基板輸送用機(jī)械手的制作方法
【專利摘要】提供一種基板輸送用機(jī)械手，該基板輸送用機(jī)械手能夠?qū)⒒宓目ňo時(shí)的顆粒的產(chǎn)生抑制在最小限度并能夠防止液體流入到基板上，能夠防止基板的污染。多個(gè)接受部件(3)具有：平板狀的支承部，其為安裝在機(jī)械手主體(1)上的部分；基板外周保持部(32)，其為由支承部支承的部分，保持基板的外周；以及基板下表面保持部(33)，其為由支承部支承的部分，保持基板的下表面，基板外周保持部(32)具有從支承部豎立設(shè)置且與基板的外周接觸而保持基板的部分，基板下表面保持部(33)具有從所保持的基板的外周側(cè)朝向內(nèi)側(cè)傾斜的部分，基板外周保持部(32)與基板下表面保持部(33)被間隙或者槽(35)隔離。
【專利說明】
基板輸送用機(jī)械手
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本發(fā)明涉及一種把持半導(dǎo)體晶片或液晶玻璃等基板的邊緣而輸送基板的基板輸送用機(jī)械手。
【背景技術(shù)】
[0002]在半導(dǎo)體器件或液晶等的制造工序中輸送半導(dǎo)體晶片或液晶玻璃等基板時(shí)，利用機(jī)器人的機(jī)械手吸附并保持基板的下表面，使機(jī)器人和機(jī)械手移動(dòng)，將基板輸送到下一工序。在吸附該基板的下表面的方式中，有可能在吸附時(shí)在基板的下表面上產(chǎn)生傷痕或者附著顆粒。
[0003]也存在通過使基板落入凹狀的收納部而能夠保持基板的外周部的機(jī)械手，但由于需要在基板的外周部與接受基板的收納部之間設(shè)置縫隙(間隙)，因此有可能導(dǎo)致基板錯(cuò)位或者基板下落，存在無(wú)法以高速輸送基板問題。
[0004]因此，最近，把持基板的外周部的邊緣把持方式的機(jī)械手成為主流。在專利文獻(xiàn)I中公開了如下的邊緣把持方式的機(jī)械手，該邊緣把持方式的機(jī)械手構(gòu)成為使把持基板的邊緣的接受部件和把持部件傾斜，僅利用基板的外周部的一部分與接受部件和把持部件之間的接觸來把持基板。
[0005]現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
[0006]專利文獻(xiàn)
[0007]專利文獻(xiàn)I:日本特許第4600856號(hào)公報(bào)
[0008]發(fā)明要解決的課題
[0009]然而，在邊緣把持方式的機(jī)械手中，實(shí)際上存在基板與接受部件以及把持部件滑動(dòng)的部位，從該部位產(chǎn)生顆粒。只是，通常情況下，基板的處理面朝上，機(jī)械手位于下表面，接受部件和把持部件也從外周部處位于下表面。多數(shù)情況下基板輸送空間也保持在下游。并且，由于多數(shù)情況下基板的外周部的幾_(一般情況下為3mm左右)是不用于制品的部分，因此即使顆粒產(chǎn)生也不會(huì)成為特別的問題。但是，在潮濕環(huán)境下，狀況就不同了。
[0010]圖16(a)、(b)是表示潮濕環(huán)境下的一般的邊緣把持方式的機(jī)械手的動(dòng)作的示意圖。
[0011]如圖16(a)所示，機(jī)械手在潮濕環(huán)境下進(jìn)行動(dòng)作時(shí)，清洗液或沖洗液等液體附著于機(jī)械手的接受部件301或把持部件302。并且，當(dāng)輸送研磨后的基板時(shí)，在研磨工序中使用的研磨液(漿料)附著于機(jī)械手的接受部件301或把持部件302。
[0012]如圖16(b)所示，在使把持部件302移動(dòng)而在把持部件302與接受部件301之間卡緊基板W時(shí)，基板W在接受部件301的斜面上上滑，此時(shí)進(jìn)行摩擦而產(chǎn)生顆粒。顆粒被取入清洗液或沖洗液等液體中。如圖16(b)所示，液體因慣性力而與把持部件302和基板W的移動(dòng)一同流入到基板上。由此，液體到達(dá)基板W的部位會(huì)被污染。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0013]本發(fā)明是鑒于上述的情況而完成的，其目的在于，提供一種基板輸送用機(jī)械手，能夠?qū)⒃诨宓目ňo時(shí)顆粒的產(chǎn)生抑制在最小限度，并且能夠防止液體流入到基板上，能夠防止基板的污染。
[0014]用于解決課題的手段
[0015]為了達(dá)成上述的目的，本發(fā)明的基板輸送用機(jī)械手的第一方式提供一種基板輸送用機(jī)械手，具有:平板狀的機(jī)械手主體;多個(gè)接受部件，該多個(gè)接受部件設(shè)置在機(jī)械手主體上，用于保持基板的邊緣；以及把持部件，該把持部件被設(shè)置為能夠相對(duì)于機(jī)械手主體移動(dòng)，把持基板的邊緣，該基板輸送用機(jī)械手構(gòu)成為通過致動(dòng)器使所述把持部件移動(dòng)，利用所述接受部件和所述把持部件夾持并固定基板，該基板輸送用機(jī)械手的特征在于，所述多個(gè)接受部件具有:平板狀的支承部，該支承部是安裝在所述機(jī)械手主體上的部分;基板外周保持部，該基板外周保持部是由支承部支承的部分，保持基板的外周；以及基板下表面保持部，該基板下表面保持部是由支承部支承的部分，保持基板的下表面，所述基板外周保持部具有從所述支承部豎立設(shè)置且與基板的外周接觸而保持基板的部分，所述基板下表面保持部具有從所保持的基板的外周側(cè)朝向內(nèi)側(cè)傾斜的部分，所述基板外周保持部與所述基板下表面保持部被間隙或者槽隔離。
[0016]根據(jù)本發(fā)明，在由基板輸送用機(jī)械手保持(卡緊)基板時(shí)，首先，基板載置在接受部件的基板下表面保持部的傾斜的部分。此時(shí)，多數(shù)情況下在傾斜的部分上載有水滴(液體)。接著，基板被把持部件推動(dòng)而前進(jìn)，基板下表面保持部的傾斜的部分上的水滴被基板推動(dòng)而從傾斜的部分經(jīng)由間隙下落到支承部上。因此，水滴(液體)不會(huì)流入到基板上。若基板被把持部件進(jìn)一步推動(dòng)，則基板的外周與基板外周保持部的保持基板的部分抵接，通過該保持基板的部分與把持部件來保持(卡緊)基板。此時(shí)，由于基板的外周為R形狀(曲面形狀)，因此基板的外周以與保持基板的部分線接觸或者點(diǎn)接觸的方式被支承。并且，基板的下表面以只與基板下表面保持部的傾斜的部分的上端線接觸或者點(diǎn)接觸的方式被支承。這樣，在利用接受部件和把持部件保持(卡緊)基板時(shí)，通過使基板與接受部件之間的接觸部的面積盡可能得小，從而能夠?qū)㈩w粒的產(chǎn)生抑制在最小限度。
[0017]根據(jù)本發(fā)明的優(yōu)選的方式，其特征在于，在所述基板外周保持部中，與基板的外周接觸而保持基板的部分由沿著基板的外周的圓弧面構(gòu)成。
[0018]根據(jù)本發(fā)明的優(yōu)選的方式，其特征在于，在所述基板外周保持部中，與基板的外周接觸而保持基板的部分由具有與基板的外周接觸的棱線的多棱柱或者具有曲面的柱狀體構(gòu)成。
[0019]根據(jù)本發(fā)明，多棱柱例如由三棱柱構(gòu)成，具有曲面的柱狀體例如由半圓柱構(gòu)成。
[0020]根據(jù)本發(fā)明的優(yōu)選的方式，其特征在于，所述基板外周保持部隔著所述間隙或者槽而設(shè)置有多個(gè)。
[0021]根據(jù)本發(fā)明的優(yōu)選的方式，其特征在于，所述基板下表面保持部的所述傾斜的部分由傾斜面構(gòu)成。
[0022]根據(jù)本發(fā)明的優(yōu)選的方式，其特征在于，所述基板下表面保持部的所述傾斜的部分由具有與基板的下表面接觸的棱線的多棱柱或者具有曲面的柱狀體構(gòu)成。
[0023]根據(jù)本發(fā)明，多棱柱例如由三棱柱構(gòu)成，具有曲面的柱狀體例如由半圓錐臺(tái)構(gòu)成。
[0024]根據(jù)本發(fā)明的優(yōu)選的方式，其特征在于，所述基板外周保持部的上部被切割成上端為薄壁的邊緣狀。
[0025]本發(fā)明的基板輸送用機(jī)械手的第二方式提供一種基板輸送用機(jī)械手，具有:平板狀的機(jī)械手主體;多個(gè)接受部件，該多個(gè)接受部件設(shè)置在機(jī)械手主體上，用于保持基板的邊緣；以及把持部件，該把持部件被設(shè)置為能夠相對(duì)于機(jī)械手主體移動(dòng)，把持基板的邊緣，該基板輸送用機(jī)械手構(gòu)成為通過致動(dòng)器使所述把持部件移動(dòng)，利用所述接受部件和所述把持部件夾持并固定基板，該基板輸送用機(jī)械手的特征在于，所述多個(gè)接受部件具有:平板狀的支承部，該支承部是安裝在所述機(jī)械手主體上的部分;基板外周保持部，該基板外周保持部是由支承部支承的部分，保持基板的外周；以及基板下表面保持部，該基板下表面保持部是由支承部支承的部分，保持基板的下表面，所述把持部件具有與基板的外周接觸而把持基板的部分，把持所述基板的部分由具有曲面的柱狀體構(gòu)成。
[0026]根據(jù)本發(fā)明，在把持部件與接受部件之間把持(卡緊)基板時(shí)，把持部件的柱狀體的曲面與基板的外周接觸而把持(卡緊)基板。由于基板的外周為R形狀(曲面形狀)，因此把持部件的柱狀體的曲面與基板的外周以點(diǎn)接觸或者接近點(diǎn)接觸的形態(tài)接觸。因此，能夠?qū)⒒迮c把持部件摩擦?xí)r的顆粒的產(chǎn)生抑制在最小限度。并且，由于把持部件的把持基板的部分是曲面，因此水滴(液體)不易積存。
[0027]根據(jù)本發(fā)明的優(yōu)選的方式，其特征在于，所述具有曲面的柱狀體由圓柱的至少一部分或者倒圓錐臺(tái)的至少一部分構(gòu)成。
[0028]根據(jù)本發(fā)明，具有曲面的柱狀體例如由半圓柱或者半倒圓錐臺(tái)構(gòu)成。
[0029]根據(jù)本發(fā)明的優(yōu)選的方式，其特征在于，所述具有曲面的柱狀體是將位于下方側(cè)的由圓柱的至少一部分構(gòu)成的柱狀體和位于上方側(cè)的由倒圓錐臺(tái)的至少一部分構(gòu)成的柱狀體一體化而得到的。
[0030]根據(jù)本發(fā)明，具有曲面的柱狀體例如由半圓柱和設(shè)置在半圓柱上的半倒圓錐臺(tái)構(gòu)成。
[0031 ]根據(jù)本發(fā)明，其特征在于，所述把持部件的上部被切割成上端為薄壁的邊緣狀。
[0032]本發(fā)明的基板輸送用機(jī)械手的第三方式提供一種基板輸送用機(jī)械手，具有:機(jī)械手主體;接受部件，該接受部件設(shè)置于機(jī)械手主體，用于保持基板的邊緣；以及把持部件，該把持部件被設(shè)置為能夠相對(duì)于機(jī)械手主體移動(dòng)，把持基板的邊緣，該基板輸送用機(jī)械手構(gòu)成為通過致動(dòng)器使所述把持部件移動(dòng)，利用所述接受部件和所述把持部件夾持并固定基板，該基板輸送用機(jī)械手的特征在于，所述接受部件具有:與基板的外周接觸而保持基板的外周的基板外周保持面、以及保持基板的下表面的基板下表面保持面，所述基板外周保持面與所述基板下表面保持面被隔離。
[0033]本發(fā)明的基板處理裝置的特征在于，具有:基板輸送機(jī)構(gòu)，該基板輸送機(jī)構(gòu)具有上述基板輸送用機(jī)械手；以及處理部，該處理部對(duì)由所述基板輸送機(jī)構(gòu)輸送來的基板進(jìn)行處理。
[0034]發(fā)明效果
[0035]本發(fā)明實(shí)現(xiàn)以下列舉的效果。
[0036](I)在基板輸送用機(jī)械手對(duì)基板進(jìn)行卡緊時(shí)，即使在水滴等液體附著在接受部件上的情況下，液體也易于從基板外周保持部與基板下表面保持部之間的間隙或者槽被擠出。因此，能夠防止在基板的卡緊時(shí)液體向基板上流入，能夠防止基板的污染。
[0037](2)在基板輸送用機(jī)械手對(duì)基板進(jìn)行卡緊時(shí)，通過使接受部件與基板接觸的部分的面積盡可能得小，能夠?qū)㈩w粒的產(chǎn)生抑制在最小限度。因此，能夠防止基板的污染。
[0038](3)由于在基板輸送用機(jī)械手的把持部件中不存在水滴等液體積存的凹部，因此不存在卡緊基板時(shí)水滴等液體從把持部件流入到基板上的擔(dān)憂。
[0039](4)在基板輸送用機(jī)械手對(duì)基板進(jìn)行卡緊時(shí)，通過使把持部件與基板接觸的部分的面積盡可能得小，從而能夠?qū)㈩w粒的產(chǎn)生抑制在最小限度。因此，能夠防止基板的污染。
【附圖說明】
[0040]圖l(a)、(b)是表示本發(fā)明的基板輸送用機(jī)械手的第一方式的圖，圖1(a)是基板輸送用機(jī)械手的示意性俯視圖，圖1(b)是基板輸送用機(jī)械手的示意性主視圖。
[0041]圖2(a)、(b)是表示本發(fā)明的基板輸送用機(jī)械手的第二方式的圖，圖2(a)是基板輸送用機(jī)械手的示意性俯視圖，圖2(b)是基板輸送用機(jī)械手的示意性主視圖。
[0042]圖3(a)、(b)、(C)是表示接受部件的第一方式的圖，圖3(a)是接受部件的立體圖，圖3(b)是接受部件的俯視圖，圖3(c)是接受部件的側(cè)視圖。
[0043]圖4(a)、(b)、(C)是表示像圖3(a)、(b)、(C)所示那樣構(gòu)成的接受部件保持基板時(shí)的狀態(tài)的示意性立體圖。
[0044]圖5是表示圖3(a)所示的第一方式的接受部件的變形例的立體圖。
[0045]圖6是表示接受部件的第二方式的圖，是接受部件的俯視圖。
[0046]圖7是表示接受部件的第三方式的圖，是接受部件的俯視圖。
[0047]圖8是表示接受部件的第四方式的圖，是接受部件的立體圖。
[0048]圖9是表示接受部件的第五方式的圖，是接受部件的俯視圖。
[0049]圖10(a)、(b)是表示接受部件的基板外周保持部和基板下表面保持部的變形例的立體圖。
[0050]圖11(a)、(b)是表示把持部件的第一方式的圖，圖11(a)是把持部件的立體圖，圖11(b)是圖11(a)的X1-XI線剖面圖。圖11(c)是表示圖ll(a)、(b)所示的第一方式的把持部件的變形例的剖面圖。
[0051]圖12(a)、(b)是表示把持部件的第二方式的圖，圖12(a)是把持部件的立體圖，圖12(b)是圖12(a)的XI1-XII線剖面圖。
[0052]圖13(a)、(b)是表示把持部件的第三方式的圖，圖13(a)是把持部件的立體圖，圖13(b)是圖13(a)的XII1-XIII線剖面圖。
[0053]圖14是表示使用具有本發(fā)明的基板輸送用機(jī)械手的基板輸送機(jī)構(gòu)(輸送機(jī)器人)來依次輸送基板并且進(jìn)行基板的處理的基板處理裝置的整體結(jié)構(gòu)的俯視圖。
[0054]圖15(a)是表示清洗部的俯視圖，圖15 (b)是表示清洗部的側(cè)視圖。
[0055]圖16(a)、(b)是表示潮濕環(huán)境下的通常的邊緣把持方式的機(jī)械手的動(dòng)作的示意圖。
[0056]符號(hào)說明
[0057]I 機(jī)械手主體
[0058]Ia 切口
[0059]2 安裝部
[0060]3 接受部件
[0061]3A 接受部件
[0062]3B 接受部件
[0063]4A 接受部件
[0064]4B 接受部件
[0065]5 夾緊機(jī)構(gòu)
[0066]5a 桿
[0067]6 把持部件
[0068]6a 半圓柱
[0069]6b 半倒圓錐臺(tái)
[0070]6u 上端
[0071 ]32 基板外周保持部
[0072]32s圓弧面
[0073]32t 棱線
[0074]32u 上端
[0075]33 基板下表面保持部
[0076]33e 上端
[0077]33s傾斜面
[0078]33t 棱線
[0079]35 間隙(或者槽)
[0080]101 外殼[0081 ]1la 隔壁
[0082]1lb 隔壁
[0083]102裝載/卸載部
[0084]103研磨部
[0085]103A第I研磨單元
[0086]103B第2研磨單元
[0087]103C第3研磨單元
[0088]103D第4研磨單元
[0089]104清洗部
[0090]105控制部
[0091]HO研磨墊
[0092]120前裝載部
[0093]121行駛機(jī)構(gòu)
[0094]122輸送機(jī)器人(裝載器)
[0095]130A研磨工作臺(tái)
[0096]130B研磨工作臺(tái)
[0097]130C研磨工作臺(tái)
[0098]130D研磨工作臺(tái)
[0099]131支承部
[0100]131A 頂圈
[0101]131B 頂圈
[0102]131C 頂圈
[0103]131D 頂圈
[0104]132A研磨液供給噴嘴
[0105]132B研磨液供給噴嘴
[0106]132C研磨液供給噴嘴
[0107]132D研磨液供給噴嘴
[0108]133A 修整器
[0109]133B 修整器
[0110]133C 修整器
[0111]133D 修整器
[0112]134A 噴霧器
[0113]134B 噴霧器
[0114]134C 噴霧器
[0115]134D 噴霧器
[0116]180臨時(shí)放置臺(tái)
[0117]190第I清洗室
[0118]191第I輸送室
[0119]192第2清洗室
[0120]193第2輸送室
[0121]194干燥室
[0122]201A上側(cè)一次清洗模塊
[0123]201B下側(cè)一次清洗模塊
[0124]202A上側(cè)二次清洗模塊
[0125]202B下側(cè)二次清洗模塊
[0126]203臨時(shí)放置臺(tái)
[0127]205A上側(cè)干燥模塊
[0128]205B下側(cè)干燥模塊
[0129]209第I輸送機(jī)器人
[0130]210第2輸送機(jī)器人
[0131]211支承軸
[0132]212支承軸
[0133]301接受部件
[0134]302把持部件
[0135]H 水平面
[0136]Θ 傾斜角
[0137]W 基板
【具體實(shí)施方式】
[0138]以下，參照?qǐng)D1至圖15對(duì)本發(fā)明的基板輸送用機(jī)械手的實(shí)施方式進(jìn)行說明。在圖1至圖15中，對(duì)相同或者相當(dāng)?shù)慕Y(jié)構(gòu)要素標(biāo)注相同的符號(hào)而省略重復(fù)的說明。
[0139]圖l(a)、(b)是表示本發(fā)明的基板輸送用機(jī)械手的第一方式的圖，圖1(a)是基板輸送用機(jī)械手的示意性俯視圖，圖1(b)是基板輸送用機(jī)械手的示意性主視圖。
[0140]如圖1(a)、(b)所示，基板輸送用機(jī)械手由如下部件構(gòu)成:機(jī)械手主體I，保持半導(dǎo)體晶片等基板W;以及安裝部2，支承機(jī)械手主體1，并且安裝于機(jī)器人的臂(未圖示)。機(jī)械手主體I由大致矩形的平板狀的部件構(gòu)成，在機(jī)械手主體I形成有V字狀的切口 la，機(jī)械手主體I的頂端側(cè)被分成兩股。在機(jī)械手主體I，在被分成兩股的頂端部設(shè)置有用于保持基板W的頂端側(cè)邊緣的接受部件3A、3B。并且，在機(jī)械手主體I的后部(安裝部側(cè))設(shè)置有用于保持基板W的后端側(cè)邊緣的接受部件4A、4B。
[0141]在支承機(jī)械手主體I的安裝部2設(shè)置有夾緊機(jī)構(gòu)5。夾緊機(jī)構(gòu)5位于機(jī)械手主體I的后端部的中央部，配置在接受部件4A、4B的中間。夾緊機(jī)構(gòu)5具有用于與基板W的后端側(cè)邊緣抵接而把持基板W的邊緣的把持部件6，把持部件6構(gòu)成為通過氣缸等致動(dòng)器(未圖示)進(jìn)行前進(jìn)后退。即，夾緊機(jī)構(gòu)5具有致動(dòng)器，通過使致動(dòng)器進(jìn)行動(dòng)作而使把持部件6朝向基板側(cè)前進(jìn)，從而利用頂端側(cè)的接受部件3A、3B和把持部件6夾持并固定(夾緊)基板W。
[0142]圖2(a)、(b)是表示本發(fā)明的基板輸送用機(jī)械手的第二方式的圖，圖2(a)是基板輸送用機(jī)械手的示意性俯視圖，圖2(b)是基板輸送用機(jī)械手的示意性主視圖。
[0143]如圖2(a)、(b)所示，在第二方式的基板輸送用機(jī)械手中設(shè)置有兩個(gè)夾緊機(jī)構(gòu)5，這兩個(gè)夾緊機(jī)構(gòu)5被配置為位于機(jī)械手主體I的側(cè)方且夾持機(jī)械手主體I。夾緊機(jī)構(gòu)5和把持部件6的結(jié)構(gòu)與圖1(a)、(b)所示的結(jié)構(gòu)相同。
[0144]接著，對(duì)用于保持基板W的頂端側(cè)邊緣的接受部件3A、3B和用于保持后端側(cè)邊緣的接受部件4A、4B進(jìn)行說明。用于保持基板W的頂端側(cè)邊緣的2個(gè)接受部件3A、3B的形狀相對(duì)于圖1(a)中穿過基板W的中心O的中心線L處于線對(duì)稱的關(guān)系。因此，如果確定接受部件3A的形狀，則以該確定的形狀為基準(zhǔn)，相對(duì)于圖1(a)中穿過基板W的中心O的中心線L呈線對(duì)稱的形狀為另一方的接受部件3B的形狀。并且，用于保持基板W的頂端側(cè)邊緣的接受部件3A、3B和用于保持后端側(cè)邊緣的接受部件4A、4B只有安裝方向不同，可以分別使用相同的部件。因此，在以下的說明中，不使用后綴A、B而以接受部件3代表接受部件進(jìn)行說明。
[0145]圖3(a)、(b)、(C)是表示接受部件3的第一方式的圖，圖3(a)是接受部件3的立體圖，圖3(b)是接受部件3的俯視圖，圖3(c)是接受部件3的側(cè)視圖。如圖3(a)、(b)、(c)所示，接受部件3具有:平板狀的支承部31，具有大致矩形的平面形狀;基板外周保持部32，是由支承部31支承的部分，且保持基板W的外周(邊緣)；以及基板下表面保持部33，是由支承部31支承的部分，且保持基板W的下表面。
[0146]接受部件3的支承部31以支承部31的下表面與機(jī)械手主體1(參照?qǐng)D1(a)、(b))的上表面接觸的狀態(tài)通過螺釘緊固等固定于機(jī)械手主體I?；逋庵鼙３植?2的內(nèi)表面為曲率與基板W的外周相同的圓弧面32s，圓弧面32s與基板W的外周接觸而保持基板W的外周。圓弧面32s從支承部31的上表面沿垂直方向延伸?；逑卤砻姹３植?3的上表面為傾斜面33s，傾斜面33s與基板W的下表面接觸而保持基板W的下表面。
[0147]在基板W的外周形成凹口，由于凹口的圓周方向的長(zhǎng)度約為2mm，因此基板外周保持部32的水平方向的長(zhǎng)度需要比凹口的圓周方向的長(zhǎng)度長(zhǎng)。因此，在本實(shí)施方式中，圖3(b)的長(zhǎng)度I被設(shè)定在(2mm+lnim)?(2mm+5nim)的范圍。
[0148]由于基板外周保持部32需要利用從水平面H(參照?qǐng)D3(c))到基板外周保持部32的上端之間、即相當(dāng)于圖3(c)的高度h的部分保持外周，因此若將基板W的厚度設(shè)為t，則高度h被設(shè)定在(tmm+Omm)?(tmm+2mm)的范圍。基板下表面保持部33的傾斜面33s從接近于基板外周保持部32的端部側(cè)朝向支承部31的頂端側(cè)向下方傾斜，相對(duì)于水平面H的傾斜角Θ被設(shè)定為1°?15°，優(yōu)選被設(shè)定為2°?4°。并且，如圖3(a)、(b)所示，在基板外周保持部32與基板下表面保持部33之間形成有間隙(或者槽)35。即，基板外周保持部32與基板下表面保持部33被間隙(或者槽)35完全地隔離，支承部31的上表面在基板外周保持部32與基板下表面保持部33之間露出。
[0149]圖4(a)、(b)、(C)是表示像圖3(a)、(b)、(C)所示那樣構(gòu)成的接受部件3保持基板W時(shí)的狀態(tài)的示意性立體圖。在圖4(a)、(b)、(C)中基板W由雙點(diǎn)劃線表示。
[0150]當(dāng)由圖l(a)、(b)所示的基板輸送用機(jī)械手保持基板W(卡緊)時(shí)，首先，如圖4(a)所示，基板W載置在接受部件3的基板下表面保持部33的傾斜面33s上。此時(shí)，在傾斜面33s上載有水滴(液體)的情況較多。
[0151]接著，如圖4(b)所示，基板W被夾緊機(jī)構(gòu)5的把持部件6(參照?qǐng)Dl(a)、(b))推動(dòng)而前進(jìn)，傾斜面33s上的水滴被基板W推動(dòng)而從傾斜面33s經(jīng)由間隙35下落到支承部31上。因此，水滴(液體)不會(huì)流入到基板W上。
[0152 ]若基板W被把持部件6進(jìn)一步推動(dòng)，則如圖4 (c)所示，基板W的外周與基板外周保持部32的圓弧面32s抵接，基板W的外周被基板外周保持部32的圓弧面32s的上部和把持部件6(參照?qǐng)Dl(a)、(b))保持(卡緊)。此時(shí)，由于基板W的外周為R形狀(曲面形狀)，因此基板W的外周以與圓弧面32s線接觸或者接近線接觸的形態(tài)被支承。并且，基板W的下表面以僅與傾斜面33s的上端33e線接觸的方式被支承。這樣，在通過接受部件3和把持部件6保持(卡緊)基板W時(shí)，通過使基板W與接受部件3的接觸部的面積盡可能得小，從而能夠?qū)㈩w粒的產(chǎn)生抑制在最小限度。
[0153]圖5是表示圖3(a)所示的第一方式的接受部件3的變形例的立體圖。如圖5所示，在變形例中，基板外周保持部32的上部被傾斜地切割，使得基板外周保持部32的上端32u成為薄壁。因此，基板外周保持部32構(gòu)成為不使水滴(液體)積存在其上端32u。圖5所示的接受部件3的其他的結(jié)構(gòu)與圖3(a)?(c)所示的接受部件相同。
[0154]圖6是表示接受部件3的第二方式的圖，是接受部件3的俯視圖。如圖6所示，在第二方式的接受部件3中，基板外周保持部32從支承部31的一側(cè)端延伸到另一側(cè)端。因此，基板外周保持部32的內(nèi)表面與圖3(a)?(c)所示的基板外周保持部32的內(nèi)表面相比在水平方向上延伸得長(zhǎng)。并且，基板外周保持部32的內(nèi)表面為曲率與基板W的外周相同的圓弧面32s，圓弧面32s與基板W的外周接觸而保持基板W的外周。在基板外周保持部32的圓弧面32s與基板下表面保持部33的端面之間形成有間隙(或者槽)35。圖6所示的接受部件3的其他的結(jié)構(gòu)與圖3(a)?(c)所示的接受部件相同。
[0155]圖7是表示接受部件3的第三方式的圖，是接受部件3的俯視圖。如圖7所示，在第三方式的接受部件3中，基板下表面保持部33從支承部31的一端延伸到另一端?；逑卤砻姹３植?3的傾斜面33s與圖3(a)?(c)所示的接受部件3同樣具有1°?15°、優(yōu)選2°?4°的傾斜角。在基板外周保持部32的側(cè)面與基板下表面保持部33的側(cè)面之間形成有間隙(或者槽)35。圖7所示的接受部件3的其他的結(jié)構(gòu)與圖3(a)?(c)所示的接受部件相同。
[0156]圖8是表示接受部件3的第四方式的圖，是接受部件3的立體圖。如圖8所示，第四方式的接受部件3為在圖3(a)所示的接受部件3上添加另一個(gè)基板外周保持部32的形式。即，支承部31從基板下表面保持部33的外端進(jìn)一步延長(zhǎng)，在該延長(zhǎng)的支承部31上形成另一個(gè)基板外周保持部32。因此，兩個(gè)基板外周保持部32、32成為相對(duì)于穿過基板下表面保持部33的中心的中心線呈線對(duì)稱地形成的形式。在兩個(gè)基板外周保持部32、32與基板下表面保持部33之間形成有間隙(或者槽)35。根據(jù)本實(shí)施方式，形成有兩個(gè)基板外周保持部32、32，在這兩個(gè)基板外周保持部32、32之間形成有間隙(或者槽)35。因此，即使在基板W的凹口位于一方的基板外周保持部32的圓弧面32s的情況下，另一方的基板外周保持部32的圓弧面32s也能夠保持基板W的不存在凹口的部分的外周，因此基板外周保持部32的長(zhǎng)度I也可以比基板W的凹口的圓周方向的長(zhǎng)度短。圖8所示的接受部件3的其他的結(jié)構(gòu)與圖3(a)?(c)所示的接受部件相同。
[0157]圖9是表示接受部件3的第五方式的圖，是接受部件3的俯視圖。如圖9所示，在第五方式的接受部件3中，基板外周保持部32從支承部31的一側(cè)端延伸到另一側(cè)端，基板下表面保持部33位于支承部31的中央部。因此，圖9所示的第五方式的接受部件3為將圖8所示的接受部件3中的兩個(gè)基板外周保持部32、32—體化成一個(gè)基板外周保持部32的形態(tài)。并且，在基板外周保持部32的圓弧面32s與基板下表面保持部33的端面之間形成有間隙(或者槽)35。圖9所示的接受部件3的其他的結(jié)構(gòu)與圖8所示的接受部件相同。
[0158]圖10(a)、(b)是表示接受部件3的基板外周保持部32和基板下表面保持部33的變形例的立體圖。
[0159]在圖10(a)所示的變形例中，基板外周保持部32由三棱柱構(gòu)成，基板下表面保持部33也由三棱柱構(gòu)成。由三棱柱構(gòu)成的基板外周保持部32的棱線32t在垂直方向上延伸，由三棱柱構(gòu)成的基板下表面保持部33的棱線33t從接近基板外周保持部32的端部側(cè)朝向另一端部側(cè)向下方傾斜，棱線33t相對(duì)于水平面H(參照?qǐng)D3(c))的傾斜角被設(shè)定為1°?15°，優(yōu)選被設(shè)定為2°?4°。在圖10(a)所示的變形例中，由于基板W的外周為R形狀(曲面形狀)，因此基板外周保持部32以其棱線32t與基板W的外周點(diǎn)接觸或者接近點(diǎn)接觸的形態(tài)保持基板W的外周，并且基板下表面保持部33構(gòu)成為以其棱線33t與基板W的下表面點(diǎn)接觸或者接近點(diǎn)接觸的形態(tài)保持基板W的下表面。
[0160]在圖10(b)所示的變形例中，基板外周保持部32由半圓柱構(gòu)成，基板下表面保持部33由半圓錐臺(tái)構(gòu)成。由半圓柱構(gòu)成的基板外周保持部32的棱線32t在垂直方向上延伸，由半圓錐臺(tái)構(gòu)成的基板下表面保持部33的棱線33t從接近基板外周保持部32的端部側(cè)朝向另一端部側(cè)向下方傾斜，棱線33t相對(duì)于水平面H(參照?qǐng)D3(c))的傾斜角被設(shè)定為1°?15°，優(yōu)選被設(shè)定為2°?4°。這里，半圓柱的棱線32t是指連接半圓柱的各截面(半圓)的頂點(diǎn)的線，在圖10(b)中由點(diǎn)劃線表示。半圓錐臺(tái)的棱線33t是指連接半圓錐臺(tái)的各截面(半圓)的頂點(diǎn)的線，在圖10(b)中由點(diǎn)劃線表示。在圖10(b)所示的變形例中，由于基板W的外周為R形狀(曲面形狀)，因此構(gòu)成為基板外周保持部32以其棱線32t與基板W的外周點(diǎn)接觸或者接近點(diǎn)接觸的形態(tài)保持基板W的外周，并且基板下表面保持部33以其棱線33t與基板W的下表面點(diǎn)接觸或者接近點(diǎn)接觸的形態(tài)保持基板W的下表面。
[0161]根據(jù)圖10(a)、(b)所示的實(shí)施方式，基板外周保持部32和基板下表面保持部33分別與基板W的外周和基板W的下表面以點(diǎn)接觸或者接近點(diǎn)接觸的形態(tài)接觸，由此能夠保持基板W，因此能夠?qū)⒒錡與基板保持部32、33摩擦?xí)r的顆粒的產(chǎn)生抑制在最小限度。另外，由于有時(shí)基板外周保持部32的棱線32t也與基板W的凹口的位置一致，因此優(yōu)選基板外周保持部32如圖8所示那樣設(shè)置多個(gè)。
[0162]接著，對(duì)在圖l(a)、(b)和圖2(a)、(b)所示的基板輸送用機(jī)械手中使用的夾緊機(jī)構(gòu)5的把持部件6進(jìn)行說明。
[0163]圖11(a)、(b)是表不把持部件6的第一方式的圖，圖11(a)是把持部件6的立體圖，圖11(b)是圖11 (a)的X1-XI線剖面圖。如圖11(a)、(b)所示，把持部件6由半圓柱6a和設(shè)置在半圓柱6a上的半倒圓錐臺(tái)6b構(gòu)成。即，把持部件6是將圓柱和倒圓錐臺(tái)一體化后的形狀對(duì)半切割而得到的形狀。把持部件6的平坦的端面?zhèn)裙潭ㄓ趭A緊機(jī)構(gòu)5的桿5a(由雙點(diǎn)劃線表示)。把持部件6以半圓柱6a的底面?zhèn)扰c機(jī)械手主體1(圖1(a)、(b)參照)的上表面相對(duì)的方式安裝于夾緊機(jī)構(gòu)5的桿5a。
[0164]在圖11(a)、(b)所示的把持部件6把持(卡緊)基板W時(shí)，半圓柱6a的外周面與基板W(由雙點(diǎn)劃線表示)的外周接觸而把持(卡緊)基板W。由于半倒圓錐臺(tái)6b的倒圓錐面向基板W的上表面傾斜地突出，因此能夠防止在卡緊時(shí)基板W向上方浮起。如圖11(b)所示，由于基板W的外周為R形狀(曲面形狀)，因此半圓柱6a的外周面與基板W的外周以點(diǎn)接觸或者接近點(diǎn)接觸的形態(tài)接觸。因此，能夠?qū)⒒錡與把持部件6摩擦?xí)r的顆粒的產(chǎn)生抑制在最小限度。
[0165]圖11(c)是表示圖11(a)、(b)所示的第一方式的把持部件6的變形例的剖面圖。如圖11(c)所示，在變形例中，將把持部件6的上部切割成盤狀，使得把持部件6的圓弧狀的上端6u成為薄壁。因此，把持部件6構(gòu)成為水滴(液體)不會(huì)積存在其上表面。圖11(c)所示的把持部件6的其他的結(jié)構(gòu)與圖11 (a)、(b)所示的把持部件相同。
[0166]圖12(a)、(b)是表示把持部件6的第二方式的圖，圖12(a)是把持部件6的立體圖，圖12(b)是圖12(a)的XI1-XII線剖面圖。如圖12(a)、(b)所示，把持部件6由半圓柱6a構(gòu)成。即，把持部件6是將圓柱對(duì)半切割而得到的形狀。把持部件6的平坦的端面?zhèn)裙潭ㄓ趭A緊機(jī)構(gòu)5的桿5a(由雙點(diǎn)劃線表示)。把持部件6以半圓柱6a的底面?zhèn)扰c機(jī)械手主體1(參照?qǐng)D1(a)、(b))的上表面相對(duì)的方式安裝于夾緊機(jī)構(gòu)5的桿5a。
[0167]在圖12(a)、(b)所示的把持部件6把持(卡緊)基板W時(shí)，半圓柱6a的外周面與基板W(由雙點(diǎn)劃線表示)的外周接觸而把持(卡緊)基板W。如圖12(b)所示，由于基板W的外周為R形狀(曲面形狀)，因此半圓柱6a的外周面與基板W的外周以點(diǎn)接觸或者接近點(diǎn)接觸的形態(tài)接觸。因此，能夠?qū)⒒錡與把持部件6摩擦?xí)r的顆粒的產(chǎn)生抑制在最小限度。
[0168]圖13(a)、(b)是表示把持部件6的第三方式的圖，圖13(a)是把持部件6的立體圖，圖13(b)是圖13(a)的XII1-XIII線剖面圖。如圖13(a)、(b)所示，把持部件6由半倒圓錐臺(tái)6b構(gòu)成。即，把持部件6是將倒圓錐臺(tái)對(duì)半切割而得到的形狀。把持部件6的平坦的端面?zhèn)裙潭ㄓ趭A緊機(jī)構(gòu)5的桿5a(由雙點(diǎn)劃線表示)。把持部件6以半倒圓錐臺(tái)6b的底面?zhèn)扰c機(jī)械手主體I (參照?qǐng)D1 (a) ,(b))的上表面相對(duì)的方式安裝于夾緊機(jī)構(gòu)5的桿5a。
[0169]在圖13(a)、(b)所示的把持部件6把持(卡緊)基板W時(shí)，半倒圓錐臺(tái)6b的外周面與基板W的外周接觸而把持(卡緊)基板W。由于半倒圓錐臺(tái)6b的逆圓錐面向基板W的上表面傾斜地突出，因此能夠防止在卡緊時(shí)基板W向上方浮起。如圖13(b)所示，由于基板W的外周為R形狀(曲面形狀)，因此半倒圓錐臺(tái)6b的外周面與基板W的外周以點(diǎn)接觸或者接近點(diǎn)接觸的形態(tài)接觸。因此，能夠?qū)⒒錡與把持部件6摩擦?xí)r的顆粒的產(chǎn)生抑制在最小限度。
[0170]圖3至圖13所示的接受部件3和把持部件6由導(dǎo)電性PEEK或者高密度聚乙烯等塑料構(gòu)成。這樣，由于使基板接觸部件具有導(dǎo)電性，因此能夠防止因帶電粒子對(duì)基板的附著而導(dǎo)致的污染。
[0171]圖14是表示使用具有本發(fā)明的基板輸送用機(jī)械手的基板輸送機(jī)構(gòu)(輸送機(jī)器人)，將基板依次輸送到多個(gè)處理部，并且進(jìn)行基板的處理的基板處理裝置的整體結(jié)構(gòu)的俯視圖。圖1至圖13所示的結(jié)構(gòu)的基板輸送用機(jī)械手能夠應(yīng)用于圖14和圖15所示的基板處理裝置所使用的所有的輸送機(jī)器人。如圖14所示，基板處理裝置具有大致矩形的外殼101，外殼101的內(nèi)部被隔壁101a、1lb劃分成裝載/卸載部102、研磨部103以及清洗部104。這些裝載/卸載部102、研磨部103以及清洗部104分別獨(dú)立地裝配，獨(dú)立地排氣。并且，基板處理裝置具有控制基板處理動(dòng)作的控制部105。
[0172]裝載/卸載部102具有載置有晶片盒的2個(gè)以上(在本實(shí)施方式中為4個(gè))的前裝載部120，所述晶片盒存儲(chǔ)多個(gè)晶片(基板)。這些前裝載部120與外殼101相鄰地配置，沿著基板處理裝置的寬度方向(與長(zhǎng)度方向垂直的方向)排列。能夠在前裝載部120搭載開盒、SMIF(Standard Manufacturing Interface:標(biāo)準(zhǔn)生產(chǎn)接口)耀、或者F0UP(Front OpeningUnified Pod:前開式聯(lián)合晶圓盒)。這里，SMIF、F0UP是通過在內(nèi)部收納晶片盒并由隔壁覆蓋而能夠保持與外部空間獨(dú)立的環(huán)境的密閉容器。
[0173]并且，在裝載/卸載部102沿著前裝載部120的排列鋪設(shè)行駛機(jī)構(gòu)121，在該行駛機(jī)構(gòu)121上設(shè)置有能夠沿著晶片盒的排列方向移動(dòng)的I臺(tái)輸送機(jī)器人(裝載器)122。輸送機(jī)器人122通過在行駛機(jī)構(gòu)121上移動(dòng)而能夠訪問搭載在前裝載部120上的晶片盒。各輸送機(jī)器人122具有上下2個(gè)機(jī)械手，上側(cè)的機(jī)械手在使處理后的晶片返回到晶片盒時(shí)使用，下側(cè)的機(jī)械手在從晶片盒取出處理前的晶片時(shí)使用，上下的機(jī)械手能夠分開使用。此外，輸送機(jī)器人122的下側(cè)的機(jī)械手構(gòu)成為能夠通過繞其軸心旋轉(zhuǎn)而使晶片反轉(zhuǎn)。
[0174]由于裝載/卸載部102是最需要保持清潔的狀態(tài)的區(qū)域，因此裝載/卸載部102的內(nèi)部始終維持在比基板處理裝置外部、研磨部103以及清洗部104中都高的壓力。由于研磨部103使用漿料作為研磨液，因此是最臟的區(qū)域。因此，在研磨部103的內(nèi)部形成負(fù)壓，其壓力被維持為比清洗部104的內(nèi)部壓力低。在裝載/卸載部102中設(shè)置有具有HEPA過濾器、ULPA過濾器或者化學(xué)過濾器等清潔空氣過濾器的過濾器風(fēng)扇單元(未圖示)，從該過濾器風(fēng)扇單元始終吹出將顆粒、有毒蒸汽、有毒氣體去除后的清潔空氣。
[0175]研磨部103是進(jìn)行晶片的研磨(平坦化)的區(qū)域，具有第I研磨單元103A、第2研磨單元103B、第3研磨單元103C、第4研磨單元103D。如圖14所示，這些第I研磨單元103A、第2研磨單元103B、第3研磨單元103C以及第4研磨單元103D沿著基板處理裝置的長(zhǎng)度方向排列。
[0176]如圖14所示，第I研磨單元103A具有:研磨工作臺(tái)130A，安裝有具有研磨面的研磨墊110;頂圈131A，用于保持晶片并且一邊將晶片按壓在研磨工作臺(tái)130A上的研磨墊110—邊進(jìn)行研磨;研磨液供給噴嘴132A，用于向研磨墊110供給研磨液或修整液(例如，純水)；修整器133A，用于進(jìn)行研磨墊110的研磨面的修整；以及噴霧器134A，使液體(例如純水)與氣體(例如氮?dú)?的混合流體或者液體(例如純水)呈霧狀而向研磨面噴射。
[0177]同樣，第2研磨單元103B具有:安裝有研磨墊110的研磨工作臺(tái)130B、頂圈131B、研磨液供給噴嘴1328、修整器1338以及噴霧器1348。第3研磨單元103(:具有:安裝有研磨墊110的研磨工作臺(tái)130C、頂圈131C、研磨液供給噴嘴132C、修整器133C以及噴霧器134C。第4研磨單元103D具有:安裝有研磨墊110的研磨工作臺(tái)130D、頂圈131D、研磨液供給噴嘴132D、修整器133D以及噴霧器134D。
[0178]圖15(a)是表示清洗部104的俯視圖，圖15(b)是表示清洗部104的側(cè)視圖。如圖15(a)和圖15(b)所示，清洗部104被劃分成第I清洗室190、第I輸送室191、第2清洗室192、第2輸送室193以及干燥室194。在第I清洗室190內(nèi)配置有沿著縱向排列的上側(cè)一次清洗模塊201A和下側(cè)一次清洗模塊201B。上側(cè)一次清洗模塊201A配置在下側(cè)一次清洗模塊201B的上方。同樣，在第2清洗室192內(nèi)配置有沿著縱向排列的上側(cè)二次清洗模塊202A和下側(cè)二次清洗模塊202B。上側(cè)二次清洗模塊202A配置在下側(cè)二次清洗模塊202B的上方。一次和二次清洗模塊201A、201B、202A、202B是使用清洗液來清洗晶片的清洗機(jī)。由于這些一次和二次清洗模塊20IA、20IB、202A、202B沿著垂直方向排列，因此得到占地面積較小這樣的優(yōu)點(diǎn)。
[0179]在上側(cè)二次清洗模塊202A與下側(cè)二次清洗模塊202B之間設(shè)置有晶片的臨時(shí)放置臺(tái)203。在干燥室194內(nèi)配置有沿著縱向排列的上側(cè)干燥模塊205A和下側(cè)干燥模塊205B。這些上側(cè)干燥模塊205A和下側(cè)干燥模塊205B相互隔離。在上側(cè)干燥模塊205A和下側(cè)干燥模塊205B的上部設(shè)置有分別將清潔的空氣供給到干燥模塊205A、205B內(nèi)的過濾器風(fēng)扇單元207、207。上側(cè)一次清洗模塊201A、下側(cè)一次清洗模塊201B、上側(cè)二次清洗模塊202A、下側(cè)二次清洗模塊202B、臨時(shí)放置臺(tái)203、上側(cè)干燥模塊205A以及下側(cè)干燥模塊205B經(jīng)由螺栓等固定于未圖示的框架。
[0180]在第I輸送室191中配置有能夠上下移動(dòng)的第I輸送機(jī)器人209，在第2輸送室193中配置有能夠上下移動(dòng)的第2輸送機(jī)器人210。第I輸送機(jī)器人209和第2輸送機(jī)器人210分別移動(dòng)自如地支承于在縱向上延伸的支承軸211、212。第I輸送機(jī)器人209和第2輸送機(jī)器人210在其內(nèi)部具有電動(dòng)機(jī)等驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，沿著支承軸211、212上下自由移動(dòng)。第I輸送機(jī)器人209與輸送機(jī)器人122同樣地具有上下兩級(jí)的機(jī)械手。如圖15(a)的虛線所示，第I輸送機(jī)器人209的下側(cè)的機(jī)械手配置在能夠訪問臨時(shí)放置臺(tái)180的位置。在第I輸送機(jī)器人209的下側(cè)的機(jī)械手訪問臨時(shí)放置臺(tái)180時(shí)，設(shè)置于隔壁1lb的閘門(未圖示)打開。
[0181]第I輸送機(jī)器人209以在臨時(shí)放置臺(tái)180、上側(cè)一次清洗模塊201A、下側(cè)一次清洗模塊201B、臨時(shí)放置臺(tái)203、上側(cè)二次清洗模塊202A、下側(cè)二次清洗模塊202B之間輸送晶片W的方式進(jìn)行動(dòng)作。在輸送清洗前的晶片(漿料附著的晶片)時(shí)，第I輸送機(jī)器人209使用下側(cè)的機(jī)械手，在輸送清洗后的晶片時(shí)，使用上側(cè)的機(jī)械手。第2輸送機(jī)器人210以在上側(cè)二次清洗模塊202A、下側(cè)二次清洗模塊202B、臨時(shí)放置臺(tái)203、上側(cè)干燥模塊205A、下側(cè)干燥模塊205B之間輸送晶片W的方式進(jìn)行動(dòng)作。第2輸送機(jī)器人210由于只輸送清洗后的晶片，因此只具有I個(gè)機(jī)械手。圖14所示的輸送機(jī)器人122使用其上側(cè)的機(jī)械手從上側(cè)干燥模塊205A或者下側(cè)干燥模塊205B取出晶片，使該晶片返回到晶片盒。在輸送機(jī)器人122的上側(cè)機(jī)械手訪問干燥模塊205A、205B時(shí)，設(shè)置于隔壁1I a的閘門(未圖示)打開。
[0182]由于清洗部104具有2臺(tái)一次清洗模塊和2臺(tái)二次清洗模塊，因此能夠構(gòu)成將多個(gè)晶片并列清洗的多個(gè)清洗線?！扒逑淳€”是指在清洗部104的內(nèi)部通過多個(gè)清洗模塊清洗一個(gè)晶片時(shí)的移動(dòng)路徑。例如，能夠按照第I輸送機(jī)器人209、上側(cè)一次清洗模塊201A、第I輸送機(jī)器人209、上側(cè)二次清洗模塊202A、第2輸送機(jī)器人210以及上側(cè)干燥模塊205A的順序輸送I個(gè)晶片(參照清洗線I)，與此并列地，按照第I輸送機(jī)器人209、下側(cè)一次清洗模塊201B、第I輸送機(jī)器人209、下側(cè)二次清洗模塊202B、第2輸送機(jī)器人210以及下側(cè)干燥模塊205B的順序輸送其他的晶片(參照清洗線2)。能夠通過這樣的2個(gè)并列的清洗線而大致同時(shí)地清洗及干燥多個(gè)(典型地為2個(gè))晶片。
[0183]以上對(duì)本發(fā)明的實(shí)施方式進(jìn)行了說明，但本發(fā)明不限于上述的實(shí)施方式，在其技術(shù)思想的范圍內(nèi)，當(dāng)然可以以各種不同的形態(tài)來實(shí)施。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種基板輸送用機(jī)械手，具有:平板狀的機(jī)械手主體;多個(gè)接受部件，該多個(gè)接受部件設(shè)置在機(jī)械手主體上，用于保持基板的邊緣；以及把持部件，該把持部件被設(shè)置為能夠相對(duì)于機(jī)械手主體移動(dòng)，把持基板的邊緣，該基板輸送用機(jī)械手構(gòu)成為通過致動(dòng)器使所述把持部件移動(dòng)，利用所述接受部件和所述把持部件夾持并固定基板，該基板輸送用機(jī)械手的特征在于， 所述多個(gè)接受部件具有:平板狀的支承部，該支承部是安裝在所述機(jī)械手主體上的部分;基板外周保持部，該基板外周保持部是由支承部支承的部分，保持基板的外周；以及基板下表面保持部，該基板下表面保持部是由支承部支承的部分，保持基板的下表面， 所述基板外周保持部具有從所述支承部豎立設(shè)置且與基板的外周接觸而保持基板的部分， 所述基板下表面保持部具有從所保持的基板的外周側(cè)朝向內(nèi)側(cè)傾斜的部分， 所述基板外周保持部與所述基板下表面保持部被間隙或者槽隔離。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板輸送用機(jī)械手，其特征在于， 在所述基板外周保持部中，與基板的外周接觸而保持基板的部分由沿著基板的外周的圓弧面構(gòu)成。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板輸送用機(jī)械手，其特征在于， 在所述基板外周保持部中，與基板的外周接觸而保持基板的部分由具有與基板的外周接觸的棱線的多棱柱或者具有曲面的柱狀體構(gòu)成。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板輸送用機(jī)械手，其特征在于， 所述基板外周保持部隔著所述間隙或者槽而設(shè)置有多個(gè)。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板輸送用機(jī)械手，其特征在于， 所述基板下表面保持部的所述傾斜的部分由傾斜面構(gòu)成。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板輸送用機(jī)械手，其特征在于， 所述基板下表面保持部的所述傾斜的部分由具有與基板的下表面接觸的棱線的多棱柱或者具有曲面的柱狀體構(gòu)成。7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板輸送用機(jī)械手，其特征在于， 所述基板外周保持部的上部被切割成上端為薄壁的邊緣狀。8.一種基板輸送用機(jī)械手，具有:平板狀的機(jī)械手主體;多個(gè)接受部件，該多個(gè)接受部件設(shè)置在機(jī)械手主體上，用于保持基板的邊緣；以及把持部件，該把持部件被設(shè)置為能夠相對(duì)于機(jī)械手主體移動(dòng)，把持基板的邊緣，該基板輸送用機(jī)械手構(gòu)成為通過致動(dòng)器使所述把持部件移動(dòng)，利用所述接受部件和所述把持部件夾持并固定基板，該基板輸送用機(jī)械手的特征在于， 所述多個(gè)接受部件具有:平板狀的支承部，該支承部是安裝在所述機(jī)械手主體上的部分;基板外周保持部，該基板外周保持部是由支承部支承的部分，保持基板的外周；以及基板下表面保持部，該基板下表面保持部是由支承部支承的部分，保持基板的下表面， 所述把持部件具有與基板的外周接觸而把持基板的部分，把持所述基板的部分由具有曲面的柱狀體構(gòu)成。9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的基板輸送用機(jī)械手，其特征在于， 所述具有曲面的柱狀體由圓柱的至少一部分或者倒圓錐臺(tái)的至少一部分構(gòu)成。10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的基板輸送用機(jī)械手，其特征在于， 所述具有曲面的柱狀體是將位于下方側(cè)的由圓柱的至少一部分構(gòu)成的柱狀體和位于上方側(cè)的由倒圓錐臺(tái)的至少一部分構(gòu)成的柱狀體一體化而得到的。11.根據(jù)權(quán)利要求8所述的基板輸送用機(jī)械手，其特征在于， 所述把持部件的上部被切割成上端為薄壁的邊緣狀。12.一種基板輸送用機(jī)械手，具有:機(jī)械手主體;接受部件，該接受部件設(shè)置于機(jī)械手主體，用于保持基板的邊緣；以及把持部件，該把持部件被設(shè)置為能夠相對(duì)于機(jī)械手主體移動(dòng)，把持基板的邊緣，該基板輸送用機(jī)械手構(gòu)成為通過致動(dòng)器使所述把持部件移動(dòng)，利用所述接受部件和所述把持部件夾持并固定基板，該基板輸送用機(jī)械手的特征在于， 所述接受部件具有:與基板的外周接觸而保持基板的外周的基板外周保持面、以及保持基板的下表面的基板下表面保持面， 所述基板外周保持面與所述基板下表面保持面被隔離。13.一種基板處理裝置，其特征在于，具有: 基板輸送機(jī)構(gòu)，該基板輸送機(jī)構(gòu)具有權(quán)利要求1至12中的任意一項(xiàng)所述的基板輸送用機(jī)械手；以及 處理部，該處理部對(duì)由所述基板輸送機(jī)構(gòu)輸送來的基板進(jìn)行處理。
【文檔編號(hào)】B25J15/00GK105966916SQ201610132811
【公開日】2016年9月28日
【申請(qǐng)日】2016年3月9日
【發(fā)明人】丸山徹, 本島靖之, 江藤洋平
【申請(qǐng)人】株式會(huì)社荏原制作所