專利名稱：基板周轉(zhuǎn)裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及平板顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種基板周轉(zhuǎn)裝置。
背景技術(shù)：
隨著平板顯示技術(shù)發(fā)展，各種平板顯示器日益取代傳統(tǒng)顯示器件，成為當(dāng)今社會(huì)的主流顯示器件。人們對(duì)平板顯示器的需求日益旺盛，生產(chǎn)廠商開足馬力，大規(guī)模生產(chǎn)平板 顯不器。作為生產(chǎn)平板顯示器的重要原料之一的玻璃基板的需求也隨著平板顯示器的大 規(guī)模生產(chǎn)而日益增加。目前，平板顯示器件如液晶顯示器、有機(jī)電致發(fā)光顯示器、觸摸顯示 面板(Touch Panel, TP)、彩色濾光板(Color Filter, CF)等都需要使用玻璃基板，如液晶 顯示器需要使用兩塊玻璃基板作為其上、下基板，以夾持位于上、下基板之間的液晶層。玻璃基板被用于生產(chǎn)平板顯示器件時(shí)，通常需要在該玻璃基板上涂布或?yàn)R射多層 膜層，然后通過光刻工藝制作顯示圖案或觸摸電極或像素圖案等，如觸摸顯示面板，需要在 玻璃基板上先通過濺射方式形成透明導(dǎo)電層，然后通過蝕刻工藝形成多個(gè)觸控感測(cè)電極。 當(dāng)需要在該玻璃基板上進(jìn)行上述顯示圖案、觸控電極或像素圖案的制作時(shí)，必須先對(duì)該玻 璃基板進(jìn)行清洗，防止該玻璃基板表面存在污染物，影響在該玻璃基板表面制作的圖案。而在玻璃基板上進(jìn)行圖案制作通常需要通過多道工藝，即該玻璃基板需要在完成 一道工藝后，搬運(yùn)到另一車間或場(chǎng)地進(jìn)行后一道工藝，甚至有時(shí)需要從一個(gè)工廠轉(zhuǎn)移到另 一個(gè)工廠。目前搬運(yùn)玻璃基板的工具通常為周轉(zhuǎn)箱，該周轉(zhuǎn)箱上通常設(shè)有支撐槽，而玻璃基 板則分別夾設(shè)于兩個(gè)支撐槽之間，并通過該支撐槽將各玻璃基板隔離開，防止兩塊玻璃基 板之間相互摩擦，造成已形成于玻璃基板上的膜層的脫落，不僅損傷所述膜層，同時(shí)也會(huì)對(duì) 所述周轉(zhuǎn)箱造成污染。如附圖1所示，其為現(xiàn)有技術(shù)的周轉(zhuǎn)箱10的示意圖。所述周轉(zhuǎn)箱10包括本體11 和蓋體12。所述本體11和蓋體12均內(nèi)部中空，且所述蓋體12可組裝地與所述本體11結(jié) 合，并所述本體11和蓋體12的中空部分形成一連通的收容空間。所述收容空間用于收容 所述玻璃基板20。所述本體11包括側(cè)壁13、14以及一平面結(jié)構(gòu)的底面(圖中未示出)，且 側(cè)壁13和14上分別設(shè)有一一對(duì)應(yīng)的多條支撐槽15，側(cè)壁13上的一條支撐槽15與側(cè)壁14 上與其位置相對(duì)的支撐槽15構(gòu)成一對(duì)支撐槽，用于支撐同一塊所述玻璃基板20。由于制作觸摸屏、彩色濾光板或液晶顯示面板的玻璃基板或樹脂基板的厚度通常 較小，如0. 7毫米、0. 5毫米、0. 3毫米等，在所述玻璃基板或樹脂基板制作像素圖案或觸控 電極時(shí)，容易因?yàn)榄h(huán)境溫度、壓力或其它原因發(fā)生形變，造成所述玻璃基板或樹脂基板局部 出現(xiàn)凸起或凹陷，甚至出現(xiàn)波紋狀褶皺。因此，在將發(fā)生所述形變的玻璃基板或樹脂基板 放置于上述周轉(zhuǎn)箱10上時(shí)，所述發(fā)生形變的玻璃基板或樹脂基板會(huì)與相鄰的其它玻璃基 板或樹脂基板之間發(fā)生刮擦，損傷所述玻璃基板或樹脂基板，甚至使所述玻璃基板或樹脂 基板上的所述像素圖案或觸控電極脫落。即使所述玻璃基板或樹脂基板的型變量較小，但 是在所述玻璃基板或樹脂基板通過所述周轉(zhuǎn)箱轉(zhuǎn)運(yùn)時(shí)，當(dāng)所述玻璃基板或樹脂基板收到外力作用，發(fā)生側(cè)翻或所述周轉(zhuǎn)箱平放時(shí)突然由靜止轉(zhuǎn)為以一定速度運(yùn)動(dòng)時(shí)，所述玻璃基板或樹脂基板會(huì)發(fā)生形變，該形變與所述玻璃基板或樹脂基板在加工過程中發(fā)生的形變疊加 后，容易損傷所述玻璃基板或樹脂基板，甚至造成所述玻璃基板或樹脂基板上的像素圖案 或觸控電極脫落。

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此，有必要提供一種有效防止襯底之間相互刮擦損傷襯底的基板周轉(zhuǎn)裝置。一種基板周轉(zhuǎn)裝置用于將襯底從一個(gè)位置轉(zhuǎn)移至另一位置，其包括本體，所述本 體包括側(cè)壁和基底，所述側(cè)壁與基底圍成一呈一側(cè)開口的空間，所述側(cè)壁內(nèi)部的相對(duì)兩側(cè) 上形成有多條支撐槽，所述支撐槽與所述基底之間具有一夾角，使所述襯底在收容于上述 空間后，發(fā)生形變的方向保持一致。本發(fā)明提供的所述基板周轉(zhuǎn)裝置中，所述基板周轉(zhuǎn)裝置還包括蓋體，所述蓋體可 分離地與所述本體結(jié)合在一起，且所述本體和蓋體均內(nèi)部中空，所述蓋體和本體結(jié)合后，所 述蓋體和本體的內(nèi)部中空形成統(tǒng)一的收容空間，上述空間為所述收容空間的一部分。本發(fā)明提供的所述基板周轉(zhuǎn)裝置中，所述側(cè)壁與所述基底之間相互垂直。本發(fā)明提供的所述基板周轉(zhuǎn)裝置中，所述多條支撐槽之間相互平行，且所述兩側(cè) 的支撐槽數(shù)目相同，所述支撐槽沿所述基底至側(cè)壁的方向，且所述兩側(cè)的多條支撐槽一一 對(duì)應(yīng)，分位于所述兩側(cè)相對(duì)應(yīng)的兩條支撐槽用于夾持同一所述襯底。本發(fā)明提供的所述基板周轉(zhuǎn)裝置中，所述支撐槽與所述基底之間的夾角在70度 至90度之間。本發(fā)明提供的所述基板周轉(zhuǎn)裝置中，所述支撐槽在所述側(cè)壁上的長度小于所述襯 底在該側(cè)壁上的所述支撐槽方向上的長度，使所述襯底裝載于所述本體上后，所述襯底有 部分露出于所述本體之外。本發(fā)明提供的所述基板周轉(zhuǎn)裝置中，所述基板周轉(zhuǎn)裝置還包括蓋體，所述蓋體也 包括側(cè)壁和基底，所述蓋體的側(cè)壁中的兩相對(duì)的側(cè)壁上形成有與所述本體上的支撐槽對(duì)應(yīng) 的支撐槽，且所述蓋體上的支撐槽與所述本體上的支撐槽一并用于限制所述襯底。本發(fā)明提供的所述基板周轉(zhuǎn)裝置中，所述基板周轉(zhuǎn)裝置整體呈方形，所述本體和 蓋體亦呈方形，所述本體和蓋體相結(jié)合出設(shè)有卡合結(jié)構(gòu)。本發(fā)明通過將所述側(cè)壁上的支撐槽設(shè)置于與所述基底之間具有一夾角，使所述襯 底裝載于所述基板周轉(zhuǎn)裝置后，其形變的方向一致，防止所述襯底由于形變方向不一致而 與相鄰的襯底相互刮擦，損傷所述襯底；同時(shí)由于所述基板周轉(zhuǎn)裝置中的所述襯底向一個(gè) 方向傾斜，便于所述操作人員從一個(gè)方向拾取和裝載所述襯底，符合人體工程學(xué)結(jié)構(gòu)，減輕 所述操作人員的工作強(qiáng)度，提高所述操作人員裝載和拾取所述襯底的效率。另外，當(dāng)所述襯 底裝載于所述基板周轉(zhuǎn)裝置上時(shí)，由于所述支撐槽與所述基底之間具有夾角，其可防止所 述襯底由于操作人員的突然松手導(dǎo)致的快速墜落可能造成的損傷，同時(shí)，在所述操作人員 不甚松手時(shí)，所述襯底因所述支撐槽與所述基底之間的夾角關(guān)系，而緩慢落入所述基板周 轉(zhuǎn)裝置中。所述基板周轉(zhuǎn)裝置中，將所述支撐槽在所述側(cè)壁上的長度設(shè)置為小于所述襯底 的高度，使所述襯底在裝載于所述基板周轉(zhuǎn)裝置后，所述襯底有部分露出于所述基板周轉(zhuǎn)裝置，方便操作人員裝載所述襯底以及從所述基板周轉(zhuǎn)裝置中拾取所述襯底。


下面將結(jié)合附圖及實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步說明，附圖中圖1為現(xiàn)有技術(shù)的基板周轉(zhuǎn)裝置的示意圖。圖2為本發(fā)明提供的較佳實(shí)施方式的襯底的周轉(zhuǎn)裝置示意圖。圖3為圖2所示的基板周轉(zhuǎn)裝置沿B-B向的剖面示意圖。
具體實(shí)施例方式為了克服現(xiàn)有技術(shù)中周轉(zhuǎn)箱轉(zhuǎn)運(yùn)所述玻璃基板或樹脂基板時(shí)容易出現(xiàn)損傷所述 玻璃基板或樹脂基板或損傷其上的像素圖案或觸控電極，本發(fā)明提供一種基板周轉(zhuǎn)裝置， 其通過將所述基板周轉(zhuǎn)裝置的支撐槽設(shè)置為與所述基底呈一定角度，進(jìn)而使所述輕薄的襯 底均向所述基板周轉(zhuǎn)裝置的基底傾斜，可有效防止由于所述襯底由于傾斜或形變位置不一 致出現(xiàn)的相鄰兩襯底之間的刮擦，防止損傷所述襯底或襯底上的像素圖案或觸控電極等。以下結(jié)合說明書附圖對(duì)本發(fā)明提供的基板周轉(zhuǎn)裝置進(jìn)行詳細(xì)說明。請(qǐng)同時(shí)參閱圖2和圖3，其為本發(fā)明提供的基板周轉(zhuǎn)裝置100的示意圖，所述基板 周轉(zhuǎn)裝置100用于裝載襯底200，以將所述襯底從一個(gè)位置轉(zhuǎn)移到另一個(gè)位置。所述基板 周轉(zhuǎn)裝置100包括蓋體110和本體120。所述蓋體110可分離地與所述本體120結(jié)合在一 起。所述基板周轉(zhuǎn)裝置100整體呈方形，所述蓋體110和本體120亦呈方形，其內(nèi)部均呈中 空狀，且所述蓋體110和蓋體120相互結(jié)合后，形成一統(tǒng)一的收容空間，該收容空間用于收 容所述襯底200。所述襯底200可以是樹脂基板，也可以是玻璃基板，但不以此為限。所述本體120包括側(cè)壁121和基底123。所述側(cè)壁121與所述基底123圍成一呈 開口狀的空間，所述空間為上述收容空間的一部分，且所述側(cè)壁121與所述基底123垂直。 所述側(cè)壁中兩個(gè)相對(duì)的側(cè)壁上分別形成有多條支撐槽125，所述支撐槽125沿所述基底123 至側(cè)壁121的方向。所述兩相對(duì)側(cè)壁上的支撐槽125 —一對(duì)應(yīng)，且所述支撐槽125之間相 互平行，位于兩相對(duì)側(cè)壁121上的相對(duì)應(yīng)的支撐槽125具有相同的長度，其用于在所述襯底 200裝載于所述本體120上時(shí)限制相鄰兩襯底200之間相互接觸，防止所述襯底200相互摩 擦，損傷所述襯底200。所述支撐槽125向所述基底123傾斜，并與所述基底123之間具有一定的夾角，所 述夾角通常為70度至90度之間。當(dāng)襯底200裝載于所述基板周轉(zhuǎn)裝置100上時(shí)，所述襯 底200由于所述支撐槽125的原因，與所述基底123之間具有所述夾角，基于此，輕薄的所 述襯底200向所述基底123傾斜，且所述襯底200的中心位置處發(fā)生的形變最厲害。但由 于所述支撐槽125之間相互平行，且均與所述基底123之間具有同樣的夾角，因此，當(dāng)多個(gè) 所述襯底200依次裝載于所述基板周轉(zhuǎn)裝置100上后，均向所述基底123傾斜，防止所述襯 底因發(fā)生形變的位置不確定，造成相鄰兩襯底200之間出現(xiàn)刮擦，甚至損傷所述襯底。另外，當(dāng)所述襯底200裝載于所述基板周轉(zhuǎn)裝置100上時(shí)，由于所述支撐槽125與 所述基底123之間具有夾角，其可防止所述襯底200由于操作人員的突然松手導(dǎo)致的快速 墜落可能造成的損傷，同時(shí)，在所述操作人員不甚松手時(shí)，所述襯底200因所述支撐槽125 與所述基底123之間的夾角關(guān)系，而緩慢落入所述基板周轉(zhuǎn)裝置100中。
為方便從所述基板周轉(zhuǎn)裝置100中拾取所述襯底200，將所述支撐槽125在所述側(cè) 壁121上的長度設(shè)置為小于所述襯底200的高度，使所述襯底200在裝載于所述基板周轉(zhuǎn) 裝置100后，所述襯底200有部分露出于所述基板周轉(zhuǎn)裝置100。所述蓋體110與所述本體120的結(jié)構(gòu)類似，其包括側(cè)壁和基底。所述蓋體110的 側(cè)壁中的兩相對(duì)的側(cè)壁上形成有與所述本體120上的支撐槽125對(duì)應(yīng)的支撐槽，且所述蓋 體110上的支撐槽與所述本體120上的支撐槽一并用于限制收容于所述收容空間的所述襯 底200。所述本體120的側(cè)壁高度大于所述蓋體110的側(cè)壁高度。所述本體120和蓋體110 相結(jié)合處可設(shè)置卡合結(jié)構(gòu)，在本實(shí)施方式中，圖示中未表示出所述本體120和蓋體110相結(jié) 合處的卡合結(jié)構(gòu)。在其他實(shí)施方式中，所述蓋體110的側(cè)壁上還可以不設(shè)置支撐槽。以上為本發(fā)明提供的基板周轉(zhuǎn)裝置的較佳實(shí)施方式，并不能理解為對(duì)本發(fā)明權(quán)利 保護(hù)范圍的限制，本領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)該知曉，在不脫離本發(fā)明構(gòu)思的前提下，還可做多種 改進(jìn)或替換，所有的該等改進(jìn)或替換都應(yīng)該在本發(fā)明的權(quán)利保護(hù)范圍內(nèi)，即本發(fā)明的權(quán)利 保護(hù)范圍應(yīng)以權(quán)利要求為準(zhǔn)。
權(quán)利要求
一種基板周轉(zhuǎn)裝置，用于將襯底從一個(gè)位置轉(zhuǎn)移至另一位置，其包括本體，所述本體包括側(cè)壁和基底，所述側(cè)壁與基底圍成一呈一側(cè)開口的空間，所述側(cè)壁內(nèi)部的相對(duì)兩側(cè)上形成有多條支撐槽，所述支撐槽與所述基底之間具有一夾角，使所述襯底在收容于上述空間后，發(fā)生形變的方向保持一致。
2.如權(quán)利要求1所述的基板周轉(zhuǎn)裝置，其特征在于所述基板周轉(zhuǎn)裝置還包括蓋體，所 述蓋體可分離地與所述本體結(jié)合在一起，且所述本體和蓋體均內(nèi)部中空，所述蓋體和本體 結(jié)合后，所述蓋體和本體的內(nèi)部中空形成統(tǒng)一的收容空間，上述空間為所述收容空間的一 部分。
3.如權(quán)利要求1所述的基板周轉(zhuǎn)裝置，其特征在于所述側(cè)壁與所述基底之間相互垂直。
4.如權(quán)利要求1所述的基板周轉(zhuǎn)裝置，其特征在于所述多條支撐槽之間相互平行，且 所述兩側(cè)的支撐槽數(shù)目相同，所述支撐槽沿所述基底至側(cè)壁的方向，且所述兩側(cè)的多條支 撐槽一一對(duì)應(yīng)，分位于所述兩側(cè)相對(duì)應(yīng)的兩條支撐槽用于夾持同一所述襯底。
5.如權(quán)利要求1所述的基板周轉(zhuǎn)裝置，其特征在于所述支撐槽與所述基底之間的夾 角在70度至90度之間。
6.如權(quán)利要求1所述的基板周轉(zhuǎn)裝置，其特征在于所述支撐槽在所述側(cè)壁上的長度 小于所述襯底在該側(cè)壁上的所述支撐槽方向上的長度，使所述襯底裝載于所述本體上后， 所述襯底有部分露出于所述本體之外。
7.如權(quán)利要求1所述的基板周轉(zhuǎn)裝置，其特征在于所述基板周轉(zhuǎn)裝置還包括蓋體， 所述蓋體也包括側(cè)壁和基底，所述蓋體的側(cè)壁中的兩相對(duì)的側(cè)壁上形成有與所述本體上的 支撐槽對(duì)應(yīng)的支撐槽，且所述蓋體上的支撐槽與所述本體上的支撐槽一并用于限制所述襯 底。
8.如權(quán)利要求7所述的基板周轉(zhuǎn)裝置，其特征在于所述基板周轉(zhuǎn)裝置整體呈方形，所 述本體和蓋體亦呈方形，所述本體和蓋體相結(jié)合出設(shè)有卡合結(jié)構(gòu)。
全文摘要
本發(fā)明涉及平板顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種基板周轉(zhuǎn)裝置。該基板周轉(zhuǎn)裝置用于將襯底從一個(gè)位置轉(zhuǎn)移至另一位置，其包括本體，所述本體包括側(cè)壁和基底，所述側(cè)壁與基底圍成一呈一側(cè)開口的空間，所述側(cè)壁內(nèi)部的相對(duì)兩側(cè)上形成有多條支撐槽，所述支撐槽與所述基底之間具有一夾角，使所述襯底在收容于上述空間后，發(fā)生形變的方向保持一致。
文檔編號(hào)B65D85/30GK101837860SQ201010173558
公開日2010年9月22日 申請(qǐng)日期2010年5月10日 優(yōu)先權(quán)日2010年5月10日
發(fā)明者商陸平, 李紹宗, 王士敏, 郭元元, 陳雄達(dá) 申請(qǐng)人:深圳萊寶高科技股份有限公司