專利名稱：等離子弧切割機割炬水幕氣幕裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種等離子弧切割設(shè)備，尤其是一種等離子弧切割機割炬水幕氣幕裝置。
背景技術(shù)：
通常在等離子弧現(xiàn)場依靠抽風(fēng)來抽除等離子弧切割時的有害煙塵，單靠抽風(fēng)不能在切割現(xiàn)場完全消除有害煙塵，尤其是煙塵中的重金屬粉末很難抽除，至于巨大的切割噪音和有害的輻射紫外光則無法減輕，目前國內(nèi)尚無技術(shù)解決上述問題。

發(fā)明內(nèi)容
為了解決這些問題，本實用新型設(shè)計了一種等離子弧切割機割炬水幕氣幕裝置，該裝置能在水上干式等離子弧切割，并用水吸收、過濾有害煙塵，尤其是重金屬粉末基本上可完全消除，同時可減輕噪音、輻射紫外光和提高切割質(zhì)量，當(dāng)在水下切割時，在割炬外生成一層均勻的氣幕，并保持一定的氣壓和氣流量，將割炬周圍的水全部排開，使割炬實現(xiàn)在水下切割，用本裝置生成氣幕，經(jīng)此減輕或消除有害煙塵、噪音和輻射紫外光。
本實用新型解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是一種等離子弧切割機割炬水幕氣幕裝置，具有夾緊體、水幕生成筒和氣幕生成筒，夾緊體與割炬密封連接，水幕生成筒與割炬間形成一狹縫，為均勻地生成水幕，水幕生成筒一端設(shè)置有至少6個進水小孔，水幕生成筒與割炬間形成狹縫通過進水小孔與夾緊體上的存水腔和進水口連通，氣幕生成筒與水幕生成筒間形成一狹縫，為均勻地生成氣幕，氣幕生成筒一端設(shè)置有至少6個進氣小孔，氣幕生成筒與水幕生成筒間形成狹縫通過進氣小孔與夾緊體上的進氣通道和進氣口連通。
在本實用新型的最佳實施中水幕生成筒一端設(shè)置24個進水小孔，氣幕生成筒一端設(shè)置24個進氣小孔。
在本實用新型的最佳實施中水幕生成筒與割炬間的狹縫寬度為1～2.0mm，氣幕生成筒與水幕生成筒間的狹縫寬度為1～3.0mm。
更進一步地氣幕生成筒、水幕生成筒和割炬三者的中心軸重合。
本實用新型的有益效果是實現(xiàn)等離子弧切割在既可在水下進行，又可在水上干式進行，減少切割材料的形跡，提高切割質(zhì)量，吸收消除了有害煙塵、噪音和輻射紫外光，從根本上改善了切割環(huán)境。
以下結(jié)合附圖和實施例對本實用新型進一步說明。


圖1是本實用新型結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2是本實用新型的軸向視圖。
圖中1.進氣口，2.進水口，3.氣幕生成筒，4.水幕生成筒，5.進氣小孔，6.進水小孔，7.割炬，8.狹縫，9.夾緊體，10.進氣通道，11.存水腔，12.狹縫。
具體實施方式
在
圖1、圖2所示的本實用新型，具有夾緊體9、水幕生成筒4和氣幕生成筒3，夾緊體9與割炬7密封連接，水幕生成筒4與割炬7間形成一狹縫12，狹縫8通過進水小孔6與夾緊體9上的存水腔11和進水口2連通，氣幕生成筒3與水幕生成筒4間形成一狹縫8，狹縫8通過進氣小孔5與夾緊體9上的進氣通道10和進氣口1連通，水幕生成筒4一端設(shè)置24個φ3進水小孔6，氣幕生成筒3一端設(shè)置24個φ3進氣小孔5，水幕生成筒4與割炬7間的狹縫12寬度為1～2.0mm，氣幕生成筒3與水幕生成筒4間的狹縫8寬度為1～3.0mm，氣幕生成筒3、水幕生成筒4和割炬7三者的中心軸重合。
水下切割時，壓縮空氣從進氣口1進入，通過進氣通道10，經(jīng)由均布在氣幕生成筒3的進氣小孔5進入與水幕生成筒之間4的狹縫8，生成一個均勻的氣幕，自水幕生成筒4的外側(cè)噴出，而割炬7位于中央軸線上，氣幕將其周圍的水全部排開，形成一個放電空間，實現(xiàn)正常切割。
水上切割時，壓力水自進水口2進入，通過存水腔11，經(jīng)由均布在水幕生成筒4的進水小孔6進入與割炬7之間的狹縫12，生成一個均勻的水幕，自水幕生成筒4與割炬7壓套之間的狹縫12噴出，割炬切割弧位于水幕中央軸處，水幕起到消聲、消塵和遮光作用。
權(quán)利要求1.一種等離子弧切割機割炬水幕氣幕裝置，其特征在于具有夾緊體(9)、水幕生成筒(4)和氣幕生成筒(3)，夾緊體(9)與割炬(7)密封連接，水幕生成筒(4)與割炬(7)間形成一狹縫(12)，水幕生成筒(4)一端設(shè)置有至少6個進水小孔(6)，狹縫(12)通過進水小孔(6)與夾緊體(9)上的存水腔(11)和進水口(2)連通，氣幕生成筒(3)與水幕生成筒(4)間形成一狹縫(8)，氣幕生成筒(3)一端設(shè)置有至少6個進氣小孔(5)，狹縫(8)通過進氣小孔(5)與夾緊體(9)上的進氣通道(10)和進氣口(1)連通。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子弧切割機割炬水幕氣幕裝置，其特征是所述水幕生成筒(4)一端設(shè)置24個進水小孔(6)，氣幕生成筒(3)一端設(shè)置24個進氣小孔(5)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子弧切割機割炬水幕氣幕裝置，其特征是所述水幕生成筒(4)與割炬(7)間的狹縫(12)寬度為1～2.0mm，氣幕生成筒(3)與水幕生成筒(4)間的狹縫(8)寬度為1～3.0mm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子弧切割機割炬水幕氣幕裝置，其特征是所述氣幕生成筒(3)、水幕生成筒(4)和割炬(7)三者的中心軸重合。
專利摘要本實用新型涉及一種等離子弧切割設(shè)備，尤其是一種等離子弧切割機割炬水幕氣幕裝置。該裝置具有夾緊體、水幕生成筒和氣幕生成筒，夾緊體與割炬密封連接，水幕生成筒與割炬間形成一狹縫，水幕生成筒一端設(shè)置有至少6個進水小孔，狹縫通過進水小孔與夾緊體上的存水腔和進水口連通，氣幕生成筒與水幕生成筒間形成一狹縫，氣幕生成筒一端設(shè)置有至少6個進氣小孔。本實用新型的有益效果是實現(xiàn)等離子弧切割在既可在水下進行，又可在水上干式進行，減少切割材料的形跡，提高切割質(zhì)量，吸收消除了有害煙塵、噪音和輻射紫外光，從根本上改善了切割環(huán)境。
文檔編號F23D14/44GK2662083SQ200320120498
公開日2004年12月8日 申請日期2003年11月7日 優(yōu)先權(quán)日2003年11月7日
發(fā)明者陳苗蓀 申請人:陳苗蓀