本發(fā)明涉及一種貼膜治具，具體涉及一種光刻版保護膜貼膜治具，屬于半導(dǎo)體封裝光刻曝光工藝。

背景技術(shù)：

1、光刻是一種圖形復(fù)印和化學(xué)腐蝕相結(jié)合的精密表面加工綜合性技術(shù)。是用照相復(fù)印的方法將光刻版上的圖形經(jīng)過紫外光照射，顯影后在膠膜上形成相應(yīng)圖形的過程。該過程對光刻版上圖形的清晰性和完整度有著較高的要求，因此對光刻版上鉻層圖形的保護尤為重要。

2、目前，光刻版圖形的本體表面會蒙貼一層保護膜，用以隔絕灰塵顆粒對鉻層圖形的污染。當(dāng)某塊光刻版重復(fù)曝光作業(yè)達到膜壽命極限或受其他人為因素影響，保護膜會發(fā)生變色，褶皺，破損等異常，影響光刻結(jié)果；此時需更換光刻版保護膜。一般情況下，需將光刻版寄回廠家重新進行清潔后貼膜，并檢測正常后再寄回客戶手中。這一過程會花費大量時間，對產(chǎn)品產(chǎn)能進程造成很大影響。

3、因此，有必要提供一種光刻版保護膜貼膜治具。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、為解決現(xiàn)有技術(shù)的不足，本發(fā)明的目的在于提供一種光刻版保護膜貼膜治具。

2、為了實現(xiàn)上述目標(biāo)，本發(fā)明采用如下的技術(shù)方案：

3、一種光刻版保護膜貼膜治具，包括底托和蓋板；

4、所述底托的頂面設(shè)有保護膜槽，

5、環(huán)保護膜槽，底托的頂面設(shè)有若干用于限位光刻版的限位柱；

6、環(huán)保護膜槽，底托的頂面設(shè)有若干彈簧柱，所述彈簧柱用于頂撐光刻版；

7、所述蓋板的底面設(shè)有若干對應(yīng)彈簧柱的受力柱。

8、上述限位柱至少為3根，且其中2根限位柱的連線與保護膜槽的邊平行，另1根限位柱置于保護膜槽的相鄰邊側(cè)。

9、上述限位柱為4根，且其中2根限位柱的連線與保護膜槽的邊平行，另2根限位柱的連線與保護膜槽的相鄰邊平行。

10、上述蓋板為矩形的框架。

11、上述所述彈簧柱為4根，分別置于底托的端角處。

12、本發(fā)明的有益之處在于：

13、本發(fā)明的一種光刻版保護膜貼膜治具，通過保護膜槽限定待貼的保護膜，通過限位柱定位待貼膜的光刻版，利用彈簧柱彈性的壓合光刻版，使光刻版與保護膜有效貼合并便于光刻板的取出。

14、本發(fā)明的一種光刻版保護膜貼膜治具，提高了光刻版的貼膜效率和準(zhǔn)確率，提高光刻版的使用率，解決產(chǎn)線因光刻版外送貼膜造成的產(chǎn)能和時間損失，滿足產(chǎn)線產(chǎn)能要求，具有很強的實用性和廣泛地適用性。

技術(shù)特征：

1.一種光刻版保護膜貼膜治具，其特征在于，包括底托和蓋板；

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的貼膜治具，其特征在于，所述限位柱至少為3根，且其中2根限位柱的連線與保護膜槽的邊平行，另1根限位柱置于保護膜槽的相鄰邊側(cè)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的貼膜治具，其特征在于，所述限位柱為4根，且其中2根限位柱的連線與保護膜槽的邊平行，另2根限位柱的連線與保護膜槽的相鄰邊平行。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的貼膜治具，其特征在于，所述蓋板為矩形的框架。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的貼膜治具，其特征在于，所述彈簧柱為4根，分別置于底托的端角處。

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明的一種光刻版保護膜貼膜治具，包括底托和蓋板；底托的頂面設(shè)有保護膜槽，環(huán)保護膜槽，底托的頂面設(shè)有若干用于限位光刻版的限位柱和若干彈簧柱，彈簧柱用于頂撐光刻版；蓋板的底面設(shè)有若干對應(yīng)彈簧柱的受力柱。通過保護膜槽限定待貼的保護膜，通過限位柱定位待貼膜的光刻版，利用彈簧柱彈性的壓合光刻版，使光刻版與保護膜有效貼合并便于光刻板的取出。其提高了光刻版的貼膜效率和準(zhǔn)確率，提高光刻版的使用率，解決產(chǎn)線因光刻版外送貼膜造成的產(chǎn)能和時間損失，滿足產(chǎn)線產(chǎn)能要求，具有很強的實用性和廣泛地適用性。

技術(shù)研發(fā)人員：蔣志強,張文龍
受保護的技術(shù)使用者：江蘇芯德半導(dǎo)體科技股份有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20240412
技術(shù)公布日：2024/12/10