專利名稱：微透鏡陣列制備裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種微透鏡陣列的制備裝置，尤其涉及一種可改善影像感應(yīng)器感光靈敏度的微透鏡陣列的制備裝置。
背景技術(shù)：
微透鏡陣列(Micro Lens Array ;MLA)廣泛應(yīng)用于影像感應(yīng)器當中，例如電荷耦合元件(Charge-coupled Device ；CCD)和互補金屬氧化物半導體(Complementary Metal Oxide Semiconductor ；CMOS)影像感應(yīng)器，用于改善其感光靈敏度。采用UV固化材料制作微透鏡陣列，一般在基材表面涂布一層UV固化材料，通過壓印于基材表面成型微透鏡陣列，最后通過UV固化使得微透鏡固定于基材表面。使用該方法制備微透鏡陣列，步驟復(fù)雜且成本高。

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此，有必要提供一種制備步驟簡單且成本低廉的微透鏡陣列制備裝置。一種微透鏡陣列制備裝置，用于在基材表面成形微透鏡陣列，所述制備裝置包括一張緊裝置、一壓印滾輪和一冷卻設(shè)備，所述張緊裝置張緊固定基材于壓印滾輪表面并帶動基材運動；所述壓印滾輪設(shè)置有多個加熱條和壓印孔，基材與壓印滾輪貼合部分經(jīng)加熱條加熱成軟化狀態(tài)后被吸入壓印孔中；所述冷卻設(shè)備用于持續(xù)固化受張緊裝置帶動與壓印孔脫離的基材部分而在基材表面成型微透鏡陣列。本發(fā)明提供一種微透鏡陣列制備裝置，該制備裝置結(jié)構(gòu)簡單且相比現(xiàn)有的使用UV 固化材料制備微透鏡陣列步驟簡單，成本低廉。


圖1為本發(fā)明一較佳實施方式微透鏡陣列制備裝置的示意圖。圖2為圖1所示微透鏡陣列制備裝置內(nèi)壓印滾輪的立體圖。圖3為圖1所示微透鏡陣列制備裝置內(nèi)壓印滾輪的剖視圖。主要元件符號說明微透鏡陣列制備裝置100
基材200
張緊裝置10
第一滾輪11
第二滾輪12
壓印滾輪20
加熱條21
壓印孔22
立而蓋23
吸氣孔24冷卻設(shè)備30
具體實施例方式請參閱圖1，為本發(fā)明一較佳實施方式微透鏡陣列制備裝置100的示意圖。所述制備裝置100用于制備基材200表面的微透鏡陣列，其包括一張緊裝置10、一壓印滾輪20和一冷卻設(shè)備30。所述張緊裝置10用于張緊基材200使之緊密貼合于壓印滾輪20表面并帶動基材200相對壓印滾輪20運動，所述壓印滾輪20用于加熱并壓印基材200使其表面成型微透鏡陣列，所述冷卻設(shè)備30用于冷卻固化基材200表面的微透鏡陣列。所述張緊裝置10包括平行設(shè)置于壓印滾輪20兩端的第一滾輪11和第二滾輪12。 所述第一滾輪11和第二滾輪12分別如圖1中箭頭所示方向轉(zhuǎn)動，其轉(zhuǎn)動速度同為V。所述基材200兩端分別與第一滾輪11和第二滾輪12接觸，中間貼合于壓印滾輪20表面。所述基材200受第一滾輪11和第二滾輪12共同作用而相對壓印滾輪20運動。同時，通過調(diào)整轉(zhuǎn)動速度V的大小可以調(diào)節(jié)基材200的運動速度及張緊程度，可用來調(diào)節(jié)貼合于壓印滾輪 20表面基材200部分的加熱時間長度和被吸引時間長度，進而改變基材200表面壓印的微透鏡大小和深度。請一并參閱圖2和圖3，分別為圖1所示微透鏡陣列制備裝置100內(nèi)壓印滾輪20 的立體圖和剖視圖。所述壓印滾輪20為一空心圓柱體，其內(nèi)壁設(shè)置有多個加熱條21，所述加熱條21平行壓印滾輪20軸心方向設(shè)置。所述壓印滾輪20外壁均勻開設(shè)有多個壓印孔 22。所述壓印滾輪20各設(shè)置一端蓋23，所述端蓋23開設(shè)有一吸氣孔24，所述吸氣孔24連通外部吸氣設(shè)備(圖中未示)和壓印滾輪20外壁上的壓印孔22。所述冷卻設(shè)備30設(shè)置于第一滾輪11和壓印滾輪20之間。在本實施方式當中，冷卻設(shè)備30為一吹氣冷卻設(shè)備，其向外輸出特定溫度的氣體，使得遠離壓印滾輪20運動的基材200被冷卻而固化。工作時，冷卻設(shè)備30和吸氣設(shè)備分別處于工作狀態(tài)，第一滾輪11和第二滾輪12 同時轉(zhuǎn)動使得基材200相對壓印滾輪20運動。所述基材200與壓印滾輪20貼合部分經(jīng)加熱條21加熱成軟化狀態(tài)后，被吸入壓印孔22后成型為微透鏡。隨著第一滾輪11和第二滾輪12繼續(xù)轉(zhuǎn)動，成型為微透鏡的基材200脫離壓印滾輪20，冷卻設(shè)備30使得該部分冷卻固化。如此循環(huán)，基材200不同部分依次被加熱、吸入成型后冷卻成為微透鏡，最終使得基材 200表面成型微透鏡陣列。
權(quán)利要求
1.一種微透鏡陣列制備裝置，用于在基材表面成形微透鏡陣列，其特征在于所述制備裝置包括一張緊裝置、一壓印滾輪和一冷卻設(shè)備，所述張緊裝置張緊固定基材于壓印滾輪表面并帶動基材運動；所述壓印滾輪設(shè)置有多個加熱條和壓印孔，基材與壓印滾輪貼合部分經(jīng)加熱條加熱成軟化狀態(tài)后被吸入壓印孔中而在基材表面成型微透鏡陣列；所述冷卻設(shè)備用于持續(xù)固化受張緊裝置帶動與壓印孔脫離的微透鏡陣列。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微透鏡陣列制備裝置，其特征在于所述張緊裝置包括平行設(shè)置于壓印滾輪兩端的第一滾輪和第二滾輪，所述兩滾輪旋轉(zhuǎn)使得基材張緊固定于壓印滾輪表面并相對壓印滾輪運動。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的微透鏡陣列制備裝置，其特征在于所述第一滾輪和第二滾輪的轉(zhuǎn)動速度相同，可通過調(diào)解第一滾輪和第二滾輪的轉(zhuǎn)動速度來調(diào)整基材的運動速度及張緊程度。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微透鏡陣列制備裝置，其特征在于所述壓印滾輪為一空心圓柱體，所述多個加熱條平行滾輪軸線設(shè)置于滾輪的內(nèi)壁上。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的微透鏡陣列制備裝置，其特征在于所述壓印孔陣列開設(shè)于壓印滾輪外壁上。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的微透鏡陣列制備裝置，其特征在于所述壓印滾輪兩端開設(shè)有吸氣孔，所述制備裝置還包括一吸氣設(shè)備，所述吸氣孔連通壓印孔和該吸氣設(shè)備。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微透鏡陣列制備裝置，其特征在于所述冷卻設(shè)備向外輸出特定溫度的氣體。
全文摘要
本發(fā)明提供一種微透鏡陣列制備裝置，用于在基材表面成形微透鏡陣列，其特征在于所述制備裝置包括一張緊裝置、一壓印滾輪和一冷卻設(shè)備，所述張緊裝置張緊固定基材于壓印滾輪表面并帶動基材運動；所述壓印滾輪設(shè)置有多個加熱條和壓印孔，基材與壓印滾輪貼合部分經(jīng)加熱條加熱成軟化狀態(tài)后被吸入壓印孔中；所述冷卻設(shè)備用于持續(xù)固化受張緊裝置帶動與壓印孔脫離的基材部分而在基材表面成型微透鏡陣列。
文檔編號B29C43/02GK102233634SQ20101015850
公開日2011年11月9日 申請日期2010年4月28日 優(yōu)先權(quán)日2010年4月28日
發(fā)明者陳祥弘 申請人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司, 鴻海精密工業(yè)股份有限公司