于所述槽(6)中的液體介質(zhì)(B)并被排布成相對(duì)所述槽(6)可旋轉(zhuǎn)。根據(jù)本發(fā)明,在所述處理空間(2)和所述槽(6)之間設(shè)有排放口(14),氣體介質(zhì)(A)經(jīng)由該排放口被排放。
      文檔編號(hào)B67C7/00GK101861172SQ200880110473
      公開(kāi)日2010年10月13日 申請(qǐng)日期2008年9月30日 優(yōu)先權(quán)日2007年10月2日
      發(fā)明者布格梅爾·伯特霍爾德, 曼弗雷德·施密德, 羅蘭·洛馬 申請(qǐng)人:克朗斯公司
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