專利名稱：用于防止胎面部的滲出物的電子線照射裝置的制作方法
技術(shù)領域：
本發(fā)明涉及一種用于防止胎坯(Green Tyre)的胎面部的滲出物(Spew)的電子線照射裝置，在輪胎硫化作業(yè)時為了防止胎坯的胎面部的滲出物，而在硫化工序前向胎坯的 胎面部照射電子線而進行局部硫化。
背景技術(shù)：
在制造輪胎時，一般來說在輪胎制造領域如下實施硫化作業(yè)將在輪胎成型工序 中完成的胎坯放入到硫化模具中，并在從內(nèi)/外側(cè)施加熱和壓力的狀態(tài)下經(jīng)過預定時間， 從而使得在輪胎橡膠的配合過程中混入的硫化劑和橡膠分子反應，以獲得輪胎橡膠的穩(wěn)定 的固有性質(zhì)。此時，預先設計的各部分的橡膠和加強材料等在模具內(nèi)受到熱和壓力，而確定一 定的厚度和位置。特別是，胎面部的滲出物(Spew)在以下過程中產(chǎn)生在胎坯的成型工序中根據(jù)生 產(chǎn)計劃被生產(chǎn)為半成品的大小(特別是胎面寬度)不同，因此產(chǎn)生胎面橡膠的質(zhì)量偏差，在 關閉硫化模具以在胎坯的胎面部形成圖案的過程中產(chǎn)生了上述胎面部的滲出物。即，硫化模具被關閉，胎坯的胎面橡膠由于橡膠的流動特性(粘性)而充滿模具的 空的空間，此時，若胎面部橡膠的質(zhì)量較多則產(chǎn)生滲出物。此外，若胎面部橡膠的質(zhì)量較多，則會向胎側(cè)(Sidewall)部流入橡膠而混合，從 而存在難以維持胎側(cè)部的固有特性的問題。另一方面，以往作為用于改善這種問題的措施，將胎面部橡膠的質(zhì)量偏差最小化， 而使得滲出物的產(chǎn)生及向胎側(cè)部的流入最小化，但由于輪胎的規(guī)格及圖案的多樣化，對于問 題的解決來說存在界限，現(xiàn)狀需要開發(fā)能夠防止產(chǎn)生胎面部的滲出物及流入胎側(cè)部的技術(shù)。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明是對應上述要求而提出的發(fā)明，其目的在于提供一種電子線照射裝 置，其為了防止胎面部的滲出物，并防止因在胎坯的成型工序中根據(jù)生產(chǎn)計劃被生產(chǎn)成胎 面寬度不同而產(chǎn)生胎面橡膠的質(zhì)量偏差，從而導致胎面部的滲出物流入到胎側(cè)部，該電子 線照射裝置在胎坯胎面的硫化前向該胎面照射電子線，通過局部硫化而防止胎面產(chǎn)生滲出 物及滲出物流入到胎側(cè)部。為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明構(gòu)成為包括上下膨脹輪圈，以一定壓力固定維持規(guī)格 多樣的胎坯并使該胎坯旋轉(zhuǎn)；電子線照射器，以一定間隔與配置于上述上下膨脹輪圈上的 胎坯的胎面部分離設置；以及電子線屏蔽膜，具有配置于胎坯和電子線照射器之間的電子 線貫通部，使得在上述胎坯的胎面部以外的部位不產(chǎn)生電子線照射。


圖1是本發(fā)明的用于防止胎面部的滲出物的電子線照射裝置的構(gòu)成圖。圖2是表示胎面部的與電子線照射量對應的300%模量的圖表。
具體實施例方式以下根據(jù)附圖詳細說明本發(fā)明。圖1是表示本發(fā)明的用于防止胎坯的胎面部的滲出物的電子線照射裝置的全體 構(gòu)成圖。本發(fā)明構(gòu)成為包括上下膨脹輪圈2a、2b，以一定壓力固定維持規(guī)格多樣的胎坯1并使之旋轉(zhuǎn)；電子線照射器3，以一定間隔與配置于上述上下膨脹輪圈2a、2b上的胎坯1的 胎面部Ia分離設置；以及電子線屏蔽膜5，其具有配置于胎坯1和電子線照射器3之間的 電子線貫通部4，以使得在上述胎坯1的胎面部Ia以外的部位不產(chǎn)生電子線照射。具有這種結(jié)構(gòu)的本發(fā)明，通過上述上下膨脹輪圈2a、2b將胎坯1水平配置并維持 一定壓力。與該胎坯1的胎面部Ia維持一定間隔而固定設置的電子線照射器3，當胎坯1 和上述上下膨脹輪圈2a、2b在箭頭A方向旋轉(zhuǎn)時，可以向胎坯1的胎面部Ia均勻地照射一 定時間的電子線。即，胎坯1在成型工序中根據(jù)生產(chǎn)計劃而以多樣的規(guī)格被生產(chǎn)，因此為了 向所希望的胎面部Ia照射電子線，可以使上述電子線屏蔽膜5在圖中實線和假想線狀態(tài)移 動，而調(diào)節(jié)電子線貫通部4的長度。在胎坯1向箭頭B方向移動而到達了預定位置時，由公 知的傳感器檢測該情況，上下調(diào)節(jié)電子線屏蔽膜5而調(diào)節(jié)電子線貫通部4的長度，從而使得 照射的電子線不照射胎坯1的其他部位而僅照射胎面部la。這樣通過電子線照射器3向胎坯1的胎面部Ia照射電子線而產(chǎn)生局部硫化，可以 在胎坯1的胎面部Ia的質(zhì)量偏差不大的范圍內(nèi)使得硫化模具中的滲出物產(chǎn)生最小化，同時 不會向胎側(cè)部流入滲出物。另一方面，參見圖2的表示胎坯1的胎面部Ia的與電子線照射量對應的300%模 量(Modulus)的圖表。上述圖表表示通過胎面部Ia的電子線照射得到的半成品的300%模 量比較結(jié)果，電子線照射量越多，300%模量也越高。即，隨著電子線照射量增加，局部硫化， 彈性增加，同時橡膠的粘性減少。上述用于防止胎坯的胎面部的滲出物的電子線照射裝置，通過在硫化工序前向胎 坯的胎面部照射電子線而進行局部硫化，從而具有在硫化模具中在硫化時可以使胎面的滲 出物最小化并防止?jié)B出物向胎側(cè)部流入的效果。
權(quán)利要求
一種用于防止胎坯的胎面部的滲出物的電子線照射裝置，其特征在于，包括上下膨脹輪圈(2a、2b)，以一定壓力固定維持規(guī)格多樣的胎坯(1)并使該胎坯旋轉(zhuǎn)；電子線照射器(3)，以一定間隔與配置于上述上下膨脹輪圈(2a、2b)上的胎坯(1)的胎面部(1a)分離設置；以及電子線屏蔽膜(5)，具有配置于胎坯(1)和電子線照射器(3)之間的電子線貫通部(4)，使得在上述胎坯(1)的胎面部(1a)以外的部位不產(chǎn)生電子線照射。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于防止胎坯的胎面部的滲出物的電子線照射裝置，其特征 在于，上述電子線屏蔽膜(5)的電子線貫通部(4)的長度通過該電子線屏蔽膜(5)的上下 移動來調(diào)節(jié)。
全文摘要
本發(fā)明提供一種用于防止胎坯的胎面部的滲出物(Spew)的電子線照射裝置，在輪胎硫化作業(yè)時為了防止胎坯的胎面部的滲出物，而在硫化工序前向胎坯的胎面部照射電子線以進行局部硫化。
文檔編號B29L30/00GK101844382SQ20091024989
公開日2010年9月29日 申請日期2009年11月30日 優(yōu)先權(quán)日2008年12月1日
發(fā)明者金武泳, 鞠正鎬 申請人:韓國輪胎株式會社