專利名稱：防反射膜及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及具有特定的表面形狀和物性的防反射膜，具體而言，涉及防止光的反 射、并且光的透射得到了改善的防反射膜，更具體而言，涉及可對(duì)顯示器等賦予良好的可視 性的防反射膜、及其制造方法。
背景技術(shù)：
液晶顯示器(IXD)、等離子顯示器(PDP)等平板顯示器(以下，簡(jiǎn)稱為“FPD”)等 為了確保其可視性而必須安裝防反射膜。作為該防反射膜，一直使用的有(1)由通常被稱 為干法的方法得到的防反射膜，即，通過(guò)氣相工藝制作多層介質(zhì)膜，利用光學(xué)干涉效果實(shí)現(xiàn) 低反射率的防反射膜；(2)由通常被稱為濕法的方法得到的防反射膜，即，在基板薄膜上包 覆有低折射率材料的防反射膜等；另外，作為在原理上與上述方法完全不同的技術(shù)，還已知(3)通過(guò)對(duì)表面賦予微細(xì)結(jié)構(gòu)，從而表現(xiàn)出低反射率的技術(shù)(專利文獻(xiàn)1 專利文獻(xiàn)10)。對(duì)于上述(3)的通過(guò)賦予微細(xì)結(jié)構(gòu)而提高防反射膜的性能的方法進(jìn)行了多種研 究，例如有以下方法等將鋁通過(guò)陽(yáng)極氧化而形成陽(yáng)極氧化被膜，并對(duì)該陽(yáng)極氧化被膜進(jìn) 行蝕刻，將上述陽(yáng)極氧化被膜的形成與蝕刻組合而制成模，并將其形狀轉(zhuǎn)印到防反射膜上 (專利文獻(xiàn)11 專利文獻(xiàn)13)。然而，對(duì)于這些防反射膜來(lái)說(shuō)，不僅光的防反射性能不充分，尤其是光的透射性能 也不充分，期待進(jìn)一步的提高?，F(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)1 日本特開(kāi)昭50-070040號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)2 日本特開(kāi)平9-193332號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)3 日本特開(kāi)2003-162205號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)4 日本特開(kāi)2003-215314號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)5 日本特開(kāi)2003-240903號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)6 日本特開(kāi)2004-004515號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)7 日本特開(kāi)2004-059820號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)8 日本特開(kāi)2004-059822號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)9 日本特開(kāi)2005-010231號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)10 日本特開(kāi)2005-092099號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)11 日本特開(kāi)2003-043203號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)12 日本特開(kāi)2005-156695號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)13 日本特開(kāi)2007-086^3號(hào)公報(bào)

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是鑒于上述背景技術(shù)而實(shí)施的，其課題在于發(fā)現(xiàn)具有優(yōu)異的光的防反射性3能或優(yōu)異的光的透射性能的防反射膜所要求的表面形狀和物性，并提供具有該特定的表面 形狀和物性的防反射膜以及該防反射膜的制造方法。本發(fā)明人為了解決上述課題而進(jìn)行了深入研究，結(jié)果發(fā)現(xiàn)，在對(duì)鋁實(shí)施軋制加工 時(shí)所產(chǎn)生的加工應(yīng)力、或基于加工自身的表面的不均勻性、制造過(guò)程中來(lái)自環(huán)境的影響，例 如加工時(shí)混入的灰塵或污染物質(zhì)所引起的表面的不均勻性等，會(huì)導(dǎo)致經(jīng)利用該鋁材料得到 的模轉(zhuǎn)印所獲得的防反射膜的性能的降低。并且，為了解決該課題，發(fā)現(xiàn)通過(guò)預(yù)先對(duì)鋁材料 的表面進(jìn)行精加工，可以獲得具有所期望的性能的防反射膜，尤其是具有優(yōu)異的透射性的 防反射膜，由此完成了本發(fā)明。S卩，本發(fā)明提供一種防反射膜，其特征在于，其通過(guò)以下方式獲得利用機(jī)械研磨、 化學(xué)研磨和/或電解研磨對(duì)鋁材料的表面進(jìn)行加工后，通過(guò)陽(yáng)極氧化與陽(yáng)極氧化被膜的蝕 刻的組合制作在該鋁材料的表面具有錐形細(xì)孔的模，并將該模轉(zhuǎn)印到防反射膜形成材料 上，由此獲得防反射膜；該獲得的防反射膜表面具有平均高度IOOnm以上且IOOOnm以下的 凸部或平均深度IOOnm以上且IOOOnm以下的凹部，該凸部或凹部至少在某一方向以平均周 期50nm以上且400nm以下存在，且所述防反射膜的霧度為15%以下。另外，本發(fā)明提供一種具有錐形細(xì)孔的模，其特征在于，其為具有上述防反射膜 形成用的錐形細(xì)孔的模，其通過(guò)陽(yáng)極氧化與蝕刻的組合而制作，所述陽(yáng)極氧化在草酸濃度 0. OlM以上且0. 5M以下、施加電壓20V以上且120V以下、并且液溫0°C以上且50°C以下進(jìn) 行，所述蝕刻在磷酸濃度1重量％以上且20重量％以下、液溫30°C以上且90°C以下進(jìn)行， 并且1次的處理時(shí)間為1分鐘以上且60分鐘以下。根據(jù)本發(fā)明，能夠提供光的防反射性能、光的透射性能等優(yōu)異的防反射膜。具體而 言，例如能夠提供FPD等的表面層等的防反射膜、透射性改良膜、表面保護(hù)膜等，特別是能 夠提供光的透射性能優(yōu)異的防反射膜。


圖1所示為本發(fā)明的防反射膜的制造方法的一個(gè)例子的示意圖。圖2所示為用于說(shuō)明本發(fā)明的防反射膜的制造方法的連續(xù)制造裝置的一個(gè)例子 的示意圖。
具體實(shí)施例方式[模的制作]本發(fā)明的防反射膜通過(guò)以下方式獲得利用機(jī)械研磨、化學(xué)研磨和/或電解研磨 對(duì)鋁材料的表面進(jìn)行加工后，通過(guò)陽(yáng)極氧化與陽(yáng)極氧化被膜的蝕刻的組合制作在該鋁材料 的表面具有錐形細(xì)孔的模，并將該模轉(zhuǎn)印到防反射膜形成材料上，由此獲得防反射膜。這里，本發(fā)明中的鋁材料只要是主要成分為鋁的材料即可，可以是純鋁(1000 系)、鋁合金中任一種。本發(fā)明中的純鋁是指純度99. 00%以上的鋁，優(yōu)選為純度99. 50% 以上，更優(yōu)選為純度99. 85%以上。對(duì)鋁合金沒(méi)有特別限定，例如，可列舉出Al-Mn系合金 (3000系)、Al-Mg系合金(5000系)、Al-Mg-Si系合金(6000系)等。其中，純鋁(1000 系)；由于Mg的添加量較少，因而從加工性、耐腐蝕性優(yōu)異的觀點(diǎn)出發(fā)，從可獲得良好的“錐 形細(xì)孔”的觀點(diǎn)出發(fā)，鋁合金5005;鋁合金5005的改良合金(例如，日本輕金屬制58D5)等是優(yōu)選的。對(duì)本發(fā)明中的鋁材料的種類沒(méi)有特別限定，由于本發(fā)明中對(duì)鋁材料進(jìn)行后述的研 磨，因而直接使用工業(yè)上軋制的鋁板、擠出管、拉制管等可降低成本或簡(jiǎn)化工序，因此是優(yōu) 選的。作為上述對(duì)鋁材料的表面進(jìn)行研磨的方法，可以是機(jī)械研磨、化學(xué)研磨、電解研磨 中任一種，或者也可以將它們?nèi)我饨M合。通過(guò)研磨鋁材料的表面，鋁材料的表面變得均勻， 使用對(duì)其進(jìn)行加工而得的表面作為模所獲得的防反射膜的霧度等光的透射性能顯著提高。 尤其是，通過(guò)該研磨才獲得了霧度為15%以下的防反射膜。對(duì)于通過(guò)研磨而得到的鋁材料的表面的Ra、Ry，只要最終能夠使防反射膜的霧度 為15%以下則沒(méi)有特別限定，通過(guò)研磨而得到的鋁材料的表面的Ra優(yōu)選為0. Ιμπι以下， 更優(yōu)選為0. 03 μ m以下，尤其優(yōu)選為0. 02 μ m以下。另外，Ry優(yōu)選為1 μ m以下，更優(yōu)選為 0. 5μπι以下，尤其優(yōu)選為0. 35μπι以下。這里，Ra和Ry為根據(jù)JIS Β0601(1994)而求得的 值，Ra為“算術(shù)平均粗糙度”，Ry為“最大高度”。在這樣的Ra和/或Ry的情況下，霧度容 易達(dá)到15%以下，并且容易實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的上述效果。從進(jìn)一步提高所得到的防反射膜的霧度等光的透射性能等觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選為僅電 解研磨；僅機(jī)械研磨；電解研磨與化學(xué)研磨的組合；機(jī)械研磨與化學(xué)研磨的組合；電解研磨 與機(jī)械研磨的組合；電解研磨、機(jī)械研磨與化學(xué)研磨的組合，其中，更優(yōu)選為僅電解研磨或 包含電解研磨在內(nèi)的組合。進(jìn)而，其中，從上述效果較大、而且處理容易的觀點(diǎn)出發(fā)，尤其優(yōu) 選為在機(jī)械研磨后進(jìn)行電解研磨的方法。以下，對(duì)各研磨方法進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。<1-1.機(jī)械研磨>對(duì)于機(jī)械研磨沒(méi)有特別限定，根據(jù)常規(guī)方法進(jìn)行即可，具體而言，例如，可列舉出 拋光輪研磨法、砂輪機(jī)-拋光輪研磨法、雕銑機(jī)(router)研磨法、帶式砂磨機(jī)研磨法、刷磨 法、鋼絲棉研磨法、噴砂器研磨法、液體珩磨研磨法、加模研磨法、車床研磨法、滾磨法、拋光 (lapping)研磨法等，這些方法可以單獨(dú)使用，也可以任意組合使用。其中，從能夠有效加工 該用途的鋁材表面、且研磨面優(yōu)異、其結(jié)果可提供霧度較小的防反射膜的觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選為 拋光輪研磨法、車床研磨法、拋光研磨法且拋光輪研磨法等，尤其優(yōu)選為單面平面拋光輪、 球拋光輪(ball buff)、斜裁布拋光輪(bias buff)等的拋光輪研磨法；精密車床研磨法。對(duì)所使用的研磨材料沒(méi)有特別限定，只要使用通常所使用的研磨材料即可。具體 而言，例如，可以根據(jù)所使用的研磨法或目標(biāo)形狀而適當(dāng)選擇金剛石、立方晶氮化硼、碳化 硅、剛玉、氧化鈰等。通過(guò)對(duì)其進(jìn)行最優(yōu)化，能夠提高所得到的防反射膜的霧度等光的透射 性能。從使鋁材料的表面更均勻的觀點(diǎn)出發(fā)，使用與鋁材的相容性良好的剛玉(氧化鋁系) 作為研磨材料的拋光輪研磨法；使用以硅膠作為研磨材料的球拋光輪、使用硅酸酐系的油 脂研磨材料的斜裁布拋光輪、金剛石車刀的精密車床研磨法是優(yōu)選的。通過(guò)將這些研磨條 件最優(yōu)化，能夠使所得到的防反射膜的霧度為15%以下。研磨中，根據(jù)需要而使用磨削液，只要使用通常已知的水溶性、油溶性的磨削液即 可。從難以產(chǎn)生刮痕等傷痕、作為冷卻液的滲透性良好、加工阻力低、能夠降低對(duì)鋁表面的 影響、清洗簡(jiǎn)單等觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選為水溶性磨削液。機(jī)械研磨后，為了除去鋁材料的表面所附著的研磨材料，優(yōu)選進(jìn)行擦洗。只要是不 使鋁材料的表面受到損傷的方法則沒(méi)有特別限定。作為清洗工序中使用的裝置，具體而言，例如，可列舉出超聲清洗機(jī)、刷洗清洗機(jī)、純水旋轉(zhuǎn)清洗干燥機(jī)、RCA清洗機(jī)、功能水清洗機(jī)等。<1-2.化學(xué)研磨>本發(fā)明中的化學(xué)研磨是指，通過(guò)研磨液的作用而引起化學(xué)反應(yīng)從而對(duì)鋁材料的表 面進(jìn)行研磨的方法，只要根據(jù)常規(guī)方法進(jìn)行即可，沒(méi)有特別限制。具體而言，例如，可列舉出 磷酸-硝酸法、Kaiser法、Alupol I、IV、V法、General Motor法、磷酸_醋酸_銅鹽法、磷 酸-硝酸-醋酸法、AlcoaR5法等。根據(jù)所使用的化學(xué)研磨法，通過(guò)適當(dāng)選擇研磨液、溫度、 時(shí)間等能夠獲得霧度為15%以下的防反射膜。其中，從槽控制(bath control)、實(shí)際成果、 研磨面的精加工等觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選為磷酸-硝酸法、磷酸-醋酸-銅鹽法。磷酸-硝酸法中的優(yōu)選的處理溫度為70°C 120°C，更優(yōu)選為80°C 100°C，優(yōu)選 的研磨時(shí)間為30秒 20分鐘，進(jìn)一步優(yōu)選為1分鐘 15分鐘。另外所使用的研磨液的組 成為40 80體積％磷酸、2 10體積％硝酸、余量的水的混合液。<1-3.電解研磨〉本發(fā)明中的電解研磨是指，在電解液中通過(guò)電解而對(duì)鋁的表面進(jìn)行研磨，可以根 據(jù)常規(guī)方法進(jìn)行，沒(méi)有特別限定。在酸性溶液等由于水分較少因而鋁材料處于難以溶解的 狀態(tài)的溶液中，通過(guò)以鋁作為陽(yáng)極而通入直流電流，從而對(duì)表面進(jìn)行研磨。具體而言，例如， 可列舉出Kaiser法、磷酸法、Erftwerk法、Aluf Iex法等。根據(jù)所使用的電解液、電流值、處 理溫度、時(shí)間等，研磨后的表面不同，通過(guò)對(duì)其進(jìn)行適當(dāng)選擇，能夠得到霧度為15%以下的 防反射膜。其中，磷酸法、磷酸-硫酸法為常見(jiàn)的方法，并且在槽控制、精加工、所得到的表面 特性的方面是優(yōu)選的。作為優(yōu)選的磷酸法的電解條件，溫度通常為40°C 90°C，優(yōu)選為 50°C 80°C，電流密度優(yōu)選為20 80A/dm2，更優(yōu)選為30 60A/dm2。另外作為所使用的 電解液，優(yōu)選為85 100體積％的磷酸。另外，在電解研磨處理后，可以浸漬到硝酸浴中， 以除去氧化膜。<1-4.脫脂處理>在進(jìn)行上述的機(jī)械研磨、化學(xué)研磨和/或電解研磨前，還優(yōu)選根據(jù)需要進(jìn)行脫脂 處理。作為脫脂處理方法，例如，可列舉出有機(jī)溶劑法、表面活性劑法、硫酸法、電解脫脂法、 堿脫脂法、乳化脫脂法、磷酸鹽法等。從不會(huì)使鋁材表面產(chǎn)生不必要的粗化的觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu) 選進(jìn)行非侵蝕性的脫脂處理。<2-1.陽(yáng)極氧化〉本發(fā)明中的陽(yáng)極氧化是指，在酸溶液中，以鋁材料作為陽(yáng)極通電，使由水電解產(chǎn)生 的氧與鋁反應(yīng)，形成表面具有細(xì)孔的氧化鋁被膜。作為電解液，只要是酸溶液則沒(méi)有特別限定，例如，可以是硫酸系、草酸系、磷酸系 或鉻酸系中任一種，從作為模的被膜強(qiáng)度優(yōu)異的觀點(diǎn)、可獲得所期望的細(xì)孔尺寸的觀點(diǎn)出 發(fā)，優(yōu)選為草酸系的電解液。關(guān)于陽(yáng)極氧化的條件，只要能夠形成上述目標(biāo)形狀的模則沒(méi)有特別限定，使用草 酸作為電解液時(shí)的條件如下所述。即，濃度優(yōu)選為0. 01 0. 5M，更優(yōu)選為0. 02 0. 3M， 尤其優(yōu)選為0. 03 0. 1M。施加電壓優(yōu)選為20 120V，更優(yōu)選為40 110V，尤其優(yōu)選為 60 105V，進(jìn)一步優(yōu)選為80 100V。液溫優(yōu)選為0 50°C，更優(yōu)選為1 30°C，尤其優(yōu)選為2 10°C。1次的處理時(shí)間優(yōu)選為5 500秒，更優(yōu)選為10 250秒，尤其優(yōu)選為15 200秒，進(jìn)一步優(yōu)選為20 100秒。在該范圍的條件下進(jìn)行陽(yáng)極氧化時(shí)，與下述蝕刻條件組 合則能夠制造上述形狀的防反射膜形成用的“具有錐形細(xì)孔的模”。另外，在其他酸的情況 下也優(yōu)選與上述大致相同的條件。在電壓過(guò)大的情況下，所形成的細(xì)孔的平均間隔過(guò)大，將該模轉(zhuǎn)印到防反射膜形 成材料上時(shí)，所得到的防反射膜的表面形成的凸部或凹部的平均周期可能會(huì)變得過(guò)大。另 一方面，在電壓過(guò)小的情況下，細(xì)孔的平均間隔過(guò)小，通過(guò)將該模轉(zhuǎn)印到防反射膜形成材料 上時(shí)，所得到的防反射膜的表面形成的凸部或凹部的平均周期可能會(huì)變得過(guò)小。表面存在 的凸部或凹部至少在某一方向以平均周期50nm以上且400nm以下存在是本發(fā)明的防反射 膜所必須的，因而需要按在該范圍內(nèi)調(diào)整電壓。在處理時(shí)間過(guò)長(zhǎng)的情況下，防反射膜的凹凸部的高度可能會(huì)變得過(guò)高，在處理時(shí) 間過(guò)短的情況下，防反射膜的凹凸部的高度可能會(huì)變得過(guò)低，所期待的防反射效果可能會(huì) 降低。另外，在處理操作上，優(yōu)選交替重復(fù)陽(yáng)極氧化與后述的蝕刻。<2-2.蝕刻 >蝕刻主要是為了擴(kuò)大陽(yáng)極氧化被膜的孔徑和獲得所期望的形狀的模而進(jìn)行的。通 過(guò)組合上述陽(yáng)極氧化和蝕刻，能夠調(diào)整鋁材料表面上的陽(yáng)極氧化被膜上所形成的錐形的細(xì) 孔的孔徑、該錐形形狀、細(xì)孔的凹凸部的高度和深度等。蝕刻的方法只要是通常已知的方法即可使用，沒(méi)有特別限制。例如，作為蝕刻液， 能夠使用磷酸、硝酸、醋酸、硫酸、鉻酸等酸溶液、或它們的混合液。優(yōu)選為磷酸或硝酸，從可 獲得所需要的溶解速度的觀點(diǎn)、可獲得更均勻的表面的觀點(diǎn)出發(fā)，尤其優(yōu)選為磷酸。關(guān)于蝕刻液的濃度或浸漬時(shí)間、溫度等，只要按照可獲得所期望的形狀的方式適 當(dāng)調(diào)節(jié)即可，在磷酸的情況下，為以下所述的條件。即，蝕刻溶液的濃度優(yōu)選為1 20重 量％，更優(yōu)選為1. 2 10重量％，尤其優(yōu)選為1. 5 2. 5重量％。液溫優(yōu)選為30 90°C，更 優(yōu)選為35 80°C，尤其優(yōu)選為40 60°C。1次的處理時(shí)間(浸漬時(shí)間)優(yōu)選為1分鐘 60分鐘，更優(yōu)選為2分鐘 40分鐘，尤其優(yōu)選為3分鐘 20分鐘，進(jìn)一步優(yōu)選為5分鐘 10分鐘。若在該范圍的條件下進(jìn)行蝕刻，則與上述陽(yáng)極氧化條件組合，能夠制造上述形狀的 防反射膜形成用的“具有錐形細(xì)孔的?！?。另外，在其他酸的情況下也優(yōu)選與上述大致相同 的條件。將上述陽(yáng)極氧化與蝕刻組合，能夠得到所期望的“具有錐形細(xì)孔的模”。“組合”是 指，首先陽(yáng)極氧化，然后交替重復(fù)進(jìn)行處理。在各處理之間進(jìn)行水洗也是優(yōu)選的。關(guān)于陽(yáng)極 氧化與蝕刻的次數(shù)，只要按照可獲得所期望的形狀的方式適當(dāng)調(diào)節(jié)即可，作為組合的次數(shù)， 優(yōu)選為1 10次，更優(yōu)選為2 8次，尤其優(yōu)選為3 6次。本發(fā)明的防反射膜中，在獲得所轉(zhuǎn)印的“具有錐形形狀的?！钡那闆r下，尤其優(yōu)選 的組合是，用草酸水溶液進(jìn)行陽(yáng)極氧化，用磷酸水溶液進(jìn)行蝕刻。全部的優(yōu)選條件為上述各 優(yōu)選條件的組合。[防反射膜表面的形狀]另外，在至少一個(gè)表面具有平均高度IOOnm以上且IOOOnm以下的凸部或平均深度 IOOnm以上且IOOOnm以下的凹部，且防反射膜的霧度為15%以下是本發(fā)明的防反射膜所必 須的。這里，凸部是指與作為基準(zhǔn)的面相比突出的部分，凹部是指與作為基準(zhǔn)的面相比凹陷的部分。本發(fā)明的防反射膜可以在其表面具有凸部，也可以具有凹部。另外，也可以具有凸 部和凹部，此外，還可以具有凸部和凹部相連而起伏的結(jié)構(gòu)?？梢栽诜婪瓷淠さ膬擅婢哂型共炕虬疾?，但必須在至少一個(gè)表面具有凸部或凹 部。其中，優(yōu)選在與空氣接觸的最表面具有凸部或凹部。這是因?yàn)?，空氣的折射率與本發(fā) 明的防反射膜的折射率差別大，通過(guò)使折射率相互不同的物質(zhì)的界面為本發(fā)明的特定的結(jié) 構(gòu)，可以良好地發(fā)揮防反射性能或透射改良性能。凸部或凹部均勻存在于防反射膜的整個(gè)表面時(shí)，能夠發(fā)揮上述效果，因而是優(yōu)選 的。在凸部的情況下，其距離作為基準(zhǔn)的面的平均高度必須為IOOnm以上且IOOOnm以下， 并且防反射膜的霧度為15%以下；在凹部的情況下，其距離作為基準(zhǔn)的面的平均深度必須 為IOOnm以上且IOOOnm以下，并且防反射膜的霧度為15%以下。高度或深度可以不是固定 值，只要其平均值在上述范圍內(nèi)即可，但優(yōu)選實(shí)質(zhì)上具有基本一定的高度或一定的深度。無(wú)論在凸部的情況下、還是在凹部的情況下，其平均高度或平均深度優(yōu)選為150nm 以上，尤其優(yōu)選為200nm以上。另外，優(yōu)選為600nm以下，尤其優(yōu)選為500nm以下。平均高 度或平均深度若過(guò)小，則可能無(wú)法表現(xiàn)出良好的光學(xué)特性，平均高度或平均深度若過(guò)大，則 會(huì)有制造困難等情況。在具有凸部和凹部相連而起伏的結(jié)構(gòu)的情況下，出于同樣的理由，最 高部(凸部的上方)和最深部(凹部的下方)的平均長(zhǎng)度優(yōu)選為IOOnm以上且IOOOnm以 下。對(duì)于本發(fā)明的防反射膜來(lái)說(shuō)，在其表面上，上述凸部或凹部必須按照至少在某一 方向的平均周期為IOOnm以上且400nm以下的方式設(shè)置。凸部或凹部可以無(wú)規(guī)配置，也可 以具有規(guī)則性地配置。另外，無(wú)論在哪種情況下，從防反射性或透射改良性的觀點(diǎn)出發(fā)，上 述凸部或凹部均優(yōu)選實(shí)質(zhì)上均勻地配置于防反射膜的整個(gè)表面。另外，只要至少在某一方 向上按照平均周期為50nm以上且400nm以下的方式配置即可，不需要在所有方向上使其平 均周期為50nm以上且400nm以下。在凸部或凹部具有規(guī)則性地配置的情況下，如上所述，只要按照至少某一方向的 平均周期為50nm以上且400nm以下的方式配置即可，優(yōu)選按照周期最短的方向(以下稱為 “X軸方向”)上的周期為50nm以上且400nm以下的方式配置。即，以某一方向作為周期最 短的方向時(shí)，優(yōu)選周期在上述范圍內(nèi)。此外，此時(shí)，尤其優(yōu)選與χ軸方向垂直的y軸方向按 照其周期為50nm以上且400nm以下的方式配置。上述平均周期(在凸部或凹部的配置部位具有規(guī)則性的情況下，為“周期”)優(yōu)選 為80nm以上，尤其優(yōu)選為150nm以上。另外，優(yōu)選為250nm以下，尤其優(yōu)選為200nm以下。 無(wú)論平均周期過(guò)短還是過(guò)長(zhǎng)，都有可能無(wú)法充分獲得防反射效果。本發(fā)明的防反射膜必須在表面具有上述結(jié)構(gòu)，此外，從具有良好的防反射性能的 觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選具有通常被稱為“蛾眼結(jié)構(gòu)(Moth Eye結(jié)構(gòu))”的結(jié)構(gòu)。另外，同樣從具有良 好的防反射性能的觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選具有專利文獻(xiàn)1至專利文獻(xiàn)10的任一文獻(xiàn)中所記載的表 面結(jié)構(gòu)。對(duì)高寬比沒(méi)有特別限定，所述高寬比是高度或深度除以平均周期而得的值，從光 學(xué)特性的觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選為1以上，尤其優(yōu)選為1.5以上，進(jìn)一步優(yōu)選為2以上。另外，從防 反射膜制造工藝方面來(lái)看，優(yōu)選為5以下，尤其優(yōu)選為3以下。本發(fā)明的防反射膜通過(guò)對(duì)表面賦予上述結(jié)構(gòu)，可以降低光的反射率，或者提高光8的透射性，此外，通過(guò)進(jìn)行上述研磨，能夠進(jìn)一步提高光的透射性。此時(shí)的“光”為至少包含 可見(jiàn)光區(qū)域的波長(zhǎng)的光。[防反射膜的霧度]本發(fā)明中的防反射膜必須具有上述凹凸部的形狀，且霧度為15%以下。霧度為擴(kuò) 散透射率相對(duì)于全部透射率的百分率，本發(fā)明中的霧度以根據(jù)實(shí)施例中所述的方法而測(cè)定 的值定義。若霧度過(guò)大，則可能無(wú)法充分確保FPD的可視性。通過(guò)對(duì)形成模的鋁材料的表 面進(jìn)行研磨，使用其而得到的防反射膜的霧度能夠?yàn)?5%以下，光的透射性能顯著提高。尤 其是通過(guò)在陽(yáng)極氧化之前施加上述研磨時(shí)才可能得到了霧度為15%以下的防反射膜。霧度 必須為15%以下，優(yōu)選為12%以下，更優(yōu)選為8%以下，尤其優(yōu)選為5%以下，進(jìn)一步優(yōu)選為 2%以下。[防反射膜的構(gòu)成、形成方法]本發(fā)明的防反射膜使用上述的模和膜形成材料而制作。作為膜形成材料，只要是 能夠形成上述防反射膜的表面形狀、且能夠使霧度為15%以下，則沒(méi)有特別限定，能夠優(yōu)選 使用固化性組合物和熱塑性組合物中任一種。本發(fā)明的防反射膜在其表面具有平均高度 IOOnm以上且IOOOnm以下的凸部或凹部，至少在某一方向以平均周期50nm以上且400nm以 下存在所述凸部或凹部，由于具有這種極其微細(xì)的表面結(jié)構(gòu)，因而為了賦予適于該微細(xì)結(jié) 構(gòu)的機(jī)械強(qiáng)度，另外，從形成模的陽(yáng)極氧化被膜上的剝離性等觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選使用固化性組 合物。<1.固化性組合物〉固化性組合物是指通過(guò)光照射、電子射線照射和/或加熱而發(fā)生固化的組合物。 其中，從上述觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選為通過(guò)光照射或電子射線照射而發(fā)生固化的固化性組合物。<1-1.通過(guò)光照射或電子射線照射而固化的固化性組合物〉對(duì)“通過(guò)光照射或電子射線照射而固化的固化性組合物”(以下，簡(jiǎn)稱為“光固化 性組合物”)沒(méi)有特別限定，可以使用丙烯酸系聚合性組合物或甲基丙烯酸系聚合性組合物 (以下，簡(jiǎn)稱為“(甲基)丙烯酸系聚合性組合物”)、能夠利用光酸催化劑而交聯(lián)的組合物 等任一種，但(甲基)丙烯酸系聚合性組合物由于能夠賦予適于本發(fā)明的微細(xì)結(jié)構(gòu)的機(jī)械 強(qiáng)度，因此從形成模的陽(yáng)極氧化被膜上的剝離性、由于化合物群豐富所以能夠制備各種物 性的防反射膜的觀點(diǎn)等出發(fā)，優(yōu)選為(甲基)丙烯酸系聚合性組合物。<1-2.熱固化性組合物>本發(fā)明中的熱固化性組合物只要是加熱則引起聚合而形成高分子的網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)，并 固化而無(wú)法恢復(fù)到當(dāng)初狀態(tài)的組合物，則沒(méi)有特別限定，例如，可列舉出酚系聚合性組合 物、二甲苯系聚合性組合物、環(huán)氧系聚合性組合物、密胺系聚合性組合物、胍胺系聚合性組 合物、鄰苯二甲酸二烯丙酯系聚合性組合物、脲系聚合性組合物(尿素系聚合性組合物)、 不飽和聚酯系聚合性組合物、醇酸系聚合性組合物、聚氨酯系聚合性組合物、聚酰亞胺系聚 合性組合物、呋喃系聚合性組合物、聚氧苯甲酰系聚合性組合物、馬來(lái)酸系聚合性組合物、 密胺系聚合性組合物、(甲基)丙烯酸系聚合性組合物等。作為酚系聚合性組合物，例如為 甲階型酚醛樹(shù)脂等。作為環(huán)氧系聚合性組合物，例如有雙酚A-表氯醇樹(shù)脂、環(huán)氧酚醛清漆 樹(shù)脂、脂環(huán)式環(huán)氧樹(shù)脂、溴化環(huán)氧樹(shù)脂、脂肪族環(huán)氧樹(shù)脂、多官能性環(huán)氧樹(shù)脂等。作為不飽和 聚酯系聚合性組合物，例如有鄰苯二甲酸系、間苯二甲酸系、己二酸系、氯橋酸系、鄰苯二甲酸二烯丙酯系等。其中，作為熱固化性組合物，優(yōu)選為(甲基)丙烯酸系聚合組合物。<1-3.(甲基)丙烯酸系聚合性組合物>S卩，本發(fā)明的防反射膜優(yōu)選為(甲基)丙烯酸系聚合性組合物的(甲基)丙烯酰 基的碳-碳雙鍵由光照射、電子射線照射和/或加熱而發(fā)生反應(yīng)所形成的防反射膜。另外， “通過(guò)光照射、電子射線照射和/或加熱”是指，可以利用由光照射、電子射線照射和加熱所 構(gòu)成的組中的任一種處理，可以并用選自上述組中的2種處理，也可以并用全部3種處理。本發(fā)明的防反射膜優(yōu)選為(甲基)丙烯?；奶?碳雙鍵反應(yīng)而成的防反射膜， 其反應(yīng)率沒(méi)有特別限定，優(yōu)選為80%以上，尤其優(yōu)選為90%以上。這里“反應(yīng)率”是指，由 通過(guò)紅外線分光法(IR)、具體而言傅立葉變換紅外分光光度計(jì)Spectrum One D(perkin Elmer公司制造)衰減全反射法(ATR法)對(duì)曝光前后的(甲基)丙烯酸系聚合性組合物進(jìn) 行測(cè)定而得的屬于酯鍵的碳-氧鍵的1720CHT1的吸光度、和屬于碳-碳鍵的811cm—1的吸光 度的比率求得的值。若反應(yīng)率過(guò)低，則有可能導(dǎo)致機(jī)械強(qiáng)度的降低或耐化學(xué)試劑性的降低。作為(甲基)丙烯酸系聚合性組合物，只要能夠形成上述微細(xì)結(jié)構(gòu)、且能夠使霧度 為15%以下，則沒(méi)有特別限定，優(yōu)選含有尿烷(甲基)丙烯酸酯和酯式(甲基)丙烯酸酯。 “尿烷(甲基)丙烯酸酯”是指分子中具有氨基甲酸酯鍵的(甲基)丙烯酸酯化合物。另 外，“酯式(甲基)丙烯酸酯”是指，分子中具有通過(guò)酸基(包括酸酐或酰氯)和羥基的反應(yīng) 而得到的酯鍵、不具有氨基甲酸酯鍵和硅氧烷鍵的物質(zhì)。本發(fā)明中的(甲基)丙烯酸系聚合性組合物進(jìn)一步優(yōu)選含有環(huán)氧(甲基)丙烯酸 酯。“環(huán)氧(甲基)丙烯酸酯”是指具有(甲基)丙烯酸與環(huán)氧基反應(yīng)而得到的結(jié)構(gòu)的(甲 基)丙烯酸酯化合物。此外，本發(fā)明的防反射膜優(yōu)選為含有改性硅油的組合物聚合而成的物質(zhì)?！案男怨?油”是指分子中具有硅氧烷鍵、且硅原子(Si)上還鍵合有除甲基以外的有機(jī)基團(tuán)的化合物。 “改性硅油”包含有機(jī)硅(甲基)丙烯酸酯。因此，本發(fā)明中的(甲基)丙烯酸系聚合性組 合物還優(yōu)選含有有機(jī)硅(甲基)丙烯酸酯?！坝袡C(jī)硅(甲基)丙烯酸酯”是指分子中具有硅 氧烷鍵的(甲基)丙烯酸酯化合物。[1]關(guān)于尿烷(甲基)丙烯酸酯本發(fā)明中使用的尿烷(甲基)丙烯酸酯沒(méi)有特別限定，例如，對(duì)于氨基甲酸酯鍵的 位置或個(gè)數(shù)、(甲基)丙烯?；奈恢没騻€(gè)數(shù)沒(méi)有特別限定。作為本發(fā)明中的膜形成材料中使用的尿烷(甲基)丙烯酸酯的優(yōu)選的化學(xué)結(jié)構(gòu)， 可列舉出具有以下結(jié)構(gòu)的物質(zhì)(A)使分子中具有(優(yōu)選為多個(gè))異氰酸酯基的化合物與 分子中具有羥基和(優(yōu)選為多個(gè))(甲基)丙烯?；幕衔锓磻?yīng)而得到的結(jié)構(gòu)；(B)使具 有多個(gè)羥基的化合物與二異氰酸酯化合物或三異氰酸酯化合物反應(yīng)，并使所得到的化合物 的未反應(yīng)異氰酸酯基與(甲基)丙烯酸羥乙酯等那樣的在分子中具有羥基和(甲基)丙烯 ?；幕衔锓磻?yīng)而得到的結(jié)構(gòu)。上述(甲基)丙烯酸酯化合物通過(guò)含有尿烷(甲基)丙烯酸酯，從而所得到的防 反射膜的固化性、反應(yīng)率提高，儲(chǔ)能彈性模量增大，同時(shí)柔軟性優(yōu)異。作為尿烷(甲基)丙烯酸酯，尤其優(yōu)選為含有4官能以上的尿烷(甲基)丙烯酸 酯的物質(zhì)。即，優(yōu)選含有分子中具有4個(gè)以上(甲基)丙烯?；幕衔?。對(duì)于該情況下 的氨基甲酸酯鍵的位置或個(gè)數(shù)、分子末端是否具有(甲基)丙烯?；葲](méi)有特別限定，尤其10優(yōu)選為分子中具有6個(gè)以上(甲基)丙烯?；幕衔?，進(jìn)一步優(yōu)選為具有10個(gè)以上(甲 基)丙烯?；幕衔?。另外，對(duì)分子中的(甲基)丙烯酰基的個(gè)數(shù)的上限沒(méi)有特別限定， 尤其優(yōu)選為15個(gè)以下。若尿烷(甲基)丙烯酸酯分子中的(甲基)丙烯酰基的數(shù)目過(guò)少， 則所得到的結(jié)構(gòu)體的固化性、反應(yīng)率可能會(huì)降低，耐劃傷性、機(jī)械強(qiáng)度可能會(huì)減小。另一方 面，若尿烷(甲基)丙烯酸酯分子中的(甲基)丙烯?；臄?shù)目過(guò)多，則聚合所引起的(甲 基)丙烯?；奶?碳雙鍵消耗率(即反應(yīng)率)可能無(wú)法充分提高。[2]關(guān)于酯式(甲基)丙烯酸酯用于形成本發(fā)明的防反射膜的(甲基)丙烯酸系聚合物優(yōu)選除了含有尿烷(甲 基)丙烯酸酯以外，還含有酯式(甲基)丙烯酸酯。通過(guò)含有該酯式(甲基)丙烯酸酯，防 反射膜變得柔軟，具有本發(fā)明中的特殊結(jié)構(gòu)的表面的機(jī)械強(qiáng)度變得良好。另外，通過(guò)為了提 高固化性等而使用的尿烷(甲基)丙烯酸酯，能夠防止防反射膜的柔軟性惡化。不含有該酯 式(甲基)丙烯酸酯、而僅含有尿烷(甲基)丙烯酸酯的情況下，防反射膜變得過(guò)于柔軟， 機(jī)械強(qiáng)度可能變差。對(duì)酯式(甲基)丙烯酸酯沒(méi)有特別限定，作為優(yōu)選的物質(zhì)可列舉出2官能以上的 (甲基)丙烯酸酯化合物。作為2官能(甲基)丙烯酸酯，例如，可列舉出直鏈鏈烷二醇二 (甲基)丙烯酸酯、烷撐二醇二(甲基)丙烯酸酯、3價(jià)以上的醇的部分(甲基)丙烯酸酯、 雙酚系二(甲基)丙烯酸酯等。若含有2官能酯式(甲基)丙烯酸酯，則從固化性提高、機(jī) 械強(qiáng)度提高等觀點(diǎn)出發(fā)，是優(yōu)選的。在2官能(甲基)丙烯酸酯中，為了進(jìn)一步提高固化性， 優(yōu)選含有具有烷撐二醇鏈、且分子的兩末端分別各具有1個(gè)(甲基)丙烯酰基的2官能酯 式(甲基)丙烯酸酯。作為3官能(甲基)丙烯酸酯，例如，可列舉出甘油PO改性三(甲基)丙烯酸酯、 三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷EO改性三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基 丙烷PO改性三(甲基)丙烯酸酯、異氰脲酸EO改性三(甲基)丙烯酸酯、異氰脲酸EO改 性ε -己內(nèi)酯改性三(甲基)丙烯酸酯、1，3，5_三丙烯?；鶜?均三嗪、季戊四醇三(甲 基)丙烯酸酯、二季戊四醇三(甲基)丙烯酸三丙酸酯等。作為4官能以上的(甲基)丙烯酸酯，例如，可列舉出季戊四醇四(甲基)丙烯酸 酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸單丙酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、四羥甲基乙 烷四(甲基)丙烯酸酯、低聚酯四(甲基)丙烯酸酯等。[3]關(guān)于環(huán)氧(甲基)丙烯酸酯用于形成本發(fā)明的防反射膜的(甲基)丙烯酸系聚合物優(yōu)選含有環(huán)氧(甲基)丙 烯酸酯。通過(guò)含有該環(huán)氧(甲基)丙烯酸酯，防反射膜變得更加強(qiáng)韌，具有本發(fā)明中的特殊 結(jié)構(gòu)的表面的耐劃傷性等機(jī)械強(qiáng)度變得更加良好。對(duì)上述“環(huán)氧(甲基)丙烯酸酯”沒(méi)有特別限定，具體而言，例如可列舉出具有乙 二醇二縮水甘油醚、二乙二醇二縮水甘油醚、三乙二醇二縮水甘油醚、丙二醇二縮水甘油 醚、二丙二醇二縮水甘油醚、三丙二醇二縮水甘油醚等烷撐二醇的二縮水甘油醚類；甘油二 縮水甘油醚等甘油縮水甘油醚類；雙酚A 二縮水甘油醚、氫化雙酚A 二縮水甘油醚、雙酚A 的PO改性二縮水甘油醚、雙酚F 二縮水甘油醚等雙酚系化合物的二縮水甘油醚類等加成有 (甲基)丙烯酸的結(jié)構(gòu)的物質(zhì)。另外，還可列舉出具有縮聚后的環(huán)氧樹(shù)脂加成有(甲基)丙 烯酸的結(jié)構(gòu)的物質(zhì)。此外，還可列舉出具有酚醛清漆樹(shù)脂、甲酚酚醛清漆樹(shù)脂等縮聚物(例如對(duì)具有使表氯醇等反應(yīng)而得到的結(jié)構(gòu)的環(huán)氧樹(shù)脂)加成有(甲基)丙烯酸的結(jié)構(gòu)的物質(zhì)寸。[4]關(guān)于改性硅油用于形成本發(fā)明的防反射膜的(甲基)丙烯酸系聚合物優(yōu)選含有改性硅油。(甲 基)丙烯酸酯化合物通過(guò)含有改性硅油，從而所得到的防反射膜的儲(chǔ)能彈性模量增大，同 時(shí)對(duì)于上述特殊的表面形狀來(lái)說(shuō)，所得到的防反射膜的耐劃傷性等機(jī)械強(qiáng)度優(yōu)異。另外，在 本發(fā)明的防反射膜形成中，由于具有將固化后的防反射膜從模剝離的工序，因而此時(shí)賦型 性變得非常重要。然而，本發(fā)明中，比起該賦型性的改良，該改性硅油的使用對(duì)于表面耐劃 傷性的改良更有效。作為改性硅油的數(shù)均分子量，優(yōu)選為400 20000，尤其優(yōu)選為1000 15000。在數(shù)均分子量過(guò)大時(shí)，與其他成分的相容性可能會(huì)變差，另一方面，在數(shù)均分子量過(guò)小時(shí)，表 面耐劃傷性可能會(huì)變差。[5](甲基)丙烯酸系聚合性組合物的組成(甲基)丙烯酸酯系聚合性組合物中的尿烷(甲基)丙烯酸酯、酯式(甲基)丙烯 酸酯、環(huán)氧(甲基)丙烯酸酯和改性硅油的含有比率沒(méi)有特別限定，相對(duì)于尿烷(甲基)丙 烯酸酯100重量份，酯式(甲基)丙烯酸酯優(yōu)選為10重量份以上，尤其優(yōu)選為20重量份以 上。另外，上限優(yōu)選為400重量份以下，更優(yōu)選為300重量份以下，尤其優(yōu)選為200重量份 以下，最優(yōu)選為100重量份以下。另外，相對(duì)于尿烷(甲基)丙烯酸酯100重量份，環(huán)氧(甲基)丙烯酸酯優(yōu)選為 0 50重量份，尤其優(yōu)選為0 20重量份，進(jìn)一步優(yōu)選為1 10重量份。另外，相對(duì)于尿 烷(甲基)丙烯酸酯100重量份，改性硅油優(yōu)選為0 10重量份，尤其優(yōu)選為0. 02 5重 量份，進(jìn)一步優(yōu)選為0. 05 2重量份。若改性硅油過(guò)多，則在防反射膜中分離而形成不透 明的防反射膜，霧度可能無(wú)法為15%以下，另一方面，若改性硅油過(guò)少，則表面的耐劃傷性 可能會(huì)變差。除了上述物質(zhì)以外，本發(fā)明的(甲基)丙烯酸系聚合性化合物中還可以含有其他 (甲基)丙烯酸酯、聚合引發(fā)劑等。在本發(fā)明的防反射膜通過(guò)(甲基)丙烯酸系聚合性化合物的光照射而形成的情況 下，對(duì)作為其材料的(甲基)丙烯酸系聚合性化合物中的光聚合引發(fā)劑的有無(wú)沒(méi)有特別限 定，優(yōu)選含有光聚合引發(fā)劑。對(duì)光聚合引發(fā)劑沒(méi)有特別限定，可列舉出以往在自由基聚合中 所使用的公知的物質(zhì)，例如苯乙酮類、二苯甲酮類、烷基氨基二苯甲酮類、苯偶酰類、苯偶姻 類、苯偶姻醚類、芐基二甲縮醛類、苯甲酰苯甲酸酯類、α-?；旷ヮ惖确纪倒饩酆弦l(fā) 劑；硫化物類、噻噸酮類等含硫系光聚合引發(fā)劑；酰基二芳基氧化膦等?；趸㈩?；蒽醌 類等。另外，還能夠并用光敏劑。相對(duì)于(甲基)丙烯酸酯化合物100重量份，上述光聚合引發(fā)劑的混合量通常在 0. 2 10重量份、優(yōu)選0. 5 7重量份的范圍內(nèi)選擇。在本發(fā)明的防反射膜通過(guò)(甲基)丙烯酸系聚合性化合物的熱聚合而形成的情況 下，優(yōu)選含有熱聚合引發(fā)劑。作為熱聚合引發(fā)劑，能夠使用以往在自由基聚合中使用的公知 的物質(zhì)，例如，可列舉出過(guò)氧化物、重氮化合物等。<2.熱塑性組合物〉12
作為熱塑性組合物，只要是通過(guò)加熱至玻璃化轉(zhuǎn)變溫度或熔點(diǎn)而軟化的物質(zhì)，則 沒(méi)有特別限定，例如，可列舉出丙烯腈-苯乙烯系聚合物組合物、丙烯腈-苯乙烯系聚合物 組合物、丙烯腈-氯化聚乙烯-苯乙烯系聚合物組合物、苯乙烯-(甲基)丙烯酸酯系聚合 物組合物、丁二烯-苯乙烯系聚合物組合物等苯乙烯系聚合物組合物；氯乙烯系聚合物組 合物、乙烯-氯乙烯系聚合物組合物、乙烯-醋酸乙烯酯系聚合物組合物、丙烯系聚合物組 合物、丙烯-氯乙烯系聚合物組合物、丙烯-醋酸乙烯酯系聚合物組合物、氯化聚乙烯系組 合物、氯化聚丙烯系組合物等聚烯烴系組合物；酮系聚合物組合物；聚縮醛系組合物；聚酯 系組合物；聚碳酸酯系組合物；聚醋酸乙烯酯系組合物、聚乙烯系組合物、聚丁二烯系組合 物、聚(甲基)丙烯酸酯系組合物等。另外，本發(fā)明的(甲基)丙烯酸系聚合性組合物中還能夠進(jìn)一步混合粘合劑聚合 物、微粒、抗氧化劑、紫外線吸收劑、光穩(wěn)定劑、消泡劑、脫模劑、潤(rùn)滑劑、流平劑等。它們能夠 從以往公知的物質(zhì)中適當(dāng)選擇使用。[防反射膜的制造方法]本發(fā)明的防反射膜的制造方法例如優(yōu)選為下述方法。即，取上述防反射膜形成材 料至基材上，利用棒涂機(jī)或涂敷器(applicator)等涂布機(jī)或者定位件(spacer)進(jìn)行涂布， 使膜厚均勻。這里，作為“基材”，優(yōu)選為聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯(以下，簡(jiǎn)稱為“PET”)、三 乙酰纖維素等的薄膜。然后，將具有上述表面結(jié)構(gòu)的模粘貼。粘貼后，在固化性組合物的情 況下，利用紫外線照射或電子射線照射和/或熱從該薄膜表面使其固化?；蛘撸部梢栽诰?有上述表面結(jié)構(gòu)的模上直接取防反射膜形成材料，利用涂布機(jī)或定位件等制作均勻膜厚的 涂布膜。然后，將所得到的防反射膜從該模剝離，制作本發(fā)明的防反射膜。進(jìn)而使用圖1對(duì)該制造方法進(jìn)行具體說(shuō)明，但本發(fā)明不限于圖1的具體方式。艮口， 對(duì)模( 適量供給或涂布防反射膜形成材料(1)(圖1的(a))，以輥部側(cè)為支點(diǎn)，從傾斜的 方向粘貼基材(3)(圖1的(b))。將模O)、防反射膜形成材料(1)與基材(3)形成一體的 粘貼體向輥⑷移動(dòng)(圖1的(C))，通過(guò)進(jìn)行輥壓接，將模(2)所具有的特定結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)印、賦 型到防反射膜形成材料(1)上(圖1的(d))。使其固化后，從模O)剝離(圖1的(e))， 從而得到本發(fā)明的目標(biāo)防反射膜(5)。圖2為連續(xù)制造防反射膜的裝置的一個(gè)例子的示意圖，但本發(fā)明不限于該示意 圖。即，在模( 上附著防反射膜形成材料(1)，通過(guò)輥(4)而施加力量，從與模傾斜的方向 粘貼基材(3)，從而將模(2)所具有的特定結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)印到防反射膜形成材料(1)上。利用固 化裝置(6)使其固化后，將其從模(2)剝離，從而得到本發(fā)明的目標(biāo)防反射膜(5)。支撐輥 (7)用于將防反射膜(5)向上部提升。使用輥，從傾斜的方向粘貼，從而得到?jīng)]有氣泡、沒(méi)有缺陷的防反射膜(5)。另 外，若使用輥，則施加的是線壓力，從而能夠增大壓力，因此能夠制造大面積的防反射膜，而 且還容易進(jìn)行壓力調(diào)節(jié)。另外，能夠制造具有與基材形成一體的均勻的膜厚和規(guī)定的光學(xué) 物性的防反射膜，此外能夠連續(xù)制造，因而生產(chǎn)率優(yōu)異。本發(fā)明的防反射膜優(yōu)選為通過(guò)光照射、電子射線照射和/或加熱而聚合得到的防 反射膜，關(guān)于光照射時(shí)的光的波長(zhǎng)沒(méi)有特別限定?？傊瑥脑诠饩酆弦l(fā)劑的存在下可良好 地使(甲基)丙烯?；奶?碳雙鍵聚合的觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選為含有可見(jiàn)光線和/或紫外線的 光。尤其優(yōu)選為含有紫外線的光。對(duì)光源沒(méi)有特別限定，可以使用超高壓汞燈、高壓汞燈、鹵素?zé)?、各種激光器等公知的光源。在照射電子射線的情況下，對(duì)電子射線的強(qiáng)度或波長(zhǎng)沒(méi)有特別限定，并可以使用公知的方法。在通過(guò)熱而聚合的情況下，對(duì)其溫度沒(méi)有特別限定，優(yōu)選為80°C以上，尤其優(yōu)選為 100°C以上。另外，優(yōu)選為200°C以下，尤其優(yōu)選為180°C以下。在聚合溫度過(guò)低的情況下， 聚合可能無(wú)法充分進(jìn)行，在聚合溫度過(guò)高的情況下，聚合可能會(huì)不均勻，或者可能會(huì)產(chǎn)生基 材的劣化。對(duì)加熱時(shí)間也沒(méi)有特別限定，優(yōu)選為5秒以上，尤其優(yōu)選為10秒以上。另外，優(yōu) 選為10分鐘以下，尤其優(yōu)選為2分鐘以下，進(jìn)一步優(yōu)選為30秒以下。[作用和原理]本發(fā)明的防反射膜具有優(yōu)異的光透射性能，據(jù)認(rèn)為其原因是對(duì)作為模的鋁材料的 表面進(jìn)行了研磨。一直以來(lái)，認(rèn)為由于作為模的鋁材料的表面被陽(yáng)極氧化，因而在此之前不 需要對(duì)表面進(jìn)行研磨。另外，認(rèn)為通過(guò)特定的表面結(jié)構(gòu)而能夠防止反射，因而在霧度方面認(rèn) 為已經(jīng)是足夠了，因此沒(méi)有要求進(jìn)一步的光透射性能。另外，以往，由于沒(méi)有令人滿意的防 反射膜形成材料，而暫且僅將制作防反射膜作為重點(diǎn)，在材料方面尚未達(dá)到使霧度極低、具 體而言為15%以下的技術(shù)水準(zhǔn)，因此，沒(méi)有考慮到要對(duì)模的表面進(jìn)行研磨。通過(guò)上述那樣的 固化性組合物等的開(kāi)發(fā)，達(dá)到了進(jìn)一步改良霧度的水平，因而考慮到要對(duì)模的表面進(jìn)行研 磨。關(guān)于通過(guò)研磨鋁表面而能夠使霧度為15%以下的作用和原理，尚未明確，據(jù)認(rèn)為 是由于下述原因，但本發(fā)明并不受以下的作用和原理限制。即，據(jù)認(rèn)為，與本發(fā)明的防反射 膜的特定表面形狀相比等級(jí)(order)更大的尺寸的或更長(zhǎng)間距的凹凸或者不均勻性會(huì)對(duì) 霧度有影響，而通過(guò)研磨除去了這種凹凸或不均勻性，從而霧度降低。該等級(jí)上較大的凹凸 或不均勻性等通過(guò)陽(yáng)極氧化沒(méi)有完全消除，則即使在其上形成了微細(xì)結(jié)構(gòu)，霧度的提高也 有限。實(shí)施例以下，通過(guò)實(shí)施例來(lái)進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明本發(fā)明，但本發(fā)明只要不超出其主旨，則不限 于這些實(shí)施例。實(shí)施例1〈模的制作〉通過(guò)單面平面拋光盤(pán)(Speedfam公司制造)，利用氧化鋁系的研磨材料(FUJIMI INCORPORATED制造)，對(duì)將作為鋁材料的99. 85%的鋁軋制板Qmm厚)研磨10分鐘，得到 鏡面。將研磨面擦洗后，進(jìn)行非侵蝕性的脫脂處理。
然后，利用以下所示的陽(yáng)極氧化條件、和所形成的陽(yáng)極氧化被膜的以下所示的蝕 刻(孔徑擴(kuò)大)處理?xiàng)l件的組合，制作具有錐形細(xì)孔的模。〈陽(yáng)極氧化的條件〉使用液0·05Μ草酸電壓80V的直流電壓溫度5°C時(shí)間50秒〈蝕刻的條件〉使用液2重量％磷酸
溫度50°C時(shí)間5分鐘交替重復(fù)5次陽(yáng)極氧化和蝕刻(孔徑擴(kuò)大)，從而得到具有周期200nm、細(xì)孔徑開(kāi) 口部160nm、底部50nm、細(xì)孔深度500nm的錐形細(xì)孔的陽(yáng)極氧化被膜表面?！捶婪瓷淠さ闹谱鳌等∽鳛榉婪瓷淠ば纬刹牧系囊韵滤龅墓夤袒越M合物(a)置于在PET薄膜上， 利用棒涂機(jī)進(jìn)行涂布，使膜厚均勻。然后，粘貼上述所得的模，確認(rèn)細(xì)孔內(nèi)被光固化性 組合物填充后，照射紫外線使光固化性組合物聚合固化。固化后，將膜從模剝離，得到以平 均周期200nm在表面存在平均高度500nm的凸部的防反射膜。<光固化性組合物的制備>由11. 8重量份下述式(1)所示的化合物(1) >23. 0重量份下述化合物(2) ,45. 2 重量份四乙二醇二丙烯酸酯、20. 0重量份季戊四醇六丙烯酸酯和2. 0重量份作為光聚合引 發(fā)劑的1-羥基環(huán)己基苯基酮得到光固化性組合物(a)。上述化合物(1)為下述式(1)所示的化合物。[化學(xué)式1]
權(quán)利要求
1.一種防反射膜，其特征在于，其通過(guò)以下方式獲得利用機(jī)械研磨、化學(xué)研磨和/或 電解研磨對(duì)鋁材料的表面進(jìn)行加工后，通過(guò)陽(yáng)極氧化與陽(yáng)極氧化被膜的蝕刻的組合制作在 該鋁材料的表面具有錐形細(xì)孔的模，并將該模轉(zhuǎn)印到防反射膜形成材料上，由此獲得防反 射膜；該獲得的防反射膜表面具有平均高度IOOnm以上且IOOOnm以下的凸部或平均深度 IOOnm以上且IOOOnm以下的凹部，該凸部或凹部至少在某一方向以平均周期50nm以上且 400nm以下存在，且所述防反射膜的霧度為15%以下。
2.如權(quán)利要求1所述的防反射膜，其中，利用機(jī)械研磨、化學(xué)研磨和/或電解研磨加工 后的鋁材料的表面的算術(shù)平均粗糙度Ra為0. 1 μ m以下。
3.如權(quán)利要求1或權(quán)利要求2所述的防反射膜，其中，所述陽(yáng)極氧化在草酸濃度0.OlM 以上且0. 5M以下、施加電壓20V以上且120V以下、并且液溫0°C以上且50°C以下進(jìn)行。
4.如權(quán)利要求1或權(quán)利要求2所述的防反射膜，其中，所述蝕刻在磷酸濃度1重量％以 上且20重量％以下、液溫30°C以上且90°C以下進(jìn)行，并且1次的處理時(shí)間為1分鐘以上且 60分鐘以下。
5.如權(quán)利要求1或權(quán)利要求2所述的防反射膜，其中，所述防反射膜形成材料為通過(guò)光 照射、電子射線照射和/或加熱而發(fā)生固化的固化性組合物。
6.如權(quán)利要求5所述的防反射膜，其中，所述固化性組合物為丙烯酸系聚合性組合物 或甲基丙烯酸系聚合性組合物。
7.一種具有錐形細(xì)孔的模，其特征在于，其為具有權(quán)利要求1或權(quán)利要求2所述的防反 射膜形成用的錐形細(xì)孔的模，其通過(guò)陽(yáng)極氧化與蝕刻的組合而制作，所述陽(yáng)極氧化在草酸 濃度0. OlM以上且0. 5M以下、施加電壓20V以上且120V以下、并且液溫0°C以上且50°C以 下進(jìn)行，所述蝕刻在磷酸濃度1重量％以上且20重量％以下、液溫30°C以上且90°C以下進(jìn) 行，并且1次的處理時(shí)間為1分鐘以上且60分鐘以下。
全文摘要
本發(fā)明的課題在于發(fā)現(xiàn)具有優(yōu)異的光的防反射性能或優(yōu)異的光的透射性能的防反射膜所要求的表面形狀和物性，并提供具有該特定的表面形狀和物性的防反射膜以及該防反射膜的制造方法。本發(fā)明提供一種防反射膜，其特征在于，其通過(guò)以下方式獲得利用機(jī)械研磨、化學(xué)研磨和/或電解研磨對(duì)鋁材料的表面進(jìn)行加工后，通過(guò)陽(yáng)極氧化與陽(yáng)極氧化被膜的蝕刻的組合制作在該鋁材料的表面具有錐形細(xì)孔的模，并將該模轉(zhuǎn)印到防反射膜形成材料上，由此獲得防反射膜；其表面具有平均高度100nm以上且1000nm以下的凸部或平均深度100nm以上且1000nm以下的凹部，該凸部或凹部至少在某一方向以平均周期50nm以上且400nm以下存在，且霧度為15％以下。
文檔編號(hào)B29C59/02GK102047149SQ20098011909
公開(kāi)日2011年5月4日 申請(qǐng)日期2009年5月12日 優(yōu)先權(quán)日2008年5月27日
發(fā)明者佐藤一也, 六波羅淳, 松本司, 渡邊裕 申請(qǐng)人:Dnp精細(xì)化工股份有限公司