本技術(shù)涉及廢氣處理，尤其涉及一種廢氣處理裝置。

背景技術(shù)：

1、半導(dǎo)體在清洗、光刻、去膠、烘干等工藝中需使用大量的酸、堿及有機(jī)溶劑和多種特殊氣體，導(dǎo)致廢棄物產(chǎn)量大、種類多。

2、現(xiàn)有處理方式中，各工序段的特性廢氣，先經(jīng)吸附式尾氣處理設(shè)備預(yù)處理，后經(jīng)中央處理系統(tǒng)集中處理，由于半導(dǎo)體行業(yè)排放的vocs廢氣具有風(fēng)量大，濃度低的特點(diǎn)，中央處理系統(tǒng)的常處理方式為活性炭吸附和沸石濃縮轉(zhuǎn)輪+焚燒技術(shù)處理為主，雖然效率都能夠達(dá)到不低于95％，但采用的大型處理設(shè)備會(huì)增加運(yùn)營成本，消耗大量電力和天然氣，增加了能量消耗及co2的排放。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本實(shí)用新型提供一種廢氣處理裝置，用以解決現(xiàn)有技術(shù)中廢氣處理能耗高、成本高的缺陷。

2、本實(shí)用新型提供的一種廢氣處理裝置，包括殼體以及設(shè)置在殼體中的：第一通道，所述第一通道的外側(cè)設(shè)置進(jìn)氣口；

3、進(jìn)氣管，所述進(jìn)氣管與所述進(jìn)氣口連接，所述進(jìn)氣管的外側(cè)盤設(shè)有初級(jí)加熱機(jī)構(gòu)；

4、等離子體火焰發(fā)生器，設(shè)置在所述進(jìn)氣口下方的所述第一通道中，所述等離子體火焰發(fā)生器用于產(chǎn)生等離子體火焰；

5、第二通道，所述第二通道與所述第一通道連通，所述第二通道內(nèi)設(shè)置有冷卻機(jī)構(gòu)，用于對(duì)廢氣降溫；

6、尾氣處理裝置，所述尾氣處理裝置包括第一除塵機(jī)構(gòu)，所述第一除塵機(jī)構(gòu)設(shè)置于所述第二通道遠(yuǎn)離所述第一通道的一端。

7、根據(jù)本實(shí)用新型提供的廢氣處理裝置，所述第一通道的頂部設(shè)置有第二除塵機(jī)構(gòu)，所述第二除塵機(jī)構(gòu)包括驅(qū)動(dòng)桿和除塵塞，所述驅(qū)動(dòng)桿沿軸向可移動(dòng)地設(shè)置在所述第一通道中，并位于所述等離子體火焰發(fā)生器的上方，所述除塵塞設(shè)置在所述驅(qū)動(dòng)桿的自由端，且所述除塵塞的外周側(cè)與所述第一通道的內(nèi)壁滑動(dòng)接觸。

8、根據(jù)本實(shí)用新型提供的廢氣處理裝置，所述尾氣處理裝置還包括集氣腔和凈化腔，所述第一除塵機(jī)構(gòu)設(shè)置在所述集氣腔內(nèi)，且所述集氣腔與所述第二通道連通，所述凈化腔位于所述集氣腔的上方并與所述集氣腔連通，所述凈化腔設(shè)置有吸附層，所述凈化腔的頂部設(shè)有排氣口。

9、根據(jù)本實(shí)用新型提供的廢氣處理裝置，所述第二通道設(shè)置有補(bǔ)氣口，所示補(bǔ)氣口用于連接儲(chǔ)氣裝置，并用于通過所述補(bǔ)氣口向所述第一通道及第二通道中通入空氣。

10、根據(jù)本實(shí)用新型提供的廢氣處理裝置，所述第二通道的尾部設(shè)置有除塵口，所述除塵口處設(shè)置靜電除塵機(jī)構(gòu)。

11、根據(jù)本實(shí)用新型提供的廢氣處理裝置，所述進(jìn)氣口與所述進(jìn)氣管均設(shè)置有多個(gè)且數(shù)量相同，多個(gè)所述進(jìn)氣管均布在所述第一通道的周圍并與所述第一通道連通，每個(gè)所述進(jìn)氣管均盤設(shè)有所述初級(jí)加熱機(jī)構(gòu)。

12、根據(jù)本實(shí)用新型提供的廢氣處理裝置，所述進(jìn)氣管上靠近自由端還設(shè)置有控制閥。

13、根據(jù)本實(shí)用新型提供的廢氣處理裝置，還包括循環(huán)泵和循環(huán)管，所述循環(huán)管設(shè)置有所述循環(huán)泵，所述循環(huán)管中設(shè)置有流體，所述循環(huán)管用于將所述初級(jí)加熱機(jī)構(gòu)與所述冷卻機(jī)構(gòu)連接。

14、根據(jù)本實(shí)用新型提供的廢氣處理裝置，所述等離子體火焰發(fā)生器包括一對(duì)等離子火炬頭，一對(duì)所述等離子火炬頭相對(duì)設(shè)置在所述第一通道的內(nèi)壁上，且所述等離子火炬頭傾斜設(shè)置。

15、根據(jù)本實(shí)用新型提供的廢氣處理裝置，所述第二通道呈u形結(jié)構(gòu)，包括第一豎直段、水平段和第二豎直段，所述第一豎直段與所述第一通道連通，所述冷卻機(jī)構(gòu)設(shè)置在所述第一豎直段中，所述水平段與所述第一豎直段的連接處設(shè)置有所述補(bǔ)氣口，所述水平段與所述第二豎直段的連接處設(shè)置有所述靜電除塵機(jī)構(gòu)。

16、本實(shí)用新型提供的一種廢氣處理裝置，包括殼體以及設(shè)置在殼體中的第一通道、進(jìn)氣管、等離子體火焰發(fā)生器、第二通道和第一除塵機(jī)構(gòu)，工作時(shí)，通過進(jìn)氣管連接半導(dǎo)體制程設(shè)備，將設(shè)備產(chǎn)生的廢氣導(dǎo)入第一通道中，通過進(jìn)氣管上的初級(jí)加熱機(jī)構(gòu)對(duì)廢氣進(jìn)行初步加熱處理，之后通過設(shè)置的等離子體火焰發(fā)生器作為熱源對(duì)廢氣高溫裂解處理，這一組合方式，能夠節(jié)省等離子燃燒的能耗，有效度廢氣進(jìn)行深度凈化處理，使廢氣中的有害成分轉(zhuǎn)化為無害物質(zhì)或固體廢棄物，相比于天然氣等化石能源的燃燒，更清潔且處理溫度范圍更廣、成本更低，廢氣可快速發(fā)生裂解，處理效率更高效；通過第二通道和第一除塵機(jī)構(gòu)對(duì)廢氣進(jìn)行降溫處理和除塵處理，降低廢氣中的粉塵顆粒，有利于滿足排放標(biāo)準(zhǔn)。

技術(shù)特征：

1.一種廢氣處理裝置，其特征在于，包括殼體以及設(shè)置在殼體中的：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的廢氣處理裝置，其特征在于，所述第一通道(1)的頂部設(shè)置有第二除塵機(jī)構(gòu)(5)，所述第二除塵機(jī)構(gòu)(5)包括驅(qū)動(dòng)桿(51)和除塵塞(52)，所述驅(qū)動(dòng)桿(51)沿軸向可移動(dòng)地設(shè)置在所述第一通道(1)中，并位于所述等離子體火焰發(fā)生器的上方，所述除塵塞(52)設(shè)置在所述驅(qū)動(dòng)桿(51)的自由端，且所述除塵塞(52)的外周側(cè)與所述第一通道(1)的內(nèi)壁滑動(dòng)接觸。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的廢氣處理裝置，其特征在于，所述尾氣處理裝置還包括集氣腔(6)和凈化腔，所述第一除塵機(jī)構(gòu)(4)設(shè)置在所述集氣腔(6)內(nèi)，且所述集氣腔(6)與所述第二通道(3)連通，所述凈化腔位于所述集氣腔(6)的上方并與所述集氣腔(6)連通，所述凈化腔設(shè)置有吸附層(7)，所述凈化腔的頂部設(shè)有排氣口。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的廢氣處理裝置，其特征在于，所述第二通道(3)設(shè)置有補(bǔ)氣口(8)，所示補(bǔ)氣口(8)用于連接儲(chǔ)氣裝置，并用于通過所述補(bǔ)氣口(8)向所述第一通道(1)及第二通道(3)中通入空氣。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的廢氣處理裝置，其特征在于，所述第二通道(3)的尾部設(shè)置有除塵口，所述除塵口處設(shè)置靜電除塵機(jī)構(gòu)(9)。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的廢氣處理裝置，其特征在于，所述進(jìn)氣口與所述進(jìn)氣管(11)均設(shè)置有多個(gè)且數(shù)量相同，多個(gè)所述進(jìn)氣管(11)均布在所述第一通道(1)的周圍并與所述第一通道(1)連通，每個(gè)所述進(jìn)氣管(11)均盤設(shè)有所述初級(jí)加熱機(jī)構(gòu)(2)。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的廢氣處理裝置，其特征在于，所述進(jìn)氣管(11)上靠近自由端還設(shè)置有控制閥。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的廢氣處理裝置，其特征在于，還包括循環(huán)泵和循環(huán)管，所述循環(huán)管設(shè)置有所述循環(huán)泵，所述循環(huán)管中設(shè)置有流體，所述循環(huán)管用于將所述初級(jí)加熱機(jī)構(gòu)(2)與所述冷卻機(jī)構(gòu)(301)連接。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的廢氣處理裝置，其特征在于，所述等離子體火焰發(fā)生器包括一對(duì)等離子火炬頭(10)，一對(duì)所述等離子火炬頭(10)相對(duì)設(shè)置在所述第一通道(1)的內(nèi)壁上，且所述等離子火炬頭(10)傾斜設(shè)置。

10.根據(jù)權(quán)利要求5所述的廢氣處理裝置，其特征在于，所述第二通道(3)呈u形結(jié)構(gòu)，包括第一豎直段(31)、水平段(32)和第二豎直段(33)，所述第一豎直段(31)與所述第一通道(1)連通，所述冷卻機(jī)構(gòu)(301)設(shè)置在所述第一豎直段(31)中，所述水平段(32)與所述第一豎直段(31)的連接處設(shè)置有所述補(bǔ)氣口(8)，所述水平段(32)與所述第二豎直段(33)的連接處設(shè)置有所述靜電除塵機(jī)構(gòu)(9)。

技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)涉及廢氣處理技術(shù)領(lǐng)域，提供一種廢氣處理裝置，包括殼體以及設(shè)置在殼體中的第一通道，第一通道的外側(cè)設(shè)置進(jìn)氣口；進(jìn)氣管，進(jìn)氣管與進(jìn)氣口連接，進(jìn)氣管的外側(cè)盤設(shè)有初級(jí)加熱機(jī)構(gòu)；等離子體火焰發(fā)生器，設(shè)置在進(jìn)氣口下方的第一通道中，等離子體火焰發(fā)生器用于產(chǎn)生等離子體火焰；第二通道與第一通道連通，第二通道內(nèi)設(shè)置有冷卻機(jī)構(gòu)，用于對(duì)廢氣降溫；尾氣處理裝置包括第一除塵機(jī)構(gòu)，第一除塵機(jī)構(gòu)設(shè)置于第二通道遠(yuǎn)離第一通道的一端；通過進(jìn)氣管上的初級(jí)加熱機(jī)構(gòu)對(duì)廢氣進(jìn)行初步加熱處理，之后通過設(shè)置的等離子體火焰發(fā)生器作為熱源對(duì)廢氣高溫裂解處理，這一組合方式，能夠節(jié)省等離子燃燒的能耗，有效度廢氣進(jìn)行深度凈化處理，并降低成本。

技術(shù)研發(fā)人員：戴恩平,詹濤,葉云龍,喬南利,喻正保,王虎
受保護(hù)的技術(shù)使用者：格林斯達(dá)（北京）環(huán)?？萍脊煞萦邢薰?br/>技術(shù)研發(fā)日：20240416
技術(shù)公布日：2024/12/30