貼標(biāo)載帶盤的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種貼標(biāo)載帶盤，其技術(shù)方案要點(diǎn)是一種貼標(biāo)載帶盤，包括盤體，所述盤體包括盤軸和固定在盤軸兩端的盤面，所述盤面上覆蓋有磨砂面，所述磨砂面上設(shè)置有供貼標(biāo)的光滑面，所述光滑面設(shè)置在盤面向外的一側(cè)。磨砂面起到了增強(qiáng)手感與防摩擦的效果，但是會(huì)產(chǎn)生標(biāo)簽粘附的問題，通過在磨砂面上設(shè)置有光滑面，光滑面起到了減少標(biāo)簽與磨砂面之間的接觸面積，減少了二者之間的摩擦力，更加方便標(biāo)簽的撕取，方便載帶盤的回收。
【專利說明】
貼標(biāo)載帶盤
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實(shí)用新型涉及包裝領(lǐng)域，更具體地說，它涉及一種貼標(biāo)載帶盤。
【背景技術(shù)】
[0002]載帶是指一種應(yīng)用于電子包裝領(lǐng)域的帶狀產(chǎn)品，它具有特定的厚度，而且在其長度方向上等距分布著用于承放電子元器件的孔穴，載帶主要應(yīng)用于電子元器件貼裝工業(yè)，它配合蓋帶使用，將電阻、電容和二極管等電子元器件承載收納在載帶的口袋中，并通過載帶上方的封帶進(jìn)行孔穴的密封。
[0003]在載帶的封裝過程中，封裝好的載帶一般通過卷繞機(jī)構(gòu)被固定在載帶盤上，載帶盤是上世紀(jì)90年代興起的一種用于固定載帶的收卷盤，現(xiàn)有技術(shù)中，申請(qǐng)?zhí)枮椤?01520096313.1”的實(shí)用新型專利公開了這種載帶盤，其具有盤軸和設(shè)置在盤軸兩端的正盤面和反盤面，同時(shí)盤軸的周向設(shè)置有用于固定載帶的銷槽。在該種載帶盤的使用過程中，一般需要貼上關(guān)于載帶盤內(nèi)部載帶上安裝的電子元件的信息，但是在載帶盤回收的過程中，一般的標(biāo)簽特別難以撕除，特別是磨砂面的載帶盤，標(biāo)簽會(huì)殘留在載帶盤的表面，影響載帶盤的回收，這些標(biāo)簽需要通過專用的清理劑進(jìn)行去除，這些清理劑會(huì)損壞塑料制成的載帶盤的質(zhì)量，使其脆裂。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0004]針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)存在的不足，本實(shí)用新型的目的在于提供一種方便的標(biāo)簽撕除的貼標(biāo)載帶盤。
[0005]為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供了如下技術(shù)方案:一種貼標(biāo)載帶盤，包括盤體，所述盤體包括盤軸和固定在盤軸兩端的盤面，所述盤面上覆蓋有磨砂面，所述磨砂面上設(shè)置有供貼標(biāo)的光滑面，所述光滑面設(shè)置在盤面向外的一側(cè)。
[0006]作為優(yōu)選，所述光滑面上設(shè)置有若干個(gè)凸塊，每一所述凸塊設(shè)置在同一水平線上。
[0007]進(jìn)一步地，通過設(shè)置有凸塊，凸塊起到了兩個(gè)效果，效果一為使標(biāo)簽在凸塊的位置無法與光滑面完整貼附，方便之后標(biāo)簽的撕下；效果二為使標(biāo)簽的端部被凸塊相卡住，從而使標(biāo)簽貼合的更加整齊，防止標(biāo)簽的歪斜。
[0008]作為優(yōu)選，所述凸塊呈長方體，所述凸塊的厚度為0.1-lmm。
[0009]進(jìn)一步地，通過長方體的凸塊，標(biāo)簽?zāi)軌蚋玫呐c凸塊相貼合，當(dāng)然凸塊也可以采取其他形狀，同時(shí)凸塊的厚度大于Imm時(shí)候，將會(huì)影響標(biāo)簽的平整程度，如果標(biāo)簽的厚度小于0.1mm，將會(huì)導(dǎo)致對(duì)齊和貼附的效果變差。
[0010]作為優(yōu)選，所述盤面上設(shè)置有若干個(gè)可視孔，相鄰所述可視孔之間形成有放置區(qū)，所述光滑面設(shè)置在放置區(qū)內(nèi)。
[0011]進(jìn)一步地，通過設(shè)置有放置區(qū)，放置區(qū)起到了增強(qiáng)盤體的結(jié)構(gòu)強(qiáng)度的作用，同時(shí)通過將光滑面設(shè)置在放置區(qū)內(nèi)，起到了增加標(biāo)簽可貼的光滑面的面積的作用。
[0012]作為優(yōu)選，所述光滑面的橫截面形狀呈矩形。
[0013]進(jìn)一步地，光滑面的形狀可以設(shè)置成圓形、三角形等等的形狀，在本實(shí)用新型中優(yōu)選為設(shè)置成矩形，通過設(shè)置呈矩形的光滑面，標(biāo)簽的形狀也為矩形，其能更好的與光滑面進(jìn)行貼合，同時(shí)對(duì)準(zhǔn)的整齊程度更好。
[0014]作為優(yōu)選，所述凸塊的長邊與光滑面的長邊相平行。
[0015]進(jìn)一步地，即起到了光滑面與凸塊所限制的標(biāo)簽平行，方便標(biāo)簽與光滑面之間的貼合。
[0016]作為優(yōu)選，所述光滑面上覆蓋有納米自潔涂層。
[0017]進(jìn)一步地，通過在光滑面上覆蓋有納米自潔涂層，納米自潔涂層采用申請(qǐng)?zhí)枮椤?00810142973.3”的實(shí)用新型專利中公開的納米自潔涂層，納米自潔涂層的表面具有較高的活性，標(biāo)簽后的粘附部位不容易在設(shè)置有納米自潔涂層的光滑面上產(chǎn)生殘留。
[0018]作為優(yōu)選，所述盤體由自潔高分子材料制成。
[0019]進(jìn)一步地，通過將盤體由自潔高分子材料制成，該種自潔高分子材料使用申請(qǐng)?zhí)枮椤?01310364146.X”的發(fā)明專利中公開的材料，從而在生產(chǎn)過程中，光滑面直接具有自潔的效果，不會(huì)與標(biāo)簽后的粘附部位產(chǎn)生粘附，起到了很好的防粘附效果；同時(shí)直接生產(chǎn)即可，減少了制造自潔面的工序與工藝難度。
[0020]通過采用上述技術(shù)方案，磨砂面起到了增強(qiáng)手感與防摩擦的效果，但是會(huì)產(chǎn)生標(biāo)簽粘附的問題，通過在磨砂面上設(shè)置有光滑面，光滑面起到了減少標(biāo)簽與磨砂面之間的接觸面積，減少了二者之間的摩擦力，更加方便標(biāo)簽的撕取，方便載帶盤的回收。
【附圖說明】
[0021]圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)不意圖一；
[0022]圖2為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)不意圖一.；
[0023]圖3為圖2所示A部放大示意圖。
[0024]圖中:1、盤面;11、磨砂面;2、光滑面;3、凸塊;4、可視孔;5、放置區(qū)。
【具體實(shí)施方式】
[0025]參照?qǐng)D1至圖3對(duì)本實(shí)用新型的實(shí)施例做進(jìn)一步說明。
[0026]如圖1所示，一種貼標(biāo)載帶盤，包括盤體，盤體包括盤軸和固定在盤軸兩端的盤面I，盤面I上覆蓋有磨砂面11，磨砂面11上設(shè)置有供貼標(biāo)的光滑面2，光滑面2設(shè)置在盤面I向外的一側(cè)，磨砂面11起到了增強(qiáng)手感與防摩擦的效果，但是會(huì)產(chǎn)生標(biāo)簽粘附的問題，通過在磨砂面11上設(shè)置有光滑面2，光滑面2起到了減少標(biāo)簽與磨砂面11之間的接觸面積，減少了二者之間的摩擦力，更加方便標(biāo)簽的撕取，方便載帶盤的回收，光滑面2上設(shè)置有若干個(gè)凸塊3，每一凸塊3設(shè)置在同一水平線上，通過設(shè)置有凸塊3，凸塊3起到了兩個(gè)效果，效果一為使標(biāo)簽在凸塊3的位置無法與光滑面2完整貼附，方便之后標(biāo)簽的撕下；效果二為使標(biāo)簽的端部被凸塊3相卡住，從而使標(biāo)簽貼合的更加整齊，防止標(biāo)簽的歪斜。
[0027]如圖2所示，凸塊3呈長方體，凸塊3的厚度為0.1-lmm，通過長方體的凸塊3，標(biāo)簽?zāi)軌蚋玫呐c凸塊3相貼合，當(dāng)然凸塊3也可以采取其他形狀，同時(shí)凸塊3的厚度大于Imm時(shí)候，將會(huì)影響標(biāo)簽的平整程度，如果標(biāo)簽的厚度小于0.1mm，將會(huì)導(dǎo)致對(duì)齊和貼附的效果變差；盤面I上設(shè)置有若干個(gè)可視孔4，相鄰可視孔4之間形成有放置區(qū)5，光滑面2設(shè)置在放置區(qū)5內(nèi)，通過設(shè)置有放置區(qū)5，放置區(qū)5起到了增強(qiáng)盤體的結(jié)構(gòu)強(qiáng)度的作用，同時(shí)通過將光滑面2設(shè)置在放置區(qū)5內(nèi)，起到了增加標(biāo)簽可貼的光滑面2的面積的作用。
[0028]如圖3所示，光滑面2的橫截面形狀呈矩形，光滑面2的形狀可以設(shè)置成圓形、三角形等等的形狀，在本實(shí)用新型中優(yōu)選為設(shè)置成矩形，通過設(shè)置呈矩形的光滑面2，標(biāo)簽的形狀也為矩形，其能更好的與光滑面2進(jìn)行貼合，同時(shí)對(duì)準(zhǔn)的整齊程度更好。
[0029]如圖3所示，凸塊3的長邊與光滑面2的長邊相平行，即起到了光滑面2與凸塊3所限制的標(biāo)簽平行，方便標(biāo)簽與光滑面2之間的貼合，所述光滑面2上覆蓋有納米自潔涂層，通過在光滑面2上覆蓋有納米自潔涂層，納米自潔涂層采用申請(qǐng)?zhí)枮椤?00810142973.3”的實(shí)用新型專利中公開的納米自潔涂層，納米自潔涂層的表面具有較高的活性，標(biāo)簽后的粘附部位不容易在設(shè)置有納米自潔涂層的光滑面2上產(chǎn)生殘留;盤體由自潔高分子材料制成，通過將盤體由自潔高分子材料制成，該種自潔高分子材料使用申請(qǐng)?zhí)枮椤?01310364146.X”的發(fā)明專利中公開的材料，從而在生產(chǎn)過程中，光滑面2直接具有自潔的效果，不會(huì)與標(biāo)簽后的粘附部位產(chǎn)生粘附，起到了很好的防粘附效果；同時(shí)直接生產(chǎn)即可，減少了制造自潔面的工序與工藝難度。
[0030]以上所述僅是本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施方式，本實(shí)用新型的保護(hù)范圍并不僅局限于上述實(shí)施例，凡屬于本實(shí)用新型思路下的技術(shù)方案均屬于本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。應(yīng)當(dāng)指出，對(duì)于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本實(shí)用新型原理前提下的若干改進(jìn)和潤飾，這些改進(jìn)和潤飾也應(yīng)視為本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種貼標(biāo)載帶盤，包括盤體，所述盤體包括盤軸和固定在盤軸兩端的盤面，所述盤面上覆蓋有磨砂面，其特征在于:所述磨砂面上設(shè)置有供貼標(biāo)的光滑面，所述光滑面設(shè)置在盤面向外的一側(cè)。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的貼標(biāo)載帶盤，其特征在于:所述光滑面上設(shè)置有若干個(gè)凸塊，每一所述凸塊設(shè)置在同一水平線上。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的貼標(biāo)載帶盤，其特征在于:所述凸塊呈長方體，所述凸塊的厚度為0.1-lmm。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的貼標(biāo)載帶盤，其特征在于:所述盤面上設(shè)置有若干個(gè)可視孔，相鄰所述可視孔之間形成有放置區(qū)，所述光滑面設(shè)置在放置區(qū)內(nèi)。5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的載帶盤，其特征在于:所述光滑面的橫截面形狀呈矩形。6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的貼標(biāo)載帶盤，其特征在于:所述凸塊的長邊與光滑面的長邊相平行。7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的貼標(biāo)載帶盤，其特征在于:所述光滑面上覆蓋有納米自潔涂層。8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的貼標(biāo)載帶盤，其特征在于:所述盤體由自潔高分子材料制成。
【文檔編號(hào)】B65H75/18GK205472017SQ201620011864
【公開日】2016年8月17日
【申請(qǐng)日】2016年1月7日
【發(fā)明人】陳耀堂
【申請(qǐng)人】蘇州鼎優(yōu)塑膠制品有限公司