專利名稱：自動化真空輔助閥灌注系統(tǒng)及使用方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及閥灌注系統(tǒng)和方法，更具體地，涉及用于灌注流體分配閥的流體室的自動化系統(tǒng)和方法。
背景技術(shù)：
在具有表面安裝部件的電子電路板組件的制造中，液體粘合劑快速和可靠的分配是一個困難的任務(wù)。傳統(tǒng)流體分配系統(tǒng)中使用的旋轉(zhuǎn)式正排量泵、氣動注射器和動量傳遞噴射閥具有固有的沉積精度局限性。例如，從流體分配閥分配的流體的沉積速度可能受到收集在閥的流體輸送室中的粘合劑內(nèi)的空氣的區(qū)域影響，這可能導(dǎo)致分配流體的重量的不一致。實際上，分配流體的體積和形狀能受到氣泡存在的影響并且能產(chǎn)生對檢查和返工的需要，這能增加流體消耗和提高操作成本。由此，該流體分配過程可能影響自動化電子裝配線的性能和產(chǎn)量。盡管流體分配工業(yè)中的供應(yīng)商已能夠經(jīng)由閥灌注站而在減少氣泡的存在方面作出穩(wěn)步遞增的改進，但是粘性材料中的氣泡的存在仍持續(xù)出現(xiàn)。如上文提及的，此現(xiàn)象能夠不利地影響流體分配閥的操作和流體分配的成本。此外，過程自動化和系統(tǒng)驗證的缺乏能導(dǎo)致不合需要的操作者影響以及低效的灌注和配設(shè)程序。因而提供一種用于閥灌注的改進系統(tǒng)和方法是有益的，該系統(tǒng)和方法克服上述缺點并且提供一定程度的過程自動化和系統(tǒng)驗證以幫助確保流體分配閥的一致的灌注質(zhì)量。

發(fā)明內(nèi)容
在一個實施例中，提供一種用于利用來自流體材料源的流體灌注流體分配閥的流體室的自動化系統(tǒng)，該流體通過流體源與流體室之間的進給路徑供應(yīng)到該流體室。該系統(tǒng)包括真空源、閥灌注站、真空開關(guān)和控制器。該閥灌注站包括套管、真空室和該套管中的真空通道。該真空通道經(jīng)由真空室與真空源相連。該套管構(gòu)造為與流體分配閥的閥噴嘴密封接合，使得真空通道和真空室將真空源與流體分配閥的流體室處于流體連通地連接?；谡婵帐抑械恼婵盏燃墸撜婵臻_關(guān)具有打開位置和關(guān)閉位置，該真空開關(guān)經(jīng)由真空室與真空通道處于流體連通地聯(lián)接。該控制器與真空開關(guān)和真空源電連接并且構(gòu)造為接通和斷開真空源。此外控制器構(gòu)造為基于真空開關(guān)是處于打開位置還是關(guān)閉位置來控制流體分配閥的灌注。在另一實施例中，提供一種用于灌注流體分配閥的方法，該流體分配閥具有流體室、分配孔和將該分配孔與流體室相連的排出通道。該方法包括通過分配孔向排出通道和流體室施加真空，然后基于真空開關(guān)的操作來自動地判定期望真空等級是否存在。該方法進一步包括響應(yīng)于達到該期望真空等級并且保持該期望真空等級指定時段，自動地致使流體通過流體進給路徑流入流體室中并且通過排出通道朝著分配孔流動以灌注流體分配閥。在又 一實施例中，提供一種用于灌注流體分配閥的方法，該方法包括使流體分配閥的閥噴嘴與閥灌注站的套管中的真空通道密封接合，然后經(jīng)由真空室向該套管的真空通道施加真空。該方法進一步包括利用真空開關(guān)感測真空室中的真空等級，然后響應(yīng)于利用真空開關(guān)感測真空室中的期望真空等級，自動開始流體分配閥的灌注。


并入本說明書并且構(gòu)成本說明書的一部分的附圖示出了本發(fā)明的實施例，并且與上文給出的本發(fā)明的概要描述以及下文給出的實施例的詳細描述一起，用于說明本發(fā)明的原理。圖1是根據(jù)本發(fā)明一實施例的閥灌注系統(tǒng)的透視圖；圖2是圖1的閥灌注系統(tǒng)的橫剖視圖；圖3是用于與圖1的閥灌注系統(tǒng)一起使用的流體分配閥的橫剖視圖；圖4是圖1的閥灌注系統(tǒng)的與流體分配閥的遠側(cè)尖端密封接合的套管的一部分的放大透視圖；以及圖5是根據(jù)本發(fā)明一實施例的用于灌注流體分配閥的流體室的方法的方框流程圖。
具體實施例方式圖1-5示出了用于灌注流體分配閥14的流體室12的自動化系統(tǒng)10和方法11的實施例。流體分配閥14是本領(lǐng)域中已知的。可在本發(fā)明中使用的合適流體分配閥14的一個示例是可從加利福尼亞的Carlsbad Asymtek購買的DispenseJet :DJ_9000或DJ-9500 流體噴射閥。作為示例并且具體參照圖3，流體分配閥14可被支撐例如安裝在機器人(未示出)上，用于沿X、Y和Z軸的自動運動并且能夠使用來自流體材料的源，諸如一次性流體填充桶、盒或注射器18的流體16，例如粘合劑。來自流體填充注射器18的流體16通過流體源18與流體室12之間的進給路徑20 供應(yīng)到流體室12。流體分配閥14的閥座22可被氣動錘或閥針24沖擊，以迅速地減小存在于流體分配閥14的流體室12內(nèi)的流體體積。在該典型實施例中，氣動致動器25相對于閥座22驅(qū)動閥針24。此動作致使來自閥噴嘴28的排出通道26的粘性材料的射流從分配孔 30噴出并且由于其自身的前沖力而自其離開，從而產(chǎn)生點滴，如本領(lǐng)域中已知的，所述點滴在將部件粘性固定到電路板、將表面安裝部件底部填充到電路板上等中能是有用的。如本領(lǐng)域中的普通技術(shù)人員理解的，其它類型的流體分配閥14可與該自動化系統(tǒng)10結(jié)合使用。如圖1-4中所示，根據(jù)本發(fā)明實施例的用于灌注流體分配閥14的自動化系統(tǒng)10 包括閥灌注站32，該閥灌注站32具有空心柱34，該空心柱34限定真空室36并且被蓋38 蓋上。蓋38包括中心定位的套管40，真空通道42延伸通過該套管40，該真空通道42將真空室36的內(nèi)部與外部大氣相連。套管40包括環(huán)形突出部43和延伸通過該環(huán)形突出部43 的中央開口 44，該中央開口 44與真空通道42連通。環(huán)形突出部43構(gòu)造為密封接合流體分配閥14的閥噴嘴28，使得真空通道42和真空室36將真空源46與流體分配閥14的流體室12流體連通地相連接。諸如文丘里型真空發(fā)生器的真空源46經(jīng)由真空管線48連接到真空室36，該真空室36與真空連接器50配合，該真空連接器50具有從其通過的通道52，該通道52與真空室 36流體連通。該真空源構(gòu)造為經(jīng)由真空室36向套管40的真空通道42施加大氣壓以下壓力的形式的真空。真空開關(guān)54經(jīng)由真空開關(guān)管線56連接到真空室36。該真空開關(guān)管線56連接到真空開關(guān)連接器58，該真空開關(guān)連接器58具有從其通過的通道60，該通道60經(jīng)由真空室 36與真空通道42處于流體連通。真空開關(guān)54構(gòu)造為檢測在真空室36中是否存在目標(biāo)或期望的真空等級或壓力。特別地，真空開關(guān)54能構(gòu)造為基于由真空源46產(chǎn)生的真空室36 中的真空等級而處于打開(斷開)或關(guān)閉(接通)位置。在一個示例中，真空開關(guān)54構(gòu)造為如果真空等級在期望真空等級或其之上則關(guān)閉并且構(gòu)造為如果真空等級在期望真空等級之下則打開。可在本發(fā)明中使用的合適真空開關(guān)54的一個示例是SMC ZSE40，其可從印第安納州的Noblesville的美國SMC公司商業(yè)購買的高精度數(shù)字壓力開關(guān)。如本領(lǐng)域中的普通技術(shù)人員將理解的，真空開關(guān)54包括例如隔膜的真空感測裝置(未示出)，該真空感應(yīng)裝置構(gòu)造為響應(yīng)于真空室36中的真空壓力并因而感測該真空壓力。基于該真空壓力處于期望等級還是在期望等級之上，真空開關(guān)54將處于打開或關(guān)閉位置。真空開關(guān)54的位置指示了灌注方法11中的各種步驟，如下文所討論的，通過控制器62能夠檢 測真空開關(guān)54的位置。此外系統(tǒng)10包括用戶界面64，該用戶界面64與控制器62關(guān)聯(lián)，例如電連接，并且構(gòu)造為通知操作者(未示出)與流體分配閥14的灌注相關(guān)聯(lián)的錯誤。例如，用戶界面64 能構(gòu)造為如果在指定時間量之后，該真空等級未達到和/或保持期望的真空等級，則通知操作者。用戶界面64還能構(gòu)造為當(dāng)灌注完成時通知操作者。用戶界面64能包括計算機監(jiān)視器(未示出)和鍵盤(未示出)。繼續(xù)參照圖1-4，控制器62構(gòu)造為基于真空開關(guān)54處于打開位置還是關(guān)閉位置， 即指示在灌注期間該真空等級是合乎需要還是不合需要來控制流體分配閥14的灌注?？刂破?2與真空源46連通，例如電連接，并且構(gòu)造為按需要接通和斷開真空源46。此外控制器62與真空開關(guān)54連通，例如電連接，并且構(gòu)造為判定真空開關(guān)54處于打開位置還是關(guān)閉位置。控制器62電連接到流體分配閥14并且構(gòu)造為控制流體分配閥14的灌注期間的流體分配。例如，控制器62能構(gòu)造為控制流體分配閥14收回閥針24以允許進入流體室 12。為幫助使得流體16傳輸?shù)搅黧w室12中，控制器62還能構(gòu)造為當(dāng)真空開關(guān)54處于關(guān)閉位置時，諸如經(jīng)由氣壓致使流體16從流體源18通過流體進給路徑20向流體室12中流動第一預(yù)定時段?？刂破?2能構(gòu)造為通知用戶界面64在灌注過程期間所經(jīng)歷的錯誤。此外控制器 62將真空開關(guān)54連接到流體分配閥14和用戶界面64，使得信息能在其間交換或從其傳遞以控制流體分配閥14的灌注。在一個示例中，控制器62可以是包括一個或多個軟件程序的計算機，所述軟件程序能夠執(zhí)行算法以基于真空開關(guān)54處于打開位置還是關(guān)閉位置來控制流體分配閥14的灌注。經(jīng)由控制器62的合適連接可通過使用已知技術(shù)使各種裝置14、 54、64形成網(wǎng)絡(luò)來實現(xiàn)。
天平66與控制器62電連接并且構(gòu)造為檢測從流體分配閥14分配到天平66上的流體16的重量，以便判定流體分配閥14是否已適當(dāng)?shù)毓嘧??？刂破?2構(gòu)造為使流體分配閥14在天平66上方移動并且致使流體分配閥14將流體16分配到天平66上第二預(yù)定時段?？刂破?2進一步構(gòu)造為將分配到天平66上的流體16的重量與參考值相比較以確認流體分配閥14已適當(dāng)?shù)毓嘧ⅰ４送饪刂破?2能構(gòu)造為使用用戶界面64來將流體分配閥 14的灌注的完成傳達給操作者?，F(xiàn)在參照圖5，顯示了根據(jù)本發(fā)明實施例的用于灌注流體分配閥14的流體室12的方法11。方法11是自動化的，在于除了在錯誤的情形中通知操作者進行干預(yù)之外，灌注操作在最小人為干預(yù)并且獨立于外部控制的情況下進行。此方法11或真空輔助灌注程序(VAPR)通常從流體分配閥14以及一次性流體填充注射器18的安裝開始，如方框72中所示。在一次性注射器18的安裝之后，流體分配閥 14能通過機器人移動到閥灌注站32，如方框74中所示，在該閥灌注站32處，閥噴嘴28與包含施加真空的真空通道42的彈性灌注套管40匹配或密封接合。特別地，利用包含施加真空的真空通道42的彈性套管40，在位于閥噴嘴28中的分配孔30周圍形成氣密性密封。 閥噴嘴28的定位能基于教導(dǎo)的X-Y清除位置和閥噴嘴28與套管40之間的.04"至.06〃 的Z干涉。接下來，通過控制器62和施加于真空通道42的真空啟動真空源46，如方框76中所示。當(dāng)閥噴嘴28相對于灌注套管40定位在適當(dāng)位置中時，即當(dāng)套管40在閥噴嘴28的圓周附近形成氣密性密封時，真空產(chǎn)生。真空開關(guān)54感測是否存在期望的真空等級，即通過真空開關(guān)54是打開還是關(guān)閉來判定期望的真空等級，并且將期望真空等級的存在的指示傳達給控制器62。例如，關(guān)閉的真空開關(guān)54能夠表示合乎需要的真空等級，而打開的真空開關(guān)54能夠表示不合需要的真空等級。在一個實施例中，合乎需要的真空等級為至少22 英寸Hg(大約560Τοπ·)。在另一實施例中，合乎需要的真空等級的范圍從大約22英寸Hg 到大約26英寸Hg(大約660Torr)。在又一實施例中，合乎需要的真空等級的范圍從大約 22英寸Hg到大約25英寸Hg(大約635ΤΟΠ·)。用于該期望真空等級的值能是操作者指定的，然而應(yīng)足夠低以在將令人滿意地灌注流體分配閥14的低于大氣壓的壓力下產(chǎn)生真空。如方框78中所示，響應(yīng)于在指定時間量，例如大約2秒之后未達到期望真空等級， 控制器62將諸如“不能產(chǎn)生真空”或“真空不能產(chǎn)生”的錯誤消息傳達給用戶界面64進行顯示，以便將該狀況通知給操作者?；谡婵臻_關(guān)54從打開到關(guān)閉或者可替代地從關(guān)閉到打開的狀態(tài)的改變，通過控制器62來判定期望真空等級的不存在。如果期望真空等級未實現(xiàn)，則能夠中止真空的施加，并且操作者能夠在再次開始該程序之前專心解 決任何問題。該指定時間量能是操作者指定的，然而應(yīng)足夠長以在正常的操作條件下實現(xiàn)期望真空等級。 在一個示例中，操作者可具有經(jīng)由用戶界面64不考慮灌注程序的能力?？商娲?，如方框80中所示，響應(yīng)于達到期望的真空等級，在指定時間量之后，控制器62與流體分配閥14通信以收回閥針24以便移除流體室與閥噴嘴28之間的障礙并且允許進入流體室12。由于流體室12與真空室36之間的壓差，收回的閥針24使流體分配閥14的流體室12能夠通過閥灌注站32排空。特別地，現(xiàn)在能夠經(jīng)由真空室36和真空通道42通過閥噴嘴28的分配孔30將真空施加于排出通道26和流體室12以從流體室12中除去空氣并且利用流體16填充流體室12。在一個示例中，真空施加大約10秒。施加真空的指定時間量能是操作者指定的，然而應(yīng)足夠長以令人滿意地將流體分配閥14排空。如方框82中所示，在通過閥灌注站32排空流體分配閥14中的流體室12期間，基 于真空開關(guān)54的操作來監(jiān)控和判定真空等級的合乎需要性。此外，真空開關(guān)54感測期望真空等級是否存在，即通過真空開關(guān)54是打開還是關(guān)閉來判定期望的真空等級。在此階段， 如方框84中所示，響應(yīng)于未保持期望真空等級指定時間量，控制器62將諸如“不能保持真空”或“真空不能保持”的錯誤消息傳達給用戶界面64進行顯示，以通知操作者。此時，能夠中止真空的施加，并且操作者能夠在再次開始該程序之前專心解決任何問題?？商娲兀绶娇?6中所示，響應(yīng)于保持該期望真空等級，在指定時間量之后，控制器62與流體分配閥14通信以經(jīng)由氣壓，例如氣動活塞(未示出)迫使或致使流體從注射器18中流出第一預(yù)定時段，通過流體進給路徑20流入流體室12中并通過排出通道26 朝著分配孔30流動以灌注流體分配閥14?？刂破?2控制注射器18中的氣壓以幫助將諸如液體粘合劑的流體16傳輸?shù)搅黧w室12中。在致使流體16通過流體進給路徑20流入流體室12中第一預(yù)定時段，即估計足以利用流體16灌注流體分配閥14的時間之后，能夠關(guān)閉閥針24以關(guān)閉從流體室12到閥噴嘴28的路徑并且中止真空的施加。在一個示例中，估計足以利用流體16灌注流體分配閥14的時間為大約5秒。該指定時間量能是操作者指定的，然而應(yīng)足夠長以令人滿意地使用閥灌注站32灌注流體分配閥14。如方框88中所示，在真空的施加中止之后，此刻灌注的流體分配閥14能夠通過將流體16從流體分配閥14分配到天平66上期望時段例如2秒，并且測量即稱流體16的重量而對流體16的存在進行測定。在一個示例中，灌注的閥14從灌注站32移動到天平66， 在此處，例如，在0. 5秒內(nèi)能夠?qū)?0到60滴流體16分配到天平66上并稱重。將所檢測到的分配到天平66上的流體16的重量與閾值或參考值相比較以驗證流體分配閥14已利用流體16適當(dāng)?shù)毓嘧?。如果通過天平66測量的流體16的重量超過閾值重量，例如5mg，則認為灌注完成。 該閾值重量通常大于或等于已知在選定時段內(nèi)提供適當(dāng)灌注的流體分配閥14用于分配流體16的重量。此時，如方框90中所示，與天平66通信的控制器62能與用戶界面64通信以通過將例如“噴射灌注完成”或“灌注完成”的消息顯示在計算機屏幕上來通知操作者灌注完成。流體分配閥14現(xiàn)在準(zhǔn)備裝配線操作或經(jīng)歷另外的配設(shè)步驟，例如包括測量所分配的點滴的布置精度。在完成之后，能夠任意地重復(fù)該灌注過程。如果灌注未完成，則控制器62能通過將例如“噴射灌注未完成”或“閥未灌注”的消息顯示在計算機屏幕上而與用戶界面64通信，如方框92中所示。此時，灌注方法11中止，并且操作者能夠在再次開始該方法之前專心解決任何問題。根據(jù)本發(fā)明實施例的自動化系統(tǒng)10和方法11提供了改進的分配重量的一致性， 消除了操作者的影響，并且提供了更快的灌注和更迅速的配設(shè)。此外，具有降低的流體消耗，從而導(dǎo)致更低的操作成本。此外，此系統(tǒng)10提供了一定程度的過程自動化和系統(tǒng)驗證， 其能夠確保流體分配閥14的一致的灌注質(zhì)量。盡管已通過各種實施例的描述對本發(fā)明進行了說明，并且已對這些實施例進行了相當(dāng)詳細地描述，但是申請人的意圖不是將所附權(quán)利要求的范圍限定或以任何方式限制于此細節(jié)。另外的優(yōu)點和修改對本領(lǐng)域中的技術(shù)人員將是顯而易見的。因而，本發(fā)明就其更寬廣的方面而言不限于具體細節(jié)、典型設(shè)備和方法以及所示和所述的說明性示例。因此，在不偏離申請人的總發(fā)明概念的精神或范圍的情 況下可從這些細節(jié)作出變更。
權(quán)利要求
1.一種用于利用來自流體材料源的流體灌注流體分配閥的流體室的自動化系統(tǒng)，所述流體通過流體源與流體室之間的進給路徑供應(yīng)到所述流體室，所述系統(tǒng)包括真空源；閥灌注站，所述閥灌注站包括套管、真空室和所述套管中的真空通道，所述真空通道經(jīng)由所述真空室與所述真空源相連，并且所述套管構(gòu)造為密封地接合所述流體分配閥的閥噴嘴，使得所述真空通道和真空室將所述真空源與所述流體分配閥的流體室流體連通地連接；真空開關(guān)，所述真空開關(guān)經(jīng)由所述真空室與所述真空通道流體連通地聯(lián)接，基于所述真空室中的真空等級，所述真空開關(guān)具有打開位置和關(guān)閉位置；以及控制器，所述控制器與所述真空源電連接，并且構(gòu)造為接通和斷開所述真空源，并且其中，所述控制器與所述真空開關(guān)電連接，并且構(gòu)造為基于所述真空開關(guān)是處于打開位置還是關(guān)閉位置來控制所述流體分配閥的灌注。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中所述真空開關(guān)構(gòu)造為當(dāng)所述真空等級處在期望等級處或期望等級之上時處于關(guān)閉位置，并且其中，所述真空開關(guān)構(gòu)造為當(dāng)所述真空等級處在所述期望等級之下時處于打開位置。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，進一步包括真空管線，所述真空管線將所述真空源經(jīng)由所述真空室與所述套管的真空通道連接。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中所述控制器構(gòu)造為當(dāng)所述真空開關(guān)處于關(guān)閉位置時、致使流體從所述流體源通過流體進給路徑流入所述流體室中第一預(yù)定時段，以灌注所述流體分配閥。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的系統(tǒng)，其中所述流體材料源是加壓注射器，并且其中，在所述第一預(yù)定時段開始之后，所述控制器構(gòu)造為增加所述注射器中的氣壓第二預(yù)定時段，以將流體推入所述流體室中。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的系統(tǒng)，其中所述流體分配閥安裝在機器人上，并且在所述第二預(yù)定時段之后，所述控制器構(gòu)造為斷開所述真空源，且構(gòu)造為致使所述機器人使所述流體分配閥在天平上方移動，并且構(gòu)造為致使所述流體分配閥將流體分配到所述天平上第三預(yù)定時段，并且其中，所述控制器構(gòu)造為將分配到所述天平上的流體的重量與參考值相比較，以驗證所述流體分配閥已適當(dāng)?shù)毓嘧ⅰ?br> 7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中所述控制器與所述流體分配閥電連接，并且構(gòu)造為在所述流體分配閥的灌注期間控制流體分配。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中所述控制器是包括一個或多個軟件程序的計算機，所述一個或多個軟件程序能夠執(zhí)行算法，用以控制所述流體分配閥的灌注。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的系統(tǒng)，進一步包括用戶界面，所述用戶界面與所述控制器相關(guān)聯(lián)，并且構(gòu)造為通知操作者與所述流體分配閥的灌注相關(guān)聯(lián)的錯誤。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的系統(tǒng)，其中所述用戶界面構(gòu)造為通知操作者是否在指定時間量之后所述真空等級還未達到和/或保持期望真空等級。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的系統(tǒng)，進一步包括天平，所述天平構(gòu)造為檢測從灌注的流體分配閥分配到所述天平上的流體的重量，以確定是否所述流體分配閥已適當(dāng)?shù)毓嘧?，所述天平與所述控制器電連接，并且所述控制器構(gòu)造為使用所述用戶界面來將所述流體分配閥的灌注完成傳達給操作者。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中所述套管包括環(huán)形突出部和延伸通過所述環(huán)形突出部的中央開口，所述中央開口與所述真空通道相連通，所述環(huán)形突出部構(gòu)造為密封地接合所述流體分配閥的閥噴嘴。
13.一種用于灌注流體分配閥的方法，所述流體分配閥具有流體室、分配孔和將所述分配孔與所述流體室連接的排出通道，所述方法包括a)通過所述分配孔將真空施加至所述排出通道和所述流體室；b)基于真空開關(guān)的操作來自動地確定期望真空等級是否存在；以及c)響應(yīng)于達到所述期望真空等級并且保持所述期望真空等級一指定時段，自動地致使流體通過流體進給路徑流入所述流體室中并且通過所述排出通道流向所述分配孔，以灌注所述流體分配閥。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的方法，進一步包括在施加真空之前，利用彈性套管在所述分配孔周圍形成真空密閉密封，所述彈性套管包含施加所述真空的開口。
15.根據(jù)權(quán)利要求13所述的方法，進一步包括響應(yīng)于未達到期望真空等級或期望真空等級的喪失，中止真空的施加。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的方法，進一步包括經(jīng)由用戶界面通知操作者期望真空等級未達到或期望真空等級喪失。
17.根據(jù)權(quán)利要求13所述的方法，進一步包括在致使流體流過流體進給路徑之后，在足以灌注所述流體分配閥的時間之后中止真空的施加。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的方法，進一步包括在中止真空的施加之后，通過從灌注的分配閥分配流體來檢測灌注的分配閥中的流體的存在。
19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的方法，進一步包括基于檢測到的從灌注的分配閥分配的流體的重量，經(jīng)由用戶界面通知操作者是否認為灌注完成。
20.一種用于灌注流體分配閥的方法，所述方法包括a)使流體分配閥的閥噴嘴與閥灌注站的套管中的真空通道密封地接合；b)經(jīng)由真空室向所述套管的真空通道施加真空；c)利用真空開關(guān)感測所述真空室中的真空等級；以及d)響應(yīng)于利用所述真空開關(guān)感測到所述真空室中的期望真空等級，自動地開始流體分配閥的灌注。
21.根據(jù)權(quán)利要求20所述的方法，進一步包括響應(yīng)于利用所述真空開關(guān)感測到所述真空室中的非期望真空等級，中止真空的施加。
22.根據(jù)權(quán)利要求20所述的方法，進一步包括在感測到所述真空室中的期望真空等級之后，打開所述流體分配閥的閥噴嘴；通過所述閥噴嘴的開口經(jīng)由所述真空室施加真空；利用所述真空開關(guān)來感測所述真空室中的真空等級；以及響應(yīng)于利用所述真空開關(guān)來保持所述真空室中的期望真空等級，自動地致使流體從流體源通過流體進給路徑流入流體室中并且通過排出通道流向所述流體分配閥的分配孔第一預(yù)定時段，以灌注所述流體分配閥。
23.根據(jù)權(quán)利要求22所述的方法，進一步包括 關(guān)閉所述流體分配閥的閥噴嘴；以及中止真空的施加。
24.根據(jù)權(quán)利要求23所述的方法，進一步包括在中止真空的施加之后，將流體從所述流體分配閥分配到天平上第二預(yù)定時段；以及將檢測到的分配到所述天平上的流體的重量與參考值相比較，以驗證所述流體分配閥已適當(dāng)?shù)毓嘧ⅰ?br> 25.根據(jù)權(quán)利要求M所述的方法，進一步包括基于所分配流體的檢測重量與所述參考值的比較，來經(jīng)由用戶界面通知操作者是否認為灌注完成。
全文摘要
一種用于利用來自流體材料源的流體(16)灌注流體分配閥(14)的流體室(12)的自動化系統(tǒng)(10)和方法(11)，該系統(tǒng)包括真空源(46)、閥灌注站(32)、真空開關(guān)(54)和控制器(62)。該閥灌注站(32)具有套管(40)、真空室(36)和該套管(40)中的真空通道(42)。該真空通道(42)經(jīng)由真空室(36)與真空源(46)相連。套管(40)與流體分配閥(14)的閥噴嘴(28)密封接合，使得真空室(36)將真空源(46)與流體室(12)相連。真空開關(guān)(54)經(jīng)由真空室(36)與真空通道(42)相連并且基于真空室(36)中的真空等級而具有打開和關(guān)閉位置?？刂破?62)與真空源(46)和真空開關(guān)(54)電連接并且基于真空開關(guān)(54)是打開還是關(guān)閉來控制流體分配閥(14)的灌注。
文檔編號B67D7/08GK102159492SQ200980136775
公開日2011年8月17日 申請日期2009年9月18日 優(yōu)先權(quán)日2008年9月18日
發(fā)明者埃里克·菲斯克, 布賴恩·薩瓦茲奇, 庫爾特·克羅韋爾, 霍拉蒂奧·基尼奧內(nèi)斯 申請人:諾信公司