專利名稱：周轉(zhuǎn)裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種周轉(zhuǎn)裝置，尤其涉及一種在顯示器器件生產(chǎn)中用于承載并周轉(zhuǎn)預(yù)
設(shè)長度基板的周轉(zhuǎn)裝置。
背景技術(shù)：
隨著數(shù)字娛樂與多媒體技術(shù)的發(fā)展，顯示器已成為人們生活中不可缺少的部 分，例如薄膜晶體管液晶顯示器(TFT-LCD)，由于其輕、薄的特性，除了對既有市場產(chǎn)生 替代的效應(yīng)外，新的應(yīng)用領(lǐng)域亦應(yīng)運而生，包括可攜帶式產(chǎn)品、信息產(chǎn)品及視訊產(chǎn)品等； 邁入二十一世紀(jì)后，隨著國際能源形勢的日益嚴(yán)峻，消費者的節(jié)能環(huán)保意識也逐漸提高， 因而對低能耗、無污染的綠色節(jié)能技術(shù)的研發(fā)成為了各大顯示器廠商的創(chuàng)新動力，其中， 0LED (Organic Light-EmittingDiode)即有機發(fā)光二極管，是綠色節(jié)能顯示器的新寵，0LED 無需背光燈，其原理是把有機發(fā)光層夾在正負(fù)兩電極之間，當(dāng)正負(fù)極電子在此有機材料中 相遇時就會發(fā)光，該技術(shù)的優(yōu)點很多，例如重量輕，厚度??；可以主動發(fā)光；動態(tài)畫面質(zhì)量 高和使用溫度范圍廣等，這些優(yōu)點使得專家將其評價為未來的理想顯示器。與傳統(tǒng)的LCD 相比，0LED顯示屏在使用中可以明顯感到清晰度、對比度和亮度的提高，另外，其還具有功 耗低和可視角度大兩大優(yōu)點。目前，0LED技術(shù)還處在發(fā)展完善階段，但由于其優(yōu)點突出，已 經(jīng)受到眾多廠家的青睞。制造0LED的基本工藝包括基板制作、光刻、基片處理、成膜、封裝、 老化測試及IC連接等，其中，基板起著舉足輕重的作用，0LED的基板材料由非常薄且易碎 的玻璃或石英制成，在OLED的基板制作工序及后續(xù)工藝中，基板需要經(jīng)過諸多工藝步驟， 因此需要一種周轉(zhuǎn)裝置來完成基板的存儲及搬運。 現(xiàn)有的一種用于對基板進(jìn)行存儲及搬運的周轉(zhuǎn)裝置，多個基板以立置的方式放置 在基板周轉(zhuǎn)裝置內(nèi)，該基板周轉(zhuǎn)裝置直立放置于水平工作臺上，操作時多個直立放置的基 板不易取出；在運輸?shù)倪^程中，由于振動，容易造成基板的掉落。另一種周轉(zhuǎn)裝置是將基板 水平放置，如圖l所示，這種周轉(zhuǎn)裝置的支撐部件3r水平設(shè)置，基板5(T置于支撐部件3r
上后，基板5(r與支撐部件3r之間是面接觸，這樣會產(chǎn)生兩個問題一是支撐部件3r水
平設(shè)置，其上有大量灰塵，基板5(T置于支撐部件3r的水平面后，水平面上的灰塵會使基 板5(T受到較大污染；二是基板5(T的尺寸較大時，基板5(T會因為重力的作用產(chǎn)生微量變 形，使得基板5(T的邊沿產(chǎn)生翹曲，相對變形前，翹曲后的基板5(T與支撐部件3r的接觸 面減小，即由變形前的面接觸變?yōu)樽冃魏蟮木€接觸，由于支撐部件31—未進(jìn)行加工處理，容 易將基板5(T劃傷；三是基板5(T會產(chǎn)生較大的內(nèi)應(yīng)力集中作用，產(chǎn)生不規(guī)則變形，最終使 基板5(T的良品率下降，且基板5(T在運輸過程中容易掉落。 因此，急需一種減小基板污染、避免基板刮傷、緩沖基板內(nèi)應(yīng)力集中作用的周轉(zhuǎn)裝置。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種減小基板污染、避免基板刮傷、緩沖基板內(nèi)應(yīng)力集中作用的周轉(zhuǎn)裝置。 為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明的技術(shù)方案為提供一種周轉(zhuǎn)裝置，所述周轉(zhuǎn)裝置包括頂 板、底板、擋板及兩側(cè)板，所述頂板與所述底板平行設(shè)置，所述側(cè)板相互平行的設(shè)置于所述 頂板與所述底板之間，所述側(cè)板垂直于所述頂板及所述底板，所述頂板、底板及側(cè)板形成具 有兩開口的基板裝載腔，所述擋板設(shè)置于所述頂板與所述底板之間，且所述擋板位于兩所 述開口之一處并與所述側(cè)板垂直，另一所述開口形成供基板進(jìn)出的基板進(jìn)出口 ，其中，所述 側(cè)板上平行設(shè)置有多個向所述基板裝載腔延伸的支撐體，所述支撐體的上表面形成支撐基 板的上支撐面，所述上支撐面朝所述基板裝載腔方向傾斜向下設(shè)置，所述支撐體的各面結(jié) 合部均為圓角。 較佳地，所述支撐體呈臺階狀，所述臺階狀的支撐體的上表面形成多個支撐基板 的上支撐面，相鄰的所述上支撐面之間通過臺階壁連接，所述臺階壁均與所述側(cè)板平行，所 述上支撐面均朝所述基板裝載腔方向傾斜向下設(shè)置且相互平行，所述上支撐面與所述臺階 壁的結(jié)合部均為圓角，臺階狀支撐體的上表面形成不同層次的上支撐面，可適應(yīng)不同尺寸 基板的裝載，不同尺寸的基板放置于相應(yīng)的上支撐面上，臺階壁對基板起限位作用；不同尺 寸的基板放置于相應(yīng)層次的上支撐面后，基板在自身重力作用下會產(chǎn)生微量變形，在基板 變形的過程中，朝所述基板裝載腔方向傾斜向下設(shè)置的各上支撐面對基板的變形起緩沖作 用，減小基板的內(nèi)應(yīng)力集中作用，減小基板的不規(guī)則變形，也保證基板在運輸過程中不易掉 落；同時，由于各臺階壁與各上支撐面的結(jié)合部為圓角，使基板在變形后不易被刮傷，保證 基板的良品率。 較佳地，所述上支撐面呈弧形，呈弧形的上支撐面使落在其上的灰塵微粒沿弧形 最高點向兩側(cè)滑落，使上支撐面保持清潔，且呈弧形的上支撐面可以更好的將基板與上支 撐面的接觸面積最小化，使基板在承載及運輸過程中，保持高清潔度。 較佳地，所述上支撐面上具有多個相互平行且突出的呈弧形的弧面，多個弧面的 設(shè)計，可根據(jù)實際需要增大基板與上支撐面的接觸面積，更好的支撐基板，緩沖被支撐基板 的變形，防止基板在周轉(zhuǎn)過程中跌落。 較佳地，所述上支撐面上被覆防塵防滑的防護(hù)層，所述防護(hù)層為防塵樹脂層，所述 上支撐面上的防塵樹脂層，進(jìn)一步減少上支撐面上的灰塵微粒，避免基板受污染，同時在基 板裝載后防止基板滑動并避免基板被刮傷。 較佳地，所述上支撐面朝所述基板裝載腔方向傾斜向下的角度小于10° ，上支撐 面向下傾斜，一方面使上支撐面上的灰塵微粒可沿著傾斜的上支撐面滑落，減少上支撐面 上附著的灰塵微粒；另一方面，當(dāng)放置于支撐體上的基板產(chǎn)生變形時，傾斜的上支撐面對基 板的變形起到緩沖作用，減少基板的內(nèi)應(yīng)力集中作用，防止基板在周轉(zhuǎn)過程中跌落，保證基 板的良品率。 較佳地，所述周轉(zhuǎn)裝置還包括支撐所述支撐體的加強板，所述加強板的一端與所 述支撐體連接，所述加強板的另一端與所述側(cè)板連接，所述加強板采用高強度的金屬制成， 用于加強支撐體的強度，防止支撐體變形。 較佳地，所述支撐體設(shè)置于所述側(cè)板的一側(cè)或相對的兩側(cè)，更具體地，所述側(cè)板與 所述支撐體一體成型，且兩所述側(cè)板上的所述支撐體對稱設(shè)置，當(dāng)需要將多個基板周轉(zhuǎn)裝 置連接在一起時，采用兩側(cè)都形成有支撐體的側(cè)板組裝在一起，結(jié)構(gòu)簡單且方便靈活。
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與現(xiàn)有技術(shù)相比，由于本發(fā)明周轉(zhuǎn)裝置具有頂板、底板、側(cè)板及擋板形成的具有基 板進(jìn)出口的基板裝載腔，擋板用于限制基板的移動；所述側(cè)板上一體成型多個向所述基板 裝載腔延伸的支撐體，且所述多個支撐體相互平行設(shè)置，所述支撐體的上表面形成支撐基 板的上支撐面，所述上支撐面朝所述基板裝載腔方向傾斜向下設(shè)置，所述支撐體的各面結(jié) 合部均為圓角；基板載入周轉(zhuǎn)裝置時，通過機械手將基板由周轉(zhuǎn)裝置的基板進(jìn)出口送入周 轉(zhuǎn)裝置內(nèi)，并放置于支撐體的上支撐面上；由于上支撐面傾斜設(shè)置， 一方面使落在上支撐面 上的灰塵微?？裳仄浔砻婊洌瑴p少上支撐面上的灰塵微粒，盡可能減小基板受污染程度， 保持基板的高清潔度；另一方面基板放置于上支撐面上時，基板與上支撐面之間是線接觸， 接觸面較小，當(dāng)基板在自身重力作用下產(chǎn)生微量變形時，由于上支撐面的傾斜設(shè)置，基板變 形過程中，基板逐漸與傾斜的上支撐面接觸，由放置時的線接觸逐漸變?yōu)槊娼佑|，通過面接 觸來支撐基板，對基板的變形起緩沖作用，較小基板的內(nèi)應(yīng)力集中作用，減小基板的不規(guī)則 變形，并防止基板在運輸過程中滑落；另外，由于支撐體的各面結(jié)合部均為圓角，在基板變 形后不會刮傷基板，在基板載入載出過程中，也不會刮傷基板，保證基板的良品率。


圖1是現(xiàn)有的周轉(zhuǎn)裝置承載基板的狀態(tài)示意圖。圖2是本發(fā)明周轉(zhuǎn)裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。圖3是本發(fā)明周轉(zhuǎn)裝置承載基板的截面狀態(tài)示意圖。圖4是圖3中A部分的放大示意圖。圖5是本發(fā)明周轉(zhuǎn)裝置第一實施例中的支撐體的結(jié)構(gòu)示意圖。圖6a是本發(fā)明周轉(zhuǎn)裝置第二實施例中的支撐體的結(jié)構(gòu)示意圖。圖6b是圖6a沿C方向的結(jié)構(gòu)示意圖。圖7a是本發(fā)明周轉(zhuǎn)裝置第三實施例中的支撐體的結(jié)構(gòu)示意圖。圖7b是圖7a的側(cè)面結(jié)構(gòu)示意圖。圖8a是本發(fā)明周轉(zhuǎn)裝置第四實施例中的支撐體的結(jié)構(gòu)示意圖。圖8b是圖8a的側(cè)面結(jié)構(gòu)示意圖。圖9a是本發(fā)明周轉(zhuǎn)裝置第五實施例中的支撐體的結(jié)構(gòu)示意圖。圖9b是圖9a的側(cè)面結(jié)構(gòu)示意圖。圖10a是本發(fā)明周轉(zhuǎn)裝置第六實施例中的支撐體的結(jié)構(gòu)示意圖。圖10b是圖10a的側(cè)面結(jié)構(gòu)示意圖。圖lla是本發(fā)明周轉(zhuǎn)裝置第七實施例中的支撐體的結(jié)構(gòu)示意圖。圖lib是圖lla的側(cè)面結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施例方式
現(xiàn)在參考附圖描述本發(fā)明的實施例，附圖中類似的元件標(biāo)號代表類似的元件。
如圖2-圖5所示，本發(fā)明周轉(zhuǎn)裝置1，用于承載薄板狀的基板50并進(jìn)行運輸，其包 括頂板10、底板20、擋板40及兩側(cè)板30，頂板10與底板20平行設(shè)置，兩側(cè)板30相互平行 的設(shè)置于頂板10與底板20之間，兩側(cè)板30均垂直于頂板10及底板20，頂板10、底板20 及側(cè)板30形成具有兩開口的基板裝載腔70，擋板40設(shè)置于頂板10與底板20之間，且擋
5板40位于兩所述開口之一處并與兩側(cè)板30垂直，另一所述開口形成供基板進(jìn)出的基板進(jìn) 出口 60，擋板40用于限制基板50的移動，其中，側(cè)板30上平行設(shè)置有多個向基板裝載腔 70延伸的支撐體31 ，支撐體31的上表面形成支撐基板50的上支撐面311，上支撐面311朝 基板裝載腔70方向傾斜向下設(shè)置，支撐體31的各面結(jié)合部均為圓角，上支撐面311朝所述 基板裝載腔70方向傾斜向下的角度小于10。，優(yōu)選地，該傾斜角度小于5。；當(dāng)需要將基板 50裝入該周轉(zhuǎn)裝置1時，機械手(圖未示)拾起基板50并將基板50通過周轉(zhuǎn)裝置的基板 進(jìn)出口 60載入基板裝載腔70內(nèi)，并放置于支撐體31的上支撐面311上，機械手退出基板 裝載腔70，完成基板50載入過程；由于上支撐面311向下傾斜，使落在上支撐面311上的 灰塵微?？裳仄浔砻婊?，減少上支撐面311上的灰塵微粒，盡可能減小基板50的受污染 程度，進(jìn)而保持基板50的高清潔度；基板50放置于支撐體31上時，基板與上支撐面311之 間是線接觸，當(dāng)基板50由于自身重力作用產(chǎn)生微量變形時，傾斜的上支撐面311對基板50 的變形起到緩沖作用，在基板50變形過程中，基板50與上支撐面311之間逐漸由線接觸變 為面接觸，通過面接觸來支撐基板50，對基板50的變形起緩沖作用，較小基板50的內(nèi)應(yīng)力 集中作用，進(jìn)而減小基板50的不規(guī)則變形，并防止基板50在運輸過程中滑落；另外，支撐體 31的各面結(jié)合部均為圓角，尤其是上支撐面311與各面的結(jié)合部均為圓角312，在基板50 變形后不會刮傷基板50，保證基板50的良品率。本發(fā)明周轉(zhuǎn)裝置1采用鋁合金制成，頂板 10、底板20、側(cè)板及擋板40之間通過螺釘固定在一起，頂板10與底板20上開設(shè)有孔，側(cè)板 上行開槽，節(jié)省材料的同時，減輕周轉(zhuǎn)裝置l的重量，需要將多個周轉(zhuǎn)裝置l連接在一起時， 采用兩側(cè)均具有支撐體31的側(cè)板，使周轉(zhuǎn)裝置1的結(jié)構(gòu)簡單、布局緊湊、生產(chǎn)成本低。
下面結(jié)合附圖，詳細(xì)闡述本發(fā)明的實施例。 如圖5所示，本發(fā)明周轉(zhuǎn)裝置1的第一實施例中，周轉(zhuǎn)裝置1還可包括支撐所述支 撐體31的加強板32，加強板32的一端與支撐體31連接，另一端與側(cè)板30連接，加強板32 用于提高支撐體31的強度，防止支撐體31在自身重力及基板50重力作用下變形；在支撐 體31的上支撐面311上還可覆蓋一層防塵防滑的防護(hù)層，優(yōu)選地為防塵型樹脂層，進(jìn)一步 的防止基板50載入后受到污染和刮傷。 如圖6a、6b所示，本發(fā)明周轉(zhuǎn)裝置1的第二實施例中，支撐體31與上述第一實施 例的不同之處在于，該實施例中，支撐體31的上支撐面311呈弧形，該弧形沿上支撐面311 的傾斜方向設(shè)置，上支撐面311與側(cè)板30相交所形成的弧線的最高點為點B，上支撐面311 的末端所成的弧線的最高點為B—，直線BB—平行于上支撐面311且位于圓弧的中間；弧形 的上支撐面311可在成型支撐體31時一體成型，在一體成型的弧形上支撐面311上還可以 覆蓋防塵防滑的防護(hù)層，該防護(hù)層優(yōu)選為防塵型樹脂層；弧形上支撐面311也可由其他材 料成型，即弧形上支撐面311與支撐體31非一體成型，具體地，可采用防塵防滑材料，例如 防塵型樹脂，覆蓋于支撐體31的上表面并形成弧形上支撐面311，該防塵防滑材料形成的 弧形上支撐面311依附于鋁合金成型的支撐體31上。上支撐面311為弧形，當(dāng)有灰塵微粒 落到上支撐面311上時，灰塵微粒不會留在上支撐面311上，而是沿弧形最高點所在直線 BB—向兩側(cè)滑落，且由于上支撐面311的傾斜設(shè)計，滑落到弧形兩側(cè)的灰塵微粒會沿著傾斜 的上支撐面311滑落，保持上支撐面311的高清潔度，同時，基板50放置于上支撐面311上 時，基板50與上支撐面311的接觸面僅為直線BB—，使兩者的接觸面積最小化，使基板50 的受污染程度降到最低；在一體成型的弧形上支撐面311上覆蓋防塵防滑的防護(hù)層或由防塵防滑材料形成弧形上支撐面311，進(jìn)一步的防止基板50載入載出過程中或置于上支撐面 311上后受到污染和刮傷。本發(fā)明周轉(zhuǎn)裝置1的上支撐面311并不限于一個弧面，還可形成 具有多個弧面的弧形上支撐面，且弧面的設(shè)置也不限于沿上支撐面311的傾斜方向設(shè)置， 下面結(jié)合附圖進(jìn)一步說明。 如圖7a、7b所示，本發(fā)明周轉(zhuǎn)裝置1的第三實施例中，支撐體31與上述第一實施 例的支撐體31相比，該實施例的支撐體31為臺階狀，臺階狀支撐體31的不同層次的上表 面形成多個上支撐面311，相鄰上支撐面311之間通過臺階壁314連接，臺階壁314均與側(cè) 板30平行，上支撐面311均朝基板裝載腔70方向傾斜向下設(shè)置且相互平行，上支撐面311 與臺階壁314的結(jié)合部均為圓角312，臺階狀的支撐體31可適應(yīng)不同尺寸基板50的裝載及 周轉(zhuǎn)，各上支撐面311用來支撐對應(yīng)尺寸的基板50，各臺階壁314對基板50起限位作用，通 過臺階狀支撐體31的設(shè)置來適應(yīng)不同尺寸基板50，避免了通過手動調(diào)節(jié)周轉(zhuǎn)裝置兩側(cè)的 板距離來適應(yīng)不同尺寸基板50，結(jié)構(gòu)簡單，改善不同尺寸基板50裝載不便的問題且生產(chǎn)成 本低。 如圖8a、8b所示，本發(fā)明周轉(zhuǎn)裝置l的第四實施例中，支撐體31與上述第二、第三 實施例的支撐體相比，該實施例中的支撐體31呈臺階狀，且臺階狀支撐體31的上表面形成 的各上支撐面311均呈弧形，上支撐面311的弧形與上述第二實施例的上支撐面相同，在本 實施例中，弧形上支撐面311與支撐體31 —體成型；在弧形上支撐面311和臺階壁314上 還可覆蓋一層防塵防滑的防護(hù)層，優(yōu)選地為防塵型樹脂層，進(jìn)一步的防止基板50載入或置 于各上支撐面311上后受到污染和刮傷。 如圖9a、9b所示，本發(fā)明周轉(zhuǎn)裝置1的第五實施例中，支撐體31與上述第四實施 例的支撐體31相比，各弧形上支撐面311不與支撐體31 —體成型，而是由依附于其上的防 塵防滑防護(hù)層形成，通過在臺階狀支撐體31的各上表面及臺階壁314上均覆蓋一層防塵防 滑的防護(hù)層，該防護(hù)層優(yōu)選地為防塵型樹脂層，該防塵型樹脂材料形成弧形，由防塵型樹脂 材形成的弧形上支撐面313依附于鋁合金成型的支撐體31上，進(jìn)一步的防止基板50載入 或置于各上支撐面311上后受到污染和刮傷。 如圖10a、10b所示，本發(fā)明周轉(zhuǎn)裝置l的第六實施例中，支撐體31的上支撐面311 具有多個弧面313，弧面313均沿上支撐面311的傾斜方向設(shè)置且相互平行；多個弧面313 和支撐體31可一體成型，在成型多個弧面313的上支撐面311上還可以覆蓋防塵防滑的防 護(hù)層，該防護(hù)層優(yōu)選為防塵型樹脂層；弧面313和支撐體31也可以是不同材料，弧面313由 依附在上支撐體表面的材料形成，具體地，采用防塵防滑材料，例如防塵型樹脂，覆蓋于上 支撐體的上表面并形成有多個弧面313的上支撐面311，該防塵防滑材料依附于鋁合金成 型的支撐體31上；多個弧面313的設(shè)計可增大基板50與上支撐面311的接觸面積，更好的 緩和被支撐基板50的變形，防止基板50在周轉(zhuǎn)過程中跌落。 如圖11a、llb所示，本發(fā)明周轉(zhuǎn)裝置1的第七實施例中，支撐體31與上述第六實 施例的支撐體相比，上支撐面311上的弧面313并不限于上述實施例六中的設(shè)置方向，本實 施例與上述第六實施例相比，僅在于上支撐面311上的多個弧面313的設(shè)置方向不同，弧面 313不沿上支撐面311的傾斜方向設(shè)置，進(jìn)一步增大上支撐面311與基板50的接觸面積。
由于發(fā)明周轉(zhuǎn)裝置1具有頂板10、底板20、側(cè)板30及擋板40形成的具有基板進(jìn) 出口 60的基板裝載腔70，擋板40用于限制基板50的移動；側(cè)板30上一體成型多個向基
7板裝載腔70延伸的支撐體31，且多個支撐體31相互平行設(shè)置，支撐體31的上表面形成支 撐基板50的上支撐面311，所述上支撐面311朝基板裝載腔70方向傾斜向下設(shè)置，支撐體 31的各面結(jié)合部均為圓角；基板50載入周轉(zhuǎn)裝置1時，通過機械手將基板50由周轉(zhuǎn)裝置 1的基板進(jìn)出口 60送入周轉(zhuǎn)裝置1內(nèi)，并放置于支撐體31的上支撐面311上；由于上支撐 面311傾斜設(shè)置， 一方面使落在上支撐面311上的灰塵微?？裳仄浔砻婊?，減少上支撐面 31上的灰塵微粒，盡可能減小基50板受污染程度，保持基板50的高清潔度；另一方面基板 50放置于上支撐面311上時，基板50與上支撐面311之間是線接觸，接觸面較小，當(dāng)基板 50在自身重力作用下產(chǎn)生微量變形時，由于上支撐面311的傾斜設(shè)置，基板50變形過程中， 基板50逐漸與傾斜的上支撐面311接觸，由放置時的線接觸逐漸變?yōu)槊娼佑|，通過面接觸 來支撐基板50，對基板50的變形起緩沖作用，較小基板50的內(nèi)應(yīng)力集中作用，減小基板50 的不規(guī)則變形，并防止基板50在運輸過程中滑落；另外，由于支撐體31的各面結(jié)合部均為 圓角，在基板50變形后不會刮傷基板50，在基板50載入載出過程中，也不會刮傷基板50， 保證基板50的良品率；同時，本發(fā)明周轉(zhuǎn)裝置1的支撐體31可設(shè)計為臺階狀，以適應(yīng)不同 尺寸的基板50承載及周轉(zhuǎn)，其結(jié)構(gòu)簡單，布局緊湊，生產(chǎn)成本低。 本發(fā)明周轉(zhuǎn)裝置1并不限于對基板50的承載及周轉(zhuǎn)，還可根據(jù)實際需要，用于相 類似的薄板狀物體的承載及周轉(zhuǎn)。 以上所揭露的僅為本發(fā)明的優(yōu)選實施例而已，當(dāng)然不能以此來限定本發(fā)明之權(quán)利 范圍，因此依本發(fā)明申請專利范圍所作的等同變化，仍屬本發(fā)明所涵蓋的范圍。
權(quán)利要求
一種周轉(zhuǎn)裝置，適用于承載薄板狀的基板并進(jìn)行運輸，所述周轉(zhuǎn)裝置包括頂板、底板、擋板及兩側(cè)板，所述頂板與所述底板平行設(shè)置，所述側(cè)板相互平行的設(shè)置于所述頂板與所述底板之間，所述側(cè)板垂直于所述頂板及所述底板，所述頂板、底板及側(cè)板形成具有兩開口的基板裝載腔，所述擋板設(shè)置于所述頂板與所述底板之間，且所述擋板位于兩所述開口之一處并與所述側(cè)板垂直，另一所述開口形成供基板進(jìn)出的基板進(jìn)出口，其特征在于所述側(cè)板上平行設(shè)置有多個向所述基板裝載腔延伸的支撐體，所述支撐體的上表面形成支撐基板的上支撐面，所述上支撐面朝所述基板裝載腔方向傾斜向下設(shè)置，所述支撐體的各面結(jié)合部均為圓角。
2. 如權(quán)利要求l所述的周轉(zhuǎn)裝置，其特征在于所述支撐體呈臺階狀，所述臺階狀的支 撐體的上表面形成多個支撐基板的上支撐面，相鄰的所述上支撐面之間通過臺階壁連接， 所述臺階壁均與所述側(cè)板平行，所述上支撐面均朝所述基板裝載腔方向傾斜向下設(shè)置且相 互平行，所述上支撐面與所述臺階壁的結(jié)合部均為圓角。
3. 如權(quán)利要求1-2中任一項所述的周轉(zhuǎn)裝置，其特征在于所述上支撐面呈弧形。
4. 如權(quán)利要求3所述的周轉(zhuǎn)裝置，其特征在于所述上支撐面上具有多個相互平行且 突出的呈弧形的弧面。
5. 如權(quán)利要求3所述的周轉(zhuǎn)裝置，其特征在于所述上支撐面上被覆防塵防滑的防護(hù) 層，所述防護(hù)層為防塵樹脂層。
6. 如權(quán)利要求5所述的周轉(zhuǎn)裝置，其特征在于所述上支撐面朝所述基板裝載腔方向 傾斜向下的角度小于IO。。
7. 如權(quán)利要求1所述的周轉(zhuǎn)裝置，其特征在于所述周轉(zhuǎn)裝置還包括支撐所述支撐體 的加強板，所述加強板的一端與所述支撐體連接，所述加強板的另一端與所述側(cè)板連接。
8. 如權(quán)利要求1所述的周轉(zhuǎn)裝置，其特征在于所述支撐體設(shè)置于所述側(cè)板的一側(cè)或 相對的兩側(cè)。
9. 如權(quán)利要求1所述的周轉(zhuǎn)裝置，其特征在于所述側(cè)板與所述支撐體一體成型。
10. 如權(quán)利要求1所述的周轉(zhuǎn)裝置，其特征在于兩所述側(cè)板上的所述支撐體對稱設(shè)置。
全文摘要
本發(fā)明公開一種周轉(zhuǎn)裝置，其包括頂板、底板、擋板及兩側(cè)板，頂板與底板平行設(shè)置，側(cè)板相互平行的設(shè)置于頂板與底板之間，側(cè)板垂直于頂板及底板，頂板、底板及側(cè)板形成具有兩開口的基板裝載腔，擋板設(shè)置于頂板與底板之間，且擋板位于兩開口之一處并與側(cè)板垂直，另一開口形成供基板進(jìn)出的基板進(jìn)出口，其中，側(cè)板上平行設(shè)置有多個向基板裝載腔延伸的支撐體，支撐體的上表面形成支撐基板的上支撐面，上支撐面朝基板裝載腔方向傾斜向下設(shè)置，支撐體的各面結(jié)合部均為圓角，該裝置用于OLED生產(chǎn)中基板的承載及周轉(zhuǎn)，使基板在周轉(zhuǎn)過程中受污染程度小，不易被刮傷，并能緩沖基板的內(nèi)應(yīng)力集中作用，較小基板變形，提高基板的良品率。
文檔編號B65D6/08GK101693479SQ200910042150
公開日2010年4月14日 申請日期2009年8月25日 優(yōu)先權(quán)日2009年8月25日
發(fā)明者劉惠森, 楊明生, 王勇, 王曼媛, 范繼良, 郭業(yè)祥 申請人:東莞宏威數(shù)碼機械有限公司;