本技術(shù)屬于光伏行業(yè)中電池鍍銅的圖形化領(lǐng)域，具體涉及一種多自由度調(diào)平的物料輸送裝置及非接觸式曝光設(shè)備。

背景技術(shù)：

1、目前光伏行業(yè)中，隨著p型電池逼近效率極限，n型電池將逐漸展開對p型的替代。2022年來公布的擴(kuò)產(chǎn)規(guī)劃中明確為n型的占比56％，隨著n型電池?cái)U(kuò)產(chǎn)落地，漿料端成本占比將抬升，同時(shí)有限的銀礦產(chǎn)量無法支撐光伏用銀需求的快速增長，推動(dòng)行業(yè)持續(xù)進(jìn)行低銀化和去銀化探索。

2、電鍍銅作為去銀化終級技術(shù)不只是“降本”技術(shù)，更是“提效”技術(shù)。hjt電池由于膜層原因采用低溫工藝，只能采用低溫銀漿，而低溫銀漿為純銀和有機(jī)物的混合物，導(dǎo)電性能較差，因此耗用銀漿較多；銀包銅漿料今年底明年初有望邁入量產(chǎn)，但是仍然無法徹底解決銀耗問題；而電鍍銅工藝制備的純銅電極電阻顯著小于含有機(jī)雜質(zhì)的低溫銀漿，高寬比更大，遮光更少，線寬有望降至20m以下，“去銀化”的同時(shí)也可實(shí)現(xiàn)更高的轉(zhuǎn)換效率。

3、圖形化環(huán)節(jié)是電鍍銅技術(shù)的核心突破點(diǎn)，可通過掩膜光刻或激光方式實(shí)現(xiàn)。掩膜光刻主要是在涂覆感光材料的基材表面，通過曝光顯影刻蝕出電鍍區(qū)域的凹槽。掩膜光刻的優(yōu)點(diǎn)在于，一旦確定了圖形方案，以及解決了曝光圖形精度和曝光均勻性，掩膜光刻有很大的產(chǎn)能提升潛力，有助于降低電鍍工藝的設(shè)備投資，也有利于電鍍工藝在光伏業(yè)內(nèi)的推廣。

4、當(dāng)前市場并沒有針對光伏行業(yè)高分辨率及高產(chǎn)能的相關(guān)成熟曝光設(shè)備，因此，面向電鍍銅等圖形化工藝，需要設(shè)計(jì)一款可批量生產(chǎn)、低成本、便于后期維護(hù)的曝光設(shè)備。尤其對于曝光前的工序，物料的傳輸、調(diào)平及定位等，需要快速精確化。

5、因此，面向電鍍銅等需要圖形化工藝，需要設(shè)計(jì)一款能快速傳輸、物料能夠精確姿態(tài)調(diào)整的傳輸裝置。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、為了克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，本實(shí)用新型的目的在于提供一種多自由度調(diào)平的物料輸送裝置及非接觸式曝光設(shè)備，其能解決上述問題。

2、一種多自由度調(diào)平的物料輸送裝置，物料輸送裝置包括自下而上布置的x向驅(qū)動(dòng)模組、頂升模組、平面內(nèi)調(diào)整模組、調(diào)平模組和物料載臺；所述平面內(nèi)調(diào)整模組的底部兩側(cè)邊滑動(dòng)的跨設(shè)在x向驅(qū)動(dòng)模組上，所述頂升模組設(shè)置在平面內(nèi)調(diào)整模組的底部，所述調(diào)平模組和物料載臺依次設(shè)置在平面內(nèi)調(diào)整模組的上方；物料載臺用于承載和定位待曝光的產(chǎn)品，頂升模組、平面內(nèi)調(diào)整模組、調(diào)平模組用于升降驅(qū)動(dòng)、平面內(nèi)調(diào)節(jié)和平面姿態(tài)調(diào)節(jié)，x向驅(qū)動(dòng)模組用于裝置在x向的整體驅(qū)動(dòng)，實(shí)現(xiàn)物料沿x向的進(jìn)給和復(fù)位。

3、進(jìn)一步的，所述x向驅(qū)動(dòng)模組采用電缸驅(qū)動(dòng)或直線電機(jī)驅(qū)動(dòng)，在x向往復(fù)運(yùn)動(dòng)的供給行程上設(shè)定上料位、測厚位和加工位。

4、進(jìn)一步的，所述頂升模組包括頂升驅(qū)動(dòng)組件、頂升外架板和頂升內(nèi)側(cè)板；所述頂升驅(qū)動(dòng)組件的豎直的設(shè)置在x向驅(qū)動(dòng)模組的中部，所述頂升驅(qū)動(dòng)組件的驅(qū)動(dòng)端外側(cè)通過頂升外架板與外部固定件連接支撐；所述頂升內(nèi)側(cè)板與頂升驅(qū)動(dòng)組件的驅(qū)動(dòng)輸出端連接。

5、進(jìn)一步的，所述平面內(nèi)調(diào)整模組包括中心鏤空的面內(nèi)調(diào)整下底板、面內(nèi)調(diào)整電機(jī)組和中心鏤空的面內(nèi)調(diào)整上底板；面內(nèi)調(diào)整電機(jī)組的多個(gè)電機(jī)驅(qū)動(dòng)單元設(shè)置在面內(nèi)調(diào)整下底板和面內(nèi)調(diào)整上底板之間，用于驅(qū)動(dòng)面內(nèi)調(diào)整上底板相對于下方的面內(nèi)調(diào)整下底板在x-y平面移動(dòng)實(shí)現(xiàn)面內(nèi)調(diào)節(jié)。

6、進(jìn)一步的，所述調(diào)平模組設(shè)置在所述平面內(nèi)調(diào)整模組的頂部，用于實(shí)現(xiàn)頂面的水平調(diào)平。

7、進(jìn)一步的，物料載臺可拆卸的安裝至所述調(diào)平模組的頂部，用于承載不同規(guī)格的物料。

8、本實(shí)用新型還提供了一種非接觸式曝光設(shè)備，設(shè)備包括安裝于底架上的掩膜支撐模組、上料模組、曝光光學(xué)模組、定位相機(jī)模組和控制模組；所述掩膜支撐模組用于支撐和定位掩膜版并測量下方待加工產(chǎn)品的厚度；所述上料模組采用前述的物料輸送裝置，用于將物料相對于掩膜支撐模組的調(diào)平、傳輸、定位和調(diào)高；所述曝光光學(xué)模組用于向所述掩膜支撐模組提供曝光光源；一個(gè)定位相機(jī)模組安裝于所述曝光光學(xué)模組上，用于對下方產(chǎn)品的定位；所述控制模組與上料模組、曝光光學(xué)模組和定位相機(jī)模組電訊連接，用于設(shè)備的控制。

9、相比現(xiàn)有技術(shù)，本實(shí)用新型的有益效果在于：本申請的物料輸送裝置能夠?qū)Χ嘁?guī)格的物料實(shí)現(xiàn)精確調(diào)平和運(yùn)輸，保證了曝光設(shè)備的高效運(yùn)行，便于在硅片鍍銅圖形化領(lǐng)域中的推廣應(yīng)用。

技術(shù)特征：

1.一種多自由度調(diào)平的物料輸送裝置，其特征在于：物料輸送裝置包括x向驅(qū)動(dòng)模組(210)、頂升模組(220)、平面內(nèi)調(diào)整模組(230)、調(diào)平模組(240)和物料載臺(250)；所述平面內(nèi)調(diào)整模組(230)的底部兩側(cè)邊滑動(dòng)的跨設(shè)在x向驅(qū)動(dòng)模組(210)上，所述頂升模組(220)設(shè)置在平面內(nèi)調(diào)整模組(230)的底部，所述調(diào)平模組(240)和物料載臺(250)依次設(shè)置在平面內(nèi)調(diào)整模組(230)的上方；

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的物料輸送裝置，其特征在于：

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的物料輸送裝置，其特征在于：

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的物料輸送裝置，其特征在于：

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的物料輸送裝置，其特征在于：

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的物料輸送裝置，其特征在于：

7.一種非接觸式曝光設(shè)備，其特征在于：設(shè)備包括安裝于底架(1000)上的掩膜支撐模組(100)、上料模組(200)、曝光光學(xué)模組(300)、定位相機(jī)模組(400)和控制模組；

技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)提供了一種多自由度調(diào)平的物料輸送裝置及非接觸式曝光設(shè)備，屬于光伏行業(yè)中電池鍍銅的圖形化領(lǐng)域，一種多自由度調(diào)平的物料輸送裝置，物料輸送裝置包括自下而上布置的X向驅(qū)動(dòng)模組、頂升模組、平面內(nèi)調(diào)整模組、調(diào)平模組和物料載臺；物料載臺用于承載和定位待曝光的產(chǎn)品，頂升模組、平面內(nèi)調(diào)整模組、調(diào)平模組用于升降驅(qū)動(dòng)、平面內(nèi)調(diào)節(jié)和平面姿態(tài)調(diào)節(jié)，X向驅(qū)動(dòng)模組用于裝置在X向的整體驅(qū)動(dòng)，實(shí)現(xiàn)物料沿X向的進(jìn)給和復(fù)位。本申請的物料輸送裝置能夠?qū)Χ嘁?guī)格的物料實(shí)現(xiàn)精確調(diào)平和運(yùn)輸，保證了曝光設(shè)備的高效運(yùn)行，便于在硅片鍍銅圖形化領(lǐng)域中的推廣應(yīng)用。

技術(shù)研發(fā)人員：邢吉文,賈勝凱,謝淑俊,楊鵬,陳曦,薛峰
受保護(hù)的技術(shù)使用者：蘇州天準(zhǔn)科技股份有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20240322
技術(shù)公布日：2024/11/14