專利名稱：一種制備點(diǎn)陣排列型散熱結(jié)構(gòu)的裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及散熱裝置領(lǐng)域。
背景技術(shù)：
電子產(chǎn)品、機(jī)械、電力、通信、化工等諸多領(lǐng)域，在產(chǎn)品的加工、生產(chǎn)的過程中，以及使用的過程中，都會(huì)產(chǎn)生數(shù)量不同的熱量。產(chǎn)生的熱量如果不能得到有效的散發(fā)，對產(chǎn)品的加工及使用，均有可能造成影響。隨著現(xiàn)代科技的迅速發(fā)展，電子產(chǎn)品運(yùn)行速度的不斷提高，對于散熱效果的要求也越來越高。為了提高散熱效果，需運(yùn)用更有效的散熱技術(shù)，在相同的散熱效果下減小體積或在相同的體積下提高散熱效果。因此，目前迫切需要本領(lǐng)域技術(shù)人員解決的問題是，設(shè)計(jì)具有高散熱效果的結(jié)構(gòu)裝置，以滿足諸多領(lǐng)域?qū)Ω呱嵝阅艿囊蟆?br>
實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的是提供一種制備點(diǎn)陣排列型散熱結(jié)構(gòu)的裝置及方法，利用布局點(diǎn)陣的方式，來擴(kuò)大散熱結(jié)構(gòu)的散熱面積。本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案是—種制備點(diǎn)陣排列型散熱結(jié)構(gòu)的裝置，主要包括以下結(jié)構(gòu)底座，它是用以固定散熱基材的結(jié)構(gòu)；布局器，它設(shè)置在前述的底座上方，設(shè)置有盛放散熱介質(zhì)的熔槽，以及用以導(dǎo)出散熱介質(zhì)的布局器出口；旋轉(zhuǎn)支架，它和前述的布局器相連接，是用以使布局器旋轉(zhuǎn)以及在底座上方發(fā)生位移的結(jié)構(gòu)；開關(guān)結(jié)構(gòu)，它設(shè)置在布局器出口處，是用以控制散熱介質(zhì)是否導(dǎo)出的控制結(jié)構(gòu)；控制組件，它與布局器和旋轉(zhuǎn)支架相連接，用以控制布局器的開啟和閉合，以及控制布局器在旋轉(zhuǎn)支架上的旋轉(zhuǎn)和位移狀況。優(yōu)選的，所述的散熱基材為石墨膜片或石墨烯膜片、金屬體、散熱陶瓷中其中之一的導(dǎo)熱材料。優(yōu)選的，所述的開關(guān)結(jié)構(gòu)通過電磁閥來實(shí)現(xiàn)散熱介質(zhì)是否在布局器出口處導(dǎo)出。優(yōu)選的，包括旋轉(zhuǎn)的轉(zhuǎn)軸，以及和轉(zhuǎn)軸相連，跟隨轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動(dòng)的轉(zhuǎn)桿；所述的布局器連接在轉(zhuǎn)軸上，并能在轉(zhuǎn)軸上發(fā)生位移。優(yōu)選的，布局器中的熔槽所盛放的散熱介質(zhì)為金屬導(dǎo)熱材料或非金屬導(dǎo)熱材料； 對于金屬導(dǎo)熱材料，如鋁、銅、銀、金等，對于非金屬導(dǎo)熱材料如導(dǎo)熱陶瓷、導(dǎo)熱硅膠、導(dǎo)熱碳纖維等。所述的散熱介質(zhì)的形態(tài)為固體顆粒狀或者熔化的液態(tài)介質(zhì)。優(yōu)選的，所述的盛放散熱介質(zhì)的熔槽，所采用的材料優(yōu)選為熔點(diǎn)在1000°C以上，且高于散熱介質(zhì)熔點(diǎn)的材料；對于布局器的內(nèi)層，所采用的材料同樣優(yōu)選為熔點(diǎn)在1000°c以上，且高于散熱介質(zhì)熔點(diǎn)的隔熱材料。優(yōu)選的，布局器內(nèi)層所采用的材料優(yōu)選為硅藻土制品、氧化鋁制品、氧化鎂制品、 碳化硅制品、隔熱陶瓷中至少其一的材料。本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)在于利用布局器和旋轉(zhuǎn)支架，可以像光驅(qū)一樣方便地操作。通過布局點(diǎn)陣的方式，來擴(kuò)大散熱結(jié)構(gòu)的散熱面積，從而實(shí)現(xiàn)更高的散熱效率。

圖1是本實(shí)用新型實(shí)施例所示的一種制備點(diǎn)陣排列型散熱結(jié)構(gòu)的裝置的示意圖。圖2是本實(shí)用新型實(shí)施例所示的一種點(diǎn)陣排列型散熱結(jié)構(gòu)的示意圖。圖3是本實(shí)用新型實(shí)施例所示的另一種點(diǎn)陣排列型散熱結(jié)構(gòu)的示意圖。圖4是本實(shí)用新型所述的一種制備點(diǎn)陣排列型散熱結(jié)構(gòu)的實(shí)現(xiàn)方法流程圖。
具體實(shí)施方式
下面參照附圖，結(jié)合具體實(shí)施例對本實(shí)用新型作詳細(xì)描述。圖1是一種制備點(diǎn)陣排列型散熱結(jié)構(gòu)的裝置的示意圖。如圖1所示，制備點(diǎn)陣排列型散熱結(jié)構(gòu)的裝置100由以下結(jié)構(gòu)組件構(gòu)成底座110，是用以固定散熱基材112的結(jié)構(gòu)；在制備點(diǎn)陣排列型散熱結(jié)構(gòu)前，將散熱基材112固定在底座110上，制備完成后取出。布局器120，它設(shè)置在前述的底座110上方，設(shè)置有盛放散熱介質(zhì)123的熔槽122， 以及用以導(dǎo)出散熱介質(zhì)的布局器出口，在布局器出口處設(shè)置有開關(guān)結(jié)構(gòu)121。旋轉(zhuǎn)支架130，它包括轉(zhuǎn)軸132和轉(zhuǎn)桿131，前述的布局器120和轉(zhuǎn)桿131相連接， 通過轉(zhuǎn)軸132的轉(zhuǎn)動(dòng)帶動(dòng)布局器120旋轉(zhuǎn)，另外，布局器120還可在轉(zhuǎn)桿131上發(fā)生位移。控制組件140，它與布局器120和旋轉(zhuǎn)支架130相連接，用以控制布局器的開關(guān)架構(gòu)121的開啟和閉合，通過控制轉(zhuǎn)軸132的轉(zhuǎn)速，以及控制布局器在轉(zhuǎn)桿上的位移發(fā)生，來實(shí)現(xiàn)控制布局器在旋轉(zhuǎn)支架上的旋轉(zhuǎn)和位移狀況。如圖2所示，展示的是點(diǎn)陣排列型散熱結(jié)構(gòu)200的示意圖，該散熱結(jié)構(gòu)200由散熱基材210和布局在散熱基材上的凸起的散熱介質(zhì)220組成。散熱結(jié)構(gòu)200上散熱介質(zhì)的布局方式是，散熱介質(zhì)210在散熱基材上圍繞同一圓心，在不同半徑的圓周線上進(jìn)行布局。如圖3所示，展示的是點(diǎn)陣排列型散熱結(jié)構(gòu)300的示意圖，該散熱結(jié)構(gòu)300由散熱基材310和布局在散熱基材上的凸起的散熱介質(zhì)320組成。散熱結(jié)構(gòu)300上散熱介質(zhì)的布局方式與散熱結(jié)構(gòu)200有所不同，散熱介質(zhì)310是通過在散熱基材上，由外向內(nèi)或者由內(nèi)向外的螺旋線上進(jìn)行點(diǎn)陣排列的。對于散熱結(jié)構(gòu)200和散熱結(jié)構(gòu)300所具有的不同布局方式，是通過布局器120的旋轉(zhuǎn)和位移方式的不同來實(shí)現(xiàn)的。當(dāng)布局器在進(jìn)行散熱介質(zhì)的點(diǎn)布局時(shí)，布局器旋轉(zhuǎn)過程中不發(fā)生位移，每旋轉(zhuǎn)一周，點(diǎn)布局一周完成時(shí)，關(guān)閉開關(guān)結(jié)構(gòu)，發(fā)生一次位移，位移到同一圓心不同半徑的圓周線上，再次開啟開關(guān)結(jié)構(gòu)進(jìn)行點(diǎn)布局旋轉(zhuǎn)，這種操作過程會(huì)形成散熱結(jié)構(gòu)200的情形。當(dāng)布局器120在進(jìn)行散熱介質(zhì)點(diǎn)布局的旋轉(zhuǎn)過程中同時(shí)發(fā)生位移，那么散熱介質(zhì)310在散熱基材上，就會(huì)形成由外向內(nèi)或者由內(nèi)向外的螺旋線形狀，即散熱結(jié)構(gòu)300的情形。圖4是本實(shí)用新型所述的一種制備點(diǎn)陣排列型散熱結(jié)構(gòu)的方法流程圖。結(jié)合前面關(guān)于裝置的描述，下面對制備點(diǎn)陣排列型散熱結(jié)構(gòu)的方法作詳細(xì)描述。步驟1，在熔槽中加入散熱介質(zhì)，并將散熱基材固定在底座上。在圖1所示的熔槽122中加入散熱介質(zhì)123，所述的散熱介質(zhì)123為金屬導(dǎo)熱材料或非金屬導(dǎo)熱材料；對于金屬導(dǎo)熱材料，如鋁、銅、銀、金等，對于非金屬導(dǎo)熱材料如導(dǎo)熱陶瓷、導(dǎo)熱硅膠、導(dǎo)熱碳纖維等。散熱介質(zhì)可以是固態(tài)或者是液態(tài)的，當(dāng)散熱介質(zhì)是固態(tài)時(shí)，需要為均勻的小顆粒狀，其大小略小于布局器的出口，當(dāng)布局器的開關(guān)結(jié)構(gòu)121開啟時(shí)，小顆粒能夠逐個(gè)通過開關(guān)結(jié)構(gòu)121，穩(wěn)固的落在散熱基材上。當(dāng)散熱介質(zhì)為液態(tài)時(shí)，可以現(xiàn)將熔化的液態(tài)散熱介質(zhì)加入熔槽中，也可以將固態(tài)的散熱介質(zhì)加入熔槽后，在進(jìn)行熱熔化處理。所述的散熱基材為石墨膜片或石墨烯膜片、金屬體、散熱陶瓷等散熱材料，同時(shí)散熱基材的熔點(diǎn)要高于散熱介質(zhì)的熔點(diǎn)。散熱基材，優(yōu)選為高導(dǎo)熱石墨膜片或石墨烯膜片。利用碳成分所制作的高散熱石墨膜，具有很高的散熱能力，可以達(dá)到1500 1750W/m · K。而目前作為研究熱點(diǎn)的石墨烯材料，則具有更加強(qiáng)大的散熱能力，其熱導(dǎo)率約為5000W/m · K ；同時(shí)，石墨的熔點(diǎn)也非常高， 達(dá)到3500°C以上。步驟2，開啟旋轉(zhuǎn)支架的轉(zhuǎn)軸，以及布局器的開關(guān)。當(dāng)散熱基材在托盤上固定好后，即可通過控制組件140開啟旋轉(zhuǎn)支架的轉(zhuǎn)軸，轉(zhuǎn)軸即帶動(dòng)布局器轉(zhuǎn)動(dòng)，根據(jù)所需要的點(diǎn)布局密集程度，調(diào)節(jié)好轉(zhuǎn)軸的轉(zhuǎn)速，需要的點(diǎn)布局越密集，轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)速則越慢。然后通過控制組件140開啟布局器的開關(guān)結(jié)構(gòu)121。步驟3，布局器在散熱基材上進(jìn)行點(diǎn)布局，并發(fā)生位移。布局器在旋轉(zhuǎn)過程中，通過布局器出口將散熱介質(zhì)導(dǎo)出到散熱基材上，實(shí)現(xiàn)點(diǎn)陣排列結(jié)構(gòu)。布局器在旋轉(zhuǎn)過程中，根據(jù)其位移情況，存在兩種不同的方式方式1，布局器旋轉(zhuǎn)和位移不同時(shí)進(jìn)行，當(dāng)布局器旋轉(zhuǎn)一周時(shí)，停止旋轉(zhuǎn)發(fā)生位移， 然后再新的位置再進(jìn)行旋轉(zhuǎn)。在這種情況下，布局器在散熱基材上點(diǎn)布局完成一圈時(shí)，位移至另一圓周線上，在進(jìn)行點(diǎn)布局，這種方式會(huì)形成如圖2所示的點(diǎn)陣排列散熱結(jié)構(gòu)200。方式2，布局器旋轉(zhuǎn)和位移同時(shí)進(jìn)行，布局器在旋轉(zhuǎn)中進(jìn)行點(diǎn)布局時(shí)，同時(shí)發(fā)生位移，位移方向朝一個(gè)方向進(jìn)行。這種方式下，布局器導(dǎo)出的散熱介質(zhì)在散熱基材上，就會(huì)形成由外向內(nèi)或者由內(nèi)向外的螺旋線形狀，如圖3所示的散熱結(jié)構(gòu)300的形狀。步驟4，點(diǎn)布局完成后，散熱介質(zhì)在散熱基材上通過熱熔化，或冷卻凝固，粘接在散熱基材上。點(diǎn)布局完成后，通過控制組件，使旋轉(zhuǎn)支架和布局器都處于關(guān)閉狀態(tài)。當(dāng)布局器導(dǎo)出的散熱介質(zhì)為液態(tài)時(shí)，只需使散熱介質(zhì)在散熱基材上進(jìn)行冷卻凝固后，即粘接在散熱基材上，形成點(diǎn)陣排列型散熱結(jié)構(gòu)。當(dāng)布局器導(dǎo)出的散熱介質(zhì)為固體小顆粒時(shí)，需要進(jìn)行熱熔化處理，通過對散熱基材進(jìn)行加熱，使散熱基材上的散熱介質(zhì)熔化，由于散熱基材的熔點(diǎn)高于散熱介質(zhì)的熔點(diǎn)，因此散熱基材不會(huì)熔化。當(dāng)散熱介質(zhì)開始熔化時(shí)，所熔化的量能夠使其有效粘接在散熱基材上時(shí)，即停止加熱，使其冷卻凝固，粘接在散熱基材上，形成點(diǎn)陣排列型散熱結(jié)構(gòu)。這兒，對于散熱介質(zhì)所熔化的量需要控制精確，不宜過多或過少。以上是對本實(shí)用新型的描述而非限定，基于本實(shí)用新型思想的其它實(shí)施方式，均在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之中。
權(quán)利要求1.一種制備點(diǎn)陣排列型散熱結(jié)構(gòu)的裝置，其特征在于該裝置包括有，底座，它是用以固定散熱基材的結(jié)構(gòu)；布局器，它設(shè)置在前述的底座上方，設(shè)置有盛放散熱介質(zhì)的熔槽，以及用以導(dǎo)出散熱介質(zhì)的布局器出口；旋轉(zhuǎn)支架，它和前述的布局器相連接，是用以使布局器旋轉(zhuǎn)以及在底座上方發(fā)生位移的結(jié)構(gòu)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種制備點(diǎn)陣排列型散熱結(jié)構(gòu)的裝置，其特征在于該裝置還包括，開關(guān)結(jié)構(gòu)，它設(shè)置在布局器出口處，是用以控制散熱介質(zhì)是否導(dǎo)出的控制結(jié)構(gòu)；控制組件，它與布局器和旋轉(zhuǎn)支架相連接，用以控制布局器的開啟和閉合，以及控制布局器在旋轉(zhuǎn)支架上的旋轉(zhuǎn)和位移狀況。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種制備點(diǎn)陣排列型散熱結(jié)構(gòu)的裝置，其特征在于開關(guān)結(jié)構(gòu)通過電磁閥來實(shí)現(xiàn)控制。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種制備點(diǎn)陣排列型散熱結(jié)構(gòu)的裝置，其特征在于所述的散熱基材為石墨膜片或石墨烯膜片、金屬體、散熱陶瓷中其中之一。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種制備點(diǎn)陣排列型散熱結(jié)構(gòu)的裝置，其特征在于所述的旋轉(zhuǎn)支架，它包括轉(zhuǎn)軸和轉(zhuǎn)桿，前述的布局器和轉(zhuǎn)桿相連接，通過轉(zhuǎn)軸的轉(zhuǎn)動(dòng)帶動(dòng)布局器旋轉(zhuǎn)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種制備點(diǎn)陣排列型散熱結(jié)構(gòu)的裝置，其特征在于所述的散熱介質(zhì)為金屬導(dǎo)熱材料或非金屬導(dǎo)熱材料。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種制備點(diǎn)陣排列型散熱結(jié)構(gòu)的裝置，其特征在于所述的盛放在熔槽中的散熱介質(zhì)為固態(tài)顆粒狀或熔化的液態(tài)介質(zhì)兩者之一。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種制備點(diǎn)陣排列型散熱結(jié)構(gòu)的裝置，其特征在于所述的盛放散熱介質(zhì)的熔槽為熔點(diǎn)在1000°C以上，且高于散熱介質(zhì)熔點(diǎn)的材料。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種制備點(diǎn)陣排列型散熱結(jié)構(gòu)的裝置，其特征在于所述的布局器的內(nèi)層，為熔點(diǎn)在1000°c以上，且高于散熱介質(zhì)熔點(diǎn)的隔熱材料。
專利摘要本實(shí)用新型提供一種制備點(diǎn)陣排列型散熱結(jié)構(gòu)的裝置，屬于散熱裝置領(lǐng)域。該裝置主要包括用以固定散熱基材的底座；設(shè)置在前述底座上方的布局器，布局器內(nèi)設(shè)置有盛放散熱介質(zhì)的熔槽，以及用以導(dǎo)出散熱介質(zhì)的布局器出口；和前述布局器相連接的旋轉(zhuǎn)支架，用以使布局器旋轉(zhuǎn)以及在底座上方發(fā)生位移的結(jié)構(gòu)；設(shè)置在布局器出口處的開關(guān)結(jié)構(gòu)，用以控制散熱介質(zhì)是否導(dǎo)出的控制結(jié)構(gòu)；與布局器和旋轉(zhuǎn)支架相連接的控制組件，用以控制布局器的開啟和閉合，以及控制布局器在旋轉(zhuǎn)支架上的旋轉(zhuǎn)和位移狀況。本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)在于，通過本實(shí)用新型所述的裝置和方法，能夠制備出高散熱效果的點(diǎn)陣排列型散熱結(jié)構(gòu)。
文檔編號F28F7/00GK202074872SQ20102068527
公開日2011年12月14日 申請日期2010年12月28日 優(yōu)先權(quán)日2010年12月28日
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