專(zhuān)利名稱(chēng)：加飾元件及其制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是有關(guān)于一種加飾元件及其制作方法，且特別是有關(guān)于一種具有全像圖案 的加飾元件及其制作方法。
背景技術(shù)：
信用卡、紙鈔、支票及其它重要的文件等都需具有特定的標(biāo)志或特征以避免被拷 貝或是盜用。現(xiàn)今的拷貝設(shè)備及復(fù)制技術(shù)不斷地改進(jìn)，所以必須發(fā)展出新的防偽技術(shù)。全 像圖是一種繞射光學(xué)元件，其被廣泛地應(yīng)用于驗(yàn)證、保全、防衛(wèi)或相似的目的上。舉例而言， 信用卡上的全像鴿子影像以及全像球形影像都是為了這些目的而設(shè)計(jì)的。使用全像技術(shù)以達(dá)到防偽目的的理由主要在于全像影像無(wú)法通過(guò)掃描或是印刷 等方式復(fù)制，且對(duì)于熟知全像技術(shù)者也不容易以全像的形式進(jìn)行偽造。目前，全像圖案的應(yīng) 用方式是將全像圖案制作于紙或是薄膜上以構(gòu)成所需的卷標(biāo)或是標(biāo)志。然后，再將具有全 像圖案的卷標(biāo)或標(biāo)志貼到元件的表面上以作為防偽的設(shè)計(jì)。不過(guò)，黏貼所使用的黏著材料可能因?yàn)轱L(fēng)化、氧化或其它的作用而劣化，所以貼附 于元件上的卷標(biāo)或是標(biāo)志可靠性較差而容易自元件的表面上被剝除。另外，貼附的方式也 可能使得構(gòu)成全像影像的結(jié)構(gòu)容易被磨損或是刮傷而失去可辨識(shí)度。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提出一種加飾元件，其具有全像圖案以提供防偽功能。本發(fā)明的目的還在于提出一種制作加飾元件的方法以使加飾元件具有全像圖案。本發(fā)明提供一種加飾元件，其包括一本體、一全像層以及一黏著層。全像層配置于 本體上并包括一透光底層以及一反射層。透光底層具有一凹凸結(jié)構(gòu)，而反射層共形地覆蓋 該凹凸結(jié)構(gòu)以形成多個(gè)全像圖案，其中反射層位于本體以及透光底層之間。黏著層配置于 本體的一表面以及全像層之間。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，上述表面為一非平面，而全像層共形于該非平面。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，上述透光底層為一耐久層(durable layer)。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，上述透光底層為一離型層。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，上述加飾元件還包括一油墨層，其配置于透光底層以 及黏著層之間。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，上述反射層的一材質(zhì)包括由鋁、銅、鎳、鋅、鉻、銀、鈦、 鎢、金、鉬、錫、鎂所組成的族群。本發(fā)明還提供一種加飾元件的制作方法，包括以下步驟在一基材上形成一全像 層，且該全像層具有多個(gè)全像圖案。在全像層上形成遠(yuǎn)離基材的一黏著層。進(jìn)行一加飾工 藝形成一本體，以使全像層通過(guò)黏著層共形地配置于本體的一表面。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，上述在基材上形成該全像層的方法包括在基材上形 成一透光底層；在透光底層上進(jìn)行一圖案轉(zhuǎn)移工藝以形成遠(yuǎn)離基材的一凹凸結(jié)構(gòu)；以及在透光底層上形成一反射層，且反射層共形地覆蓋凹凸結(jié)構(gòu)。在一實(shí)施方式中，在透光底層上 進(jìn)行圖案轉(zhuǎn)移工藝的方法包括在透光底層上進(jìn)行一壓印工藝以形成遠(yuǎn)離基材的凹凸結(jié)構(gòu)。 另外，在凹凸結(jié)構(gòu)上形成反射層的方法包括進(jìn)行一蒸鍍工藝或是一濺鍍工藝。舉例而言，反 射層可在凹凸結(jié)構(gòu)形成于透光底層之前形成。另外，反射層也可以在凹凸結(jié)構(gòu)形成于透光 底層之后形成。在形成反射層之前，加飾元件的制作方法還包括在透光底層上形成一罩幕 層以遮蔽凹凸結(jié)構(gòu)的一部分；以及在形成反射層之后，移除罩幕層以使反射層暴露凹凸結(jié) 構(gòu)的此部分。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，上述進(jìn)行加飾工藝的方法包括將基材及配置于其上 的全像層放置于一模具中；在模具中注入一塑料材料；自模具射出本體以及全像層；以及 自全像層分離基材。在一種實(shí)施方式中，基材在本體以及全像層自模具射出的同時(shí)自全像 層分離。另外，基材也可以在本體以及全像層自模具射出之后自全像層分離。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，上述加飾工藝包括通過(guò)一模內(nèi)轉(zhuǎn)印工藝將全像層貼附 于本體的該表面上。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，上述加飾成型元件的制作方法還包括在形成黏著層之 前，在全像層上形成一圖案層。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，上述加飾成型元件的制作方法還包括在形成全像層 之前，在基材上形成一離型層以使離型層位于基材以及全像層之間；以及在形成本體之后， 將基材以及離型層自全像層上分離。綜上所述，具有全像圖案的全像層通過(guò)一加飾成型的技術(shù)形成于一元件的一本體 上。因此，全像圖案可免于損害以延長(zhǎng)其使用壽命，并改善全像層的可靠性。因此，全像層 可提供理想的防偽功能。為讓本發(fā)明的上述特征和優(yōu)點(diǎn)能更明顯易懂，下文特舉實(shí)施例，并配合所附圖式 做詳細(xì)說(shuō)明。


圖IA至圖IE說(shuō)明本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的一種加飾元件的制作方法。圖2A至圖2D說(shuō)明本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施例的一種加飾元件的制作方法。圖3A至圖3D說(shuō)明一種具有局部全像圖案的加飾元件的制作方法。圖4A以及圖4B說(shuō)明本發(fā)明的又一個(gè)實(shí)施例的一種加飾元件的局部的制造工藝。圖5A為本發(fā)明的再一個(gè)實(shí)施例的加飾元件的剖面示意圖。圖5B為復(fù)合全像圖案的俯視示意圖。其中，附圖標(biāo)記說(shuō)明如下10 滾輪12:凸起圖案100、200、300、400、500 元件110 基材120、220、320、420 全像層122、222a:離型層124、224、324 凹凸結(jié)構(gòu)
126,326 反射層130 黏著層140 本體142 表面222b,322 透光底層326，反射材料層；350:罩幕層460 油墨層C:復(fù)合全像圖案H:全像圖案
具體實(shí)施例方式圖IA至圖IE說(shuō)明本發(fā)明的一實(shí)施例的一種加飾元件的制作方法。請(qǐng)先參照 圖1A，在一基材110上形成一離型層122，其中離型層122的形成方法可以是進(jìn)行一 涂布工藝以將一離型(透明)材料涂布于基材110上。在本實(shí)施例中，基材110的材 質(zhì)可為聚對(duì)苯二甲酸乙二酯(polyethylene ter印hthalate，PET)、聚萘二甲酸乙二醇 酯(polyethylene naphthalate, PEN)、二醇變性聚乙烯對(duì)苯二 甲酸酯(polyethylene glycol-co-cyclohexane-1,4dimethanol terephthalate, PETG)、熱塑性聚胺基甲 酸酉旨(thermalplastic polyurethane, TPU)、聚胺酉旨(polyurethane，PU)、聚丙 M (polypropylene, PP)、聚碳酸酯(polycarbonate，PC)、非結(jié)晶化聚對(duì)苯二甲酸二醇酯 (amorphous polyethylene terephthalate, APET)^ M M Zj M (polyvinyl chloride, PVC)、聚苯乙烯(Polystyrene，PS)三醋酸纖維素(triacetyl cellulose, TAC)、壓克力 (polymethylmethacrylate，PMMA)、苯乙烯-甲基丙烯酸甲酯共聚物(MMA-M，MS)或環(huán)狀烯 烴聚合物(cyclo olefincopolymer, C0C)等高分子材料，或者可由兩種或兩種以上上述高 分子材料組成者等，但不以此為限。另外，基材110為可撓性的材料以利于后續(xù)工藝。離型層122可為具有熱可固化特性或是紫外光可固化特性的一透明樹(shù)脂材料。離 型層122通常是一種低表面張力膜層，其由諸如蠟、石蠟或聚硅氧等材料中的一種制備而 來(lái)，或是一種高度平滑不滲透的膜層，由諸如輻射可固化的多官能基丙烯酸酯、聚硅氧丙烯 酸酯、環(huán)氧化物、乙烯基酯、烯丙基與乙烯化物、不飽和的聚酯或其混合物等材料中的一種 制備而來(lái)。離型層120的材料可包含選自于環(huán)氧化物、聚胺酯、聚酰亞胺、聚酰胺、三聚氰胺 甲醛、脲甲醛、與酚甲醛所組成的族群的一種縮合聚合物、共聚合物、混合物或復(fù)合物。接著，請(qǐng)參照?qǐng)D1B，在離型層122上進(jìn)行如壓印工藝等的一圖案轉(zhuǎn)移工藝。在壓印 工藝期間，具有多個(gè)凸起圖案12的一滾輪10用以接觸并施壓于離型層122上以使凸起圖 案12轉(zhuǎn)移至離型層122上而形成一凹凸結(jié)構(gòu)124。凹凸結(jié)構(gòu)1 在本實(shí)施例中位于離型層 122遠(yuǎn)離基材110的一側(cè)。值得注意的是，凸起圖案12根據(jù)一預(yù)定影像的光學(xué)干涉條紋而 制作的，可具有兩個(gè)或兩個(gè)以上反射面，而不限定于圖IB所繪示的形式。另外，圖IB中所 繪示的滾輪10可由一具有凸起圖案12的平板所取代，以將預(yù)設(shè)影像的光學(xué)干涉條紋轉(zhuǎn)移 至離型層122上。具體而言，壓印工藝可以為一熱壓工藝或是其它在本領(lǐng)域中所使用的工藝，而本發(fā)明并不特別地限定。也就是說(shuō)，凹凸結(jié)構(gòu)124的形成方式并不限于圖IB所繪示的制作步 驟。另外，離型層122可通過(guò)加熱或是照射紫外光的方式加以固化，以提供一固定的圖案。 在一實(shí)施例中，離型層122的厚度實(shí)質(zhì)上為Iym至30μπι。之后，如圖IC所示，在凹凸結(jié)構(gòu)IM上形成一反射層126，以構(gòu)成一全像層120。 形成反射層126的方法可以是一蒸鍍工藝或是一濺鍍工藝。反射層1 實(shí)質(zhì)上共形于凹凸 結(jié)構(gòu)124以使反射層126反射的光線可通過(guò)干涉作用呈現(xiàn)出一全像影像。因此，凹凸圖案 124以及覆蓋于上的反射層1 在全像層120中定義出多個(gè)全像圖案H。在一實(shí)施例中，反 射層126的一材料可為鋁、銅、鎳、鋅、鉻、銀、鈦、鎢、金、鉬、錫、鎂、金屬氧化物、合金氧化物 或其所組成的族群。之后，請(qǐng)參照?qǐng)DID以及圖1E，在反射層1 上形成一黏著層130并使全像 層120貼附于一元件100的本體140上。黏著層130的材質(zhì)例如可由諸如聚丙烯酸酯 (polyacrylate)、聚甲基丙烯酸酯(polymethacrylate)、聚苯乙烯(polystyrene)、聚碳酸 酉旨(polycarbonate)、聚胺酉旨(polyurethane)、聚酉旨(polyester)、聚酷胺(polyamide)、環(huán) 氧樹(shù)脂(印oxy resin)、乙烯乙酸乙烯酯共聚合物(EVA，ethylene vinyl acetate)、熱塑 性彈性體(thermoplastic elastomer)或類(lèi)似者、或是其共聚合物(copolymer)、混合物 (blend)或復(fù)合物之一的材料所形成。具體而言，基材110可隨之被移除以形成具有全像層 120的元件100。值得一提的是，全像圖案H夾于離型層122以及本體140之間。因此，全 像圖案H不會(huì)輕易地被損害而具有理想的可靠性。在本實(shí)施例中，形成元件100的本體140的方法可以是一加飾工藝，而加飾工藝的 步驟例如以下描述。首先，將基材Iio以及設(shè)于其上的全像層120放置于一未繪示的模具 中。在此步驟中，模具可以是制作本體140的一種模型治具。然后，將一本體材料填充于未 繪示的模具中并隨之將本體140以及全像層120由未繪示的模具中射出。此時(shí)，在本體140 以及全像層120由未繪示的模具中射出的同時(shí)基材110可自全像層120上分離。另外，在 其它的實(shí)施方式中，基材110也可在本體140以及全像層120由未繪示的模具中射出之后 才自全像層120上分離。依照上述的工藝步驟進(jìn)行的工藝即可稱(chēng)為一模內(nèi)加飾工藝。在一實(shí)施例中， 上述步驟中的本體材料可以是一塑料材料，例如聚碳酸酯(polycarbonate，PC)、聚丙烯 (polypropylene,PP)、壓克力(polymethylmethacrylate，PMMA)、苯乙烯甲基丙烯酸甲酯共 聚物(MMA-St，MS)、丙烯晴-丁二烯-苯乙烯(acrylonitrile butadiene styrene，ABS)、 聚苯乙烯(polystyrene, PS)、聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酉旨(polyethylene ter印hthalate， PET)以及聚縮筌(pOlyOXymethylene，P0M)所組成的群組，但不以此為限。并且，上述工藝 步驟可以依照一傳統(tǒng)的射出成形工藝進(jìn)行。不過(guò)，本實(shí)施例的加飾工藝不限于上述制作步 驟，舉例而言，加飾工藝可以為一模內(nèi)轉(zhuǎn)印工藝(in-mold rolling process)、一層合工藝 (laminating process)、一熱成形工藝(thermoforming)、一吹模工藝(blowmolding)、一沖 壓工藝(stamping process) >一壓模工藝(compression molding)、上述工藝的組合工藝， 以將全像層120結(jié)合到元件100的本體140上。在本實(shí)施例中，元件100的本體140設(shè)有全像層120，而全像圖案H夾在離型層122 以及黏著層130之間。因此，全像圖案H可受到保護(hù)而防止被刮傷或損壞。如此一來(lái)，在元 件100被使用一段時(shí)間之后，全像圖案H仍維持清晰銳利的樣貌而容易達(dá)到辨識(shí)的作用。若采用全像圖案H作為防偽標(biāo)記，可提供理想且可靠性佳的防偽作用。此外，本實(shí)施例的全像 圖案120透過(guò)加飾工藝制作而與本體140結(jié)合，因而全像圖案120共形于本體140的一表 面142。并且，無(wú)論本體140的形狀為何，全像圖案140都可形成于其表面142上。也就是 說(shuō)，全像圖案120可緊密地貼附于任何形態(tài)的表面上，例如一曲面、一粗糙面或是一尖銳的 表面，而使全像層120的實(shí)用性大幅地提高。也因此，具有全像圖案H的元件100可擁有多 樣化的設(shè)計(jì)。圖2A至圖2D說(shuō)明本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施例的一種加飾元件的制作方法。請(qǐng)參照?qǐng)D 2A，在本實(shí)施例中，一離型層222a、一耐久層222b以及一反射層1 依序地被形成于基材 110上?；?10可以是一 PC基材、一 PET基材或是上述實(shí)施例所述的材料構(gòu)成的基材。 反射層126的一材料可為鋁、銅、鎳、鋅、鉻、銀、鈦、鎢、金、鉬、錫、鎂、金屬氧化物、合金氧化 物或其所組成的族群。在此，離型層22 用以暫時(shí)地接合耐久層222b以及基材110，而在 后續(xù)的工藝中將由耐久層222b上分離。耐久層222b例如可以是一熱固化材料或是一紫外 光可固化材料。一般來(lái)說(shuō)，離型層22 的材質(zhì)例如是硅氧烷或是硅膠等以提供暫時(shí)接合的 作用。在一實(shí)施例中，離型層122的厚度可以為Iym至30μπι。隨后，請(qǐng)參照?qǐng)D2Β，在基材110上進(jìn)行一圖案轉(zhuǎn)移工藝以形成一全像層220。在此 步驟中，一凹凸結(jié)構(gòu)2Μ將形成于耐久層222b的一表面(未繪示)上，而反射層1 則共 形于凹凸結(jié)構(gòu)224。具體來(lái)說(shuō)，圖案轉(zhuǎn)移工藝可以是一般壓印(imprinting)工藝、熱壓印 (hot embossing)工藝等工藝。與前述實(shí)施例的壓印工藝相似地，具有多個(gè)凸起圖案的一平 板或是一滾輪在本實(shí)施例中也被用以轉(zhuǎn)移圖案，其中這些凸起圖案是根據(jù)一預(yù)設(shè)影像的光 學(xué)干涉條紋制作而成的。換言之，凹凸結(jié)構(gòu)2M及覆蓋其上的反射層1 共同構(gòu)成多個(gè)全 像圖案H。接著，請(qǐng)同時(shí)參照?qǐng)D2C與圖2D，在全像層220上形成一黏著層130并進(jìn)行一加飾 工藝以完成圖2D所繪示的元件200。本實(shí)施例所采用的加飾工藝可采用前述實(shí)施例所提及 的工藝。亦即，設(shè)有離型層22 、全像層220以及黏著層130的基材110可被放置于一模具 中，并且將一熱熔的塑料材料注入于模具中以進(jìn)行加飾工藝。如此一來(lái)，全像層220可緊密 地配置于元件200的一本體140的一表面142上。隨之，進(jìn)行一射出工藝以將本體140射 出并使離型層22 自全像層220上分離。值得一提的是，離型層22 的設(shè)置在本實(shí)施例 中有助于將基材110自全像層220上分離。尤其是，元件200可通過(guò)進(jìn)行一模內(nèi)轉(zhuǎn)印工藝 的方式形成，以將全像層220結(jié)合于本體140上。在本實(shí)施例中，加飾工藝有助于透過(guò)黏著層130緊密地將全像層220結(jié)合至本體 140的表面142上以使全像層220具有良好的可靠性。在一實(shí)施例中，全像層220可通過(guò) 加飾工藝而嵌入于本體140中，且全像圖案H被夾于耐久層22 以及本體140之間。因 此，全像圖案H不容易被刮傷或是損壞。再者，全像層220共形于本體140的表面142以使 得表面142可以為一平面或是一非平面。整體而言，相較于現(xiàn)有的將具有全像圖案的紙貼 附于一元件的一平坦表面上的設(shè)計(jì)而言，本實(shí)施例的設(shè)計(jì)有助于提高元件200的設(shè)計(jì)多樣 性，且本實(shí)施例的全像層220具有較佳的可靠性。在其它的實(shí)施方式中，反射層1 可以局部地形成于基材110上以制作一局部全 像圖案。特別是，圖3A至圖3D說(shuō)明一種具有局部全像圖案的加飾元件的制作方法。請(qǐng)參照?qǐng)D3A，提供一基材110以及配置其上的一透光底層322。此處的透光底層322可由以上所描述的工藝加以制作而具有一凹凸結(jié)構(gòu)324。此外，一離型層(未繪示)可 配置于透光底層322與基材110之間，即如圖2B中所繪示，或是透光底層322自身即為一
離型層。另外，在本步驟中，在透光底層322上形成一罩幕層350以遮蔽透光底層322的一 部分表面。罩幕層350的材質(zhì)可以是一聚合體材料，其包括有聚胺酯(polyurethane)、壓克 力(polymethylmethacrylate,PMMA)、環(huán)氧豐對(duì)月旨(epoxyresin)、聚酉旨(polyester)或上述材 料的一組合。此外，通過(guò)一蒸鍍工藝或是一濺鍍工藝在基材110上形成一反射材料層326’。 在本實(shí)施例中，反射材料層326’例如是共形地覆蓋透光底層322被罩幕層350所暴露出來(lái) 的另一部分表面以及覆蓋罩幕層350。然后，請(qǐng)參照?qǐng)D3B，移除罩幕層350以形成局部暴露出透光底層322的一反射層 326。在本實(shí)施例中，反射層326與凹凸結(jié)構(gòu)3M共同形成多個(gè)全像圖案H。反射層3 局 部地配置于基材110上以使全像圖案H局部地設(shè)置于全像層320中。接著，請(qǐng)參照?qǐng)D3C與圖3D，在全像層320上形成黏著層130，并進(jìn)行以上實(shí)施例所 描述的加飾工藝以形成元件300，其具有本體140以及本體140表面上的全像層320。本實(shí) 施例與上述實(shí)施例相仿，全像層320可以通過(guò)黏著層130配置于本體140上。不過(guò)，本實(shí)施 例中，全像圖案H僅局部地分布于本體140的表面，而有助于提高本體140的設(shè)計(jì)多樣性。除了全像圖案外，其它的加飾圖案，例如油墨圖案等，也可以形成于元件的表面， 而其對(duì)應(yīng)的制作方法例如繪示于圖4A與圖4B中。圖4A以及圖4B說(shuō)明本發(fā)明的又一個(gè)實(shí) 施例的一種加飾元件的局部工藝。請(qǐng)參照?qǐng)D4A，提供基材110以及配置其上的全像層420。 此處的全像層420可以是前述實(shí)施例所描述的全像層120、220或是320。亦即，全像層420 是透過(guò)以上所描述的工藝制作而成的，而一離型層(未繪示)可以選擇性地配置于基材110 與全像層420之間(即如圖2B所示)。另外，在全像層420上形成一油墨層460，其中油墨 層460可以是彩色油墨層、黑色油墨層或是白色油墨層等以形成所需的油墨圖案。接著，請(qǐng)參照?qǐng)D4B，全像層420以及油墨層460通過(guò)一加飾工藝被貼合于一元件 400的一本體140上。具體而言，全像層420與油墨層460是通過(guò)一黏著層130貼附于本體 140上。加飾工藝的相關(guān)步驟可以參照前述實(shí)施例所提及的描述因而元件400通過(guò)在加飾 工藝中同時(shí)地射出本體140、全像層140以及油墨層460而形成。另外，元件400可以通過(guò) 模內(nèi)加飾工藝的進(jìn)行以將全像層420以及油墨層460結(jié)合至本體140。在其它實(shí)施例中，可 利用熱印蓋法(hot stamping)、層合法或熱轉(zhuǎn)印法，將具有全像層420以及油墨層460的薄 膜貼附于本體140上，以構(gòu)成元件400。因此，元件400同時(shí)具有全像圖案H及油墨圖案。圖5A為本發(fā)明的再一個(gè)實(shí)施例的加飾元件的剖面示意圖，而圖5B為復(fù)合全像圖 案的俯視示意圖。請(qǐng)參照?qǐng)D5A，元件500的制作方式例如結(jié)合了前述圖3A以及圖;3B的制 作步驟。也就是說(shuō)，全像層320以及油墨層460通過(guò)黏著層130共形地貼附于本體140上。全像層320的全像圖案H局部地分布于本體140表面，使得油墨層460可在未被 覆蓋反射層326的凹凸結(jié)構(gòu)3M之間暴露出來(lái)。所以，全像圖案H與油墨層460可以構(gòu)成 如圖5B中所繪示的復(fù)合全像圖案C。使用者觀看復(fù)合全像圖案C時(shí)可以看到局部的全像圖 案H以及局部的油墨層460。不過(guò)，全像圖案H與油墨層460可隨設(shè)計(jì)者的需求而調(diào)整其相 對(duì)位置及面積大小以形成所需的復(fù)合全像圖案C，而圖5B僅用以示意地說(shuō)明而非限定本發(fā) 明。換言之，在不同的設(shè)計(jì)需求下，本發(fā)明可使元件500表面具有各種圖案以呈現(xiàn)不同的外觀。綜上所述，本發(fā)明的全像圖案通過(guò)一加飾工藝形成于一元件的一本體上。全像圖 案共形于元件本體的表面以提升元件設(shè)計(jì)的多樣性。此外，全像層所構(gòu)成的全像圖案夾于 透光底層以及元件本體之間而可避免外界的損壞。因此，提升了全像層的可靠性與使用壽 命而提供較佳的防偽作用。雖然本發(fā)明已以實(shí)施例公開(kāi)如上，然其并非用以限定本發(fā)明，任何所屬技術(shù)領(lǐng)域 的技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍的前提下，當(dāng)可做些計(jì)的更動(dòng)與潤(rùn)飾，故本發(fā)明 的保護(hù)范圍當(dāng)以后附的權(quán)利要求書(shū)所界定的為準(zhǔn)。
權(quán)利要求
1.一種加飾元件，包括 一本體；一全像層，配置于該本體上并包括一透光底層以及一反射層，該透光底層具有一凹凸 結(jié)構(gòu)，而該反射層共形地覆蓋該凹凸結(jié)構(gòu)以形成多個(gè)全像圖案，其中該反射層位于該本體 以及該透光底層之間；以及一黏著層，配置于該本體的一表面以及該全像層之間。
2.如權(quán)利要求1所述的加飾元件，其中該表面為一非平面，而該全像層共形于該非平
3.如權(quán)利要求1所述的加飾元件，其中該透光底層為一耐久層。
4.如權(quán)利要求1所述的加飾元件，其中該透光底層為一離型層。
5.如權(quán)利要求1所述的加飾元件，其中該加飾元件還包括一油墨層，所述油墨層配置 于該透光底層以及該黏著層之間。
6.如權(quán)利要求1所述的加飾元件，其中該反射層的材質(zhì)包括由鋁、銅、鎳、鋅、鉻、銀、 鈦、鎢、金、鉬、錫、鎂所組成的族群。
7.一種加飾元件的制作方法，包括在一基材上形成一全像層，且該全像層具有多個(gè)全像圖案； 在該全像層上形成遠(yuǎn)離該基材的一黏著層；以及進(jìn)行一加飾工藝形成一本體，以使該全像層通過(guò)該黏著層共形地配置于該本體的一表
8.如權(quán)利要求7所述的加飾成型元件的制作方法，其中在該基材上形成該全像層的方 法包括在該基材上形成一透光底層；在該透光底層上進(jìn)行一圖案轉(zhuǎn)移工藝以形成遠(yuǎn)離該基材的一凹凸結(jié)構(gòu)；以及 在該透光底層上形成一反射層，且該反射層共形地覆蓋該凹凸結(jié)構(gòu)。
9.如權(quán)利要求8所述的加飾成型元件的制作方法，其中在該透光底層上進(jìn)行該圖案轉(zhuǎn) 移工藝的方法包括在該透光底層上進(jìn)行一壓印工藝以形成遠(yuǎn)離該基材的該凹凸結(jié)構(gòu)。
10.如權(quán)利要求8所述的加飾成型元件的制作方法，其中在該凹凸結(jié)構(gòu)上形成該反射 層的方法包括進(jìn)行一蒸鍍工藝。
11.如權(quán)利要求8所述的加飾成型元件的制作方法，其中在該凹凸結(jié)構(gòu)上形成該反射 層的方法包括進(jìn)行一濺鍍工藝。
12.如權(quán)利要求8所述的加飾成型元件的制作方法，其中該反射層在該凹凸結(jié)構(gòu)形成 于該透光底層之前形成。
13.如權(quán)利要求8所述的加飾成型元件的制作方法，其中該反射層在該凹凸結(jié)構(gòu)形成 于該透光底層之后形成。
14.如權(quán)利要求13所述的加飾成型元件的制作方法，其中該制作方法還包括在形成該反射層之前，在該透光底層上形成一罩幕層以遮蔽該凹凸結(jié)構(gòu)的一部分；以及在形成該反射層之后，移除該罩幕層以使該反射層暴露該凹凸結(jié)構(gòu)的該部分。
15.如權(quán)利要求7所述的加飾成型元件的制作方法，其中進(jìn)行該加飾工藝的方法包括將該基材及配置于其上的全像層放置于一模具中； 在該模具中注入一塑料材料； 自該模具射出該本體以及該全像層；以及 自該全像層分離該基材。
16.如權(quán)利要求15所述的加飾成型元件的制作方法，其中該基材在該本體以及該全像 層自該模具射出的同時(shí)自該全像層分離。
17.如權(quán)利要求15所述的加飾成型元件的制作方法，其中該基材在該本體以及該全像 層自該模具射出之后自該全像層分離。
18.如權(quán)利要求7所述的加飾成型元件的制作方法，其中該加飾工藝包括通過(guò)一轉(zhuǎn)印 工藝將該全像層貼附于該本體的該表面上。
19.如權(quán)利要求7所述的加飾成型元件的制作方法，其中該制作方法還包括在形成該 黏著層之前，在該全像層上形成一圖案層。
20.如權(quán)利要求7所述的加飾成型元件的制作方法，其中該制作方法還包括在形成該全像層之前，在該基材上形成一離型層以使該離型層位于該基材以及該全像 層之間；以及在形成該本體之后，將該基材以及該離型層自該全像層上分離。
全文摘要
一種加飾元件及其制作方法。加飾元件包括一本體、一全像層以及一黏著層。全像層配置于本體上并包括一透光底層以及一反射層。透光底層具有一凹凸結(jié)構(gòu)，而反射層共形地覆蓋該凹凸結(jié)構(gòu)以形成多個(gè)全像圖案，其中反射層位于本體以及透光底層之間。黏著層配置于本體的一表面以及全像層之間。本發(fā)明使具有全像圖案的全像層通過(guò)一加飾成型的技術(shù)形成于元件的本體上，與現(xiàn)有的貼附式的全像圖案相比，本發(fā)明的全像圖案可免于損害以延長(zhǎng)其使用壽命，具有更高的可靠性，且元件的本體的表面可為非平面，因此可提供更為理想的防偽功能。
文檔編號(hào)B29C45/14GK102129813SQ201010004649
公開(kāi)日2011年7月20日 申請(qǐng)日期2010年1月20日 優(yōu)先權(quán)日2010年1月20日
發(fā)明者廖志遠(yuǎn), 黃明鴻 申請(qǐng)人:鑼洋科技股份有限公司