本發(fā)明涉及ixpe的生產(chǎn)加工設備領域，尤其涉及一種儲片張力器。

背景技術：

ixpe的生產(chǎn)加工過程中，需要通過電子加速器改變ixpe的分子結構，使其由線狀轉(zhuǎn)化成為網(wǎng)狀，在加工過程中，需要用到儲片張力器來對ixpe進行張緊，目前，通常采用磁粉張力器來實現(xiàn)這一目的，然而磁粉張力器的張力較小，無法滿足生產(chǎn)的需求，同時，不同型號的ixpe所需的張力不同，而磁粉張力器的張力無法調(diào)節(jié)，不能夠適應，因此，亟需一種方便調(diào)節(jié)張力器張力、且張力較大的張力器。

技術實現(xiàn)要素：

針對上述問題，本發(fā)明提供了一種儲片張力器，通過氣缸來調(diào)節(jié)張力，不僅具有較大的張力，而且張力調(diào)節(jié)起來非常方便，有效解決背景技術中指出的問題。

本發(fā)明采用的技術方案是：

一種儲片張力器，包括機架，所述機架兩側的上下兩端均設置有同步鏈輪，同側上端的同步鏈輪與下端的同步鏈輪之間設置有同步鏈條，兩側的同步鏈條上均固定有一動輥座，所述的動輥座上設置有一動輥，所述機架的兩側均設置有一豎直的動輥滑軸和氣缸，所述的動輥座在動輥滑軸上上下滑動，所述的氣缸內(nèi)設置有一活塞，所述的活塞與動輥座均具有磁性，所述氣缸的頂部和底部均設置有通氣口，所述的通氣口分別與一氣管相連，所述機架的頂部設置有兩個過輥。

作為優(yōu)選，兩個所述的氣管與一電磁閥的兩個出口分別相連，所述電磁閥的進口與進氣管相連，所述進氣管的另一端與一空壓機相連，所述的進氣管上設置有壓力表和調(diào)壓器。

本發(fā)明通過氣缸來調(diào)節(jié)張力，不僅具有較大的張力，而且張力調(diào)節(jié)起來非常方便，有效解決背景技術中指出的問題。

附圖說明

圖1為本發(fā)明的結構示意圖；

圖2為氣缸的結構示意圖；

圖中：1.機架，2.同步鏈輪，3.同步鏈條，4.動輥座，5.動輥，6.動輥滑軸，7.氣缸，8.活塞，9.氣管，10.過輥，11.電磁閥，12.進氣管，13.空壓機，14.壓力表，15.調(diào)壓器。

具體實施方式

下面通過具體的實施例并結合附圖對本發(fā)明做進一步的詳細描述。

實施例1

如圖1-2所示，一種儲片張力器，包括機架1，所述機架1兩側的上下兩端均設置有同步鏈輪2，同側上端的同步鏈輪2與下端的同步鏈輪2之間設置有同步鏈條3，兩側的同步鏈條3上均固定有一動輥座4，所述的動輥座4上設置有一動輥5，所述機架1的兩側均設置有一豎直的動輥滑軸6和氣缸7，所述的動輥座4在動輥滑軸6上上下滑動，所述的氣缸7內(nèi)設置有一活塞8，所述的活塞8與動輥座4均具有磁性，所述氣缸7的頂部和底部均設置有通氣口，所述的通氣口分別與一氣管9相連，所述機架1的頂部設置有兩個過輥10。

兩個所述的氣管9與一電磁閥11的兩個出口分別相連，所述電磁閥11的進口與進氣管12相連，所述進氣管12的另一端與一空壓機13相連，所述的進氣管12上設置有壓力表14和調(diào)壓器15。

本發(fā)明在工作時，ixpe首先經(jīng)過一過輥10，再通過動輥5，最后從另一過輥10出料，其張力調(diào)節(jié)原理如下：

空壓機13產(chǎn)生的氣體通過電磁閥11進入氣缸7的頂部或底部，電磁閥11控制進氣管12與氣缸7的頂部或底部相連通，當進氣管12與氣缸7的頂部相連通時，氣體會充入氣缸7的頂部，從而使得活塞8向下運動一定的距離，此時由于活塞8與動輥座4均具有磁性，動輥座4也隨之向下運動相同的距離，這樣，動輥座4上的動輥5向下運動一段距離，從而實現(xiàn)了張力的增大；當進氣管12與氣缸7的底部相連通時，氣體會充入氣缸7的底部，從而使得活塞8向上運動一定的距離，此時由于活塞8與動輥座4均具有磁性，動輥座4也隨之向上運動相同的距離，這樣，動輥座4上的動輥5向上運動一段距離，從而實現(xiàn)了張力的減?。辉跉飧?內(nèi)氣壓較大時，可通過電磁閥11進行泄壓。

技術特征：

技術總結
本發(fā)明公開了一種儲片張力器，包括機架，所述機架兩側的上下兩端均設置有同步鏈輪，同側上端的同步鏈輪與下端的同步鏈輪之間設置有同步鏈條，兩側的同步鏈條上均固定有一動輥座，所述的動輥座上設置有一動輥，所述機架的兩側均設置有一豎直的動輥滑軸和氣缸，所述的動輥座在動輥滑軸上上下滑動，所述的氣缸內(nèi)設置有一活塞，所述的活塞與動輥座均具有磁性，所述氣缸的頂部和底部均設置有通氣口，所述的通氣口分別與一氣管相連，所述機架的頂部設置有兩個過輥。本發(fā)明通過氣缸來調(diào)節(jié)張力，不僅具有較大的張力，而且張力調(diào)節(jié)起來非常方便，有效解決背景技術中指出的問題。

技術研發(fā)人員：羅斌;武振華
受保護的技術使用者：湖州鑫宏潤輻照技術有限公司
技術研發(fā)日：2017.05.16
技術公布日：2017.08.22