蓄熱式氧化裝置用氣體分配層及應(yīng)用該氣體分配層的蓄熱式氧化裝置的制造方法
【專利摘要】本發(fā)明公提供一種蓄熱式氧化裝置的氣體分配層及應(yīng)用該氣體分配層的蓄熱式氧化裝置。本發(fā)明提供一種蓄熱式氧化裝置氣體分配層，包括具有焚化爐和蓄熱室的主體、氣體分配層、旋轉(zhuǎn)體、管、驅(qū)動(dòng)裝置及支撐部，其中，所述氣體分配層包括將通過所述旋轉(zhuǎn)體的氣體向所述主體分配或者將所述主體流出的氣體向排放管傳遞的分配室，作為所述旋轉(zhuǎn)體上的固定體，且將所述分配室與所述旋轉(zhuǎn)體固定在一起的固定片及根據(jù)所述主體的尺寸被配置不同長度并連接所述分配室和所述主體下部的連接管。
【專利說明】
蓄熱式氧化裝置用氣體分配層及應(yīng)用該氣體分配層的蓄熱式氧化裝置
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實(shí)施例涉及一種蓄熱式氧化裝置用氣體分配層及應(yīng)用該氣體分配層的蓄熱式氧化裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]此部分記載的內(nèi)容僅僅是為了提供本發(fā)明實(shí)施例的背景信息，不是為了實(shí)現(xiàn)【背景技術(shù)】。
[0003]揮發(fā)性有機(jī)化合物(Volatile Organic Compound)通常在是指有機(jī)化合物中，具有0.02psi以上蒸氣壓或者沸點(diǎn)不足100°C的碳?xì)浠衔?，大氣物管理上，是指?jīng)過與氮化合物進(jìn)行光化學(xué)反應(yīng)后形成臭氧及光化學(xué)氧化物的前驅(qū)物(Precursor)。
[0004]揮發(fā)性有機(jī)化合物是產(chǎn)生有害大氣物質(zhì)和惡臭的主要原因，不僅對人體有害而且是經(jīng)過光化學(xué)反應(yīng)后形成霧霾、發(fā)生惡臭等現(xiàn)象的主要原因，從而導(dǎo)致大氣污染問題發(fā)生。
[0005]—種蓄熱式催化劑燃燒裝置，其具有蓄熱層和蓄熱式燃燒裝置，該蓄熱層填充有作為尖端材料的陶瓷，能夠吸入工廠等產(chǎn)生的揮發(fā)性有機(jī)化合物，并使揮發(fā)性有機(jī)化合物通過蓄熱層在燃燒室以760?850°C燃燒并凈化，該蓄熱式催化劑燃燒裝置在利用蓄熱性能的同時(shí)，在低于蓄熱設(shè)備的反應(yīng)溫度760?850°C的情況下，能夠在催化劑燃燒溫度200?400°C的條件下，燃燒揮發(fā)性有機(jī)化合物。
[0006]此時(shí)，蓄熱式燃燒裝置和蓄熱式催化劑燃燒裝置的內(nèi)部具備分隔片，隨著該分隔片內(nèi)部中心的旋轉(zhuǎn)，能夠連續(xù)提供揮發(fā)性有機(jī)化合物，從而持續(xù)預(yù)熱蓄熱層和催化劑層的一半，而另一半起到反復(fù)回收熱量的作用，從而能夠防止不必要的能量浪費(fèi)，而且通過使揮發(fā)性有機(jī)化合物完全燃燒，從而提高燃燒裝置的效率。
[0007]作為現(xiàn)有技術(shù)，大韓民國實(shí)用新型登錄第20-0339936號(2004.01.28.公告)揭示該圓筒形結(jié)構(gòu)，如圖1所示，經(jīng)流入管6流入的有害氣體被燃燒和凈化的同時(shí)預(yù)熱蓄熱層后，經(jīng)排出管28排出。新流入的有害氣體經(jīng)過事先預(yù)熱的蓄熱層被預(yù)熱后，重復(fù)進(jìn)行處理過程。此時(shí)，通過旋轉(zhuǎn)體12的旋轉(zhuǎn)，周期性地交替蓄熱層和散熱層使預(yù)處理的氣體的風(fēng)向發(fā)生變化，從而使流入的有害氣體的預(yù)熱處理更加合理，因此能夠減少有害氣體的燃燒時(shí)間及使其具有節(jié)約熱能的結(jié)構(gòu)。
[0008]但，依據(jù)現(xiàn)有技術(shù)，起到所述的固定片和旋轉(zhuǎn)部作用的所述旋轉(zhuǎn)體的上部表面之間應(yīng)該始終保持氣密性，但是，該種氣密部的位置臨近殼體，使其處于高溫的可能性很高，從而增強(qiáng)了密封裝置的熱化等引起氣密性不良的現(xiàn)象發(fā)生的可能性，進(jìn)而，還會(huì)引起固定體和旋轉(zhuǎn)體的摩擦阻及其引起的磨損現(xiàn)象，從而使未經(jīng)處理的氣體泄漏，引發(fā)環(huán)境問題。
[0009]為了解決上述問題，大韓民國特許授權(quán)第10-0969828號(2010.07.13.公告)通過在主體和其下部的風(fēng)向轉(zhuǎn)換裝置之間設(shè)置分配腔室以改善主體和其下部的風(fēng)向轉(zhuǎn)換裝置的結(jié)合結(jié)構(gòu)，從而最小化固定體和旋轉(zhuǎn)體的摩擦阻力及其引起的磨損現(xiàn)象。
[0010]但是，此類現(xiàn)有專利的固定噴氣口被固定，因此存在不能隨著主體的大小而改變噴氣口形狀、分配腔室和固定片之間容易發(fā)生氣體泄漏及不易檢測分配腔室的水平等問題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0011]本發(fā)明目的在于，為了解決上述問題，通過在分配室(或‘分配腔室’)處另設(shè)連接管能夠隨著主體大小適當(dāng)?shù)貙B接管的大小進(jìn)行調(diào)整，或者不另設(shè)連接管等，從而方便地應(yīng)對主體大小的改變。利用填密片在分配室和固定片之間或者分配室內(nèi)部各空間之間進(jìn)行密封，從而防止氣體的流入流出。利用檢測分配室的水平與否的孔和蓋子，從而方便地檢測分配室的水平與否。
[0012]本發(fā)明一實(shí)施例提供一種蓄熱式氧化裝置氣體分配層，具有焚化爐和蓄熱室的主體、氣體分配層、旋轉(zhuǎn)體、管、驅(qū)動(dòng)裝置及支撐部，其中，所述氣體分配層包括將通過所述旋轉(zhuǎn)體的氣體向所述主體分配或者將所述主體流出的氣體向排放管傳遞的分配室，作為所述旋轉(zhuǎn)體上的固定體，且將所述分配室與所述旋轉(zhuǎn)體固定在一起的固定片及根據(jù)所述主體的尺寸被配置不同長度的、連接所述分配室和所述主體下部的連接管。
[0013]此外，提供一種蓄熱式氧化裝置氣體分配層，包括具有焚化爐和蓄熱室的主體、氣體分配層、旋轉(zhuǎn)體、管、驅(qū)動(dòng)裝置及支撐部，其中，所述氣體分配層包括將通過所述旋轉(zhuǎn)體的氣體向所述主體分，或者將所述主體流出的氣體向排放管傳遞的分配室，作為所述旋轉(zhuǎn)體上的固定體，且將所述分配室與所述旋轉(zhuǎn)體固定在一起的固定片，并且緊密連接所述分配室和所述固定片以及所述分配室和所述主體下部以防止氣體向外部泄出，所述分配室包括:連接所述旋轉(zhuǎn)體和所述分配室的下部中心孔，將所述分配室內(nèi)部分隔為多個(gè)空間的分配板，被所述分配板分割成多個(gè)空間的分配扇片及能夠移動(dòng)所述分配扇片和主體下部之間氣體的上部分配孔。
[0014]此外，一種蓄熱式氧化裝置，包括具有焚化爐和蓄熱室的主體、氣體分配層、旋轉(zhuǎn)體、管、驅(qū)動(dòng)裝置及支撐部，其中，所述氣體分配層包括將通過所述旋轉(zhuǎn)體的氣體向所述主體分配或者將所述主體流出的氣體向排放管傳遞的分配室，作為所述旋轉(zhuǎn)體上的固定體，且將所述分配室與所述旋轉(zhuǎn)體固定在一起的固定片及連接分配室和主體下部的連接管，所述分配室還包括連接所述旋轉(zhuǎn)體和所述分配室的下部中心孔，將所述分配室內(nèi)部分隔為多個(gè)空間的分配板，被所述分配板分割成多個(gè)空間的分配扇片，能夠移動(dòng)所述分配扇片和主體下部之間氣體的上部分配孔及能夠檢測與所述分配室的地面水平與否的水平檢查孔和蓋子，所述水平檢查孔為貫通所述分配室內(nèi)部中心的圓柱體形狀，且所述蓋子位于所述水平檢查孔上部并能夠開合。
[0015]根據(jù)本實(shí)施例，通過分配室另設(shè)連接管，隨著主體大小適當(dāng)?shù)貙B接管的大小進(jìn)行調(diào)整或者不另設(shè)連接管等，從而能夠方便地應(yīng)對主體大小的改變。利用填密片在分配室和固定片之間或者分配室內(nèi)部各空間之間進(jìn)行密封，從而防止氣體的流入流出。利用檢測分配室的水平與否的孔和蓋子，從而能夠方便地檢測分配室的水平與否，具有有益效果。
【附圖說明】
[0016]圖1是圖示現(xiàn)有專利涉及的蓄熱式氧化裝置的視圖。
[0017]圖2是本發(fā)明一實(shí)施例涉及的蓄熱式氧化裝置的全部側(cè)視圖。
[0018]圖3是本發(fā)明一實(shí)施例涉及的氣體分配層的說明圖。
[0019]圖4是本發(fā)明另一實(shí)施例涉及的氣體分配層的說明圖。
[0020]圖5 (a)是本發(fā)明一實(shí)施例涉及的分配室的俯視圖。
[0021]圖5(b)是本發(fā)明一實(shí)施例涉及的分配室的正視圖。
[0022]圖5(c)是圖示本發(fā)明一實(shí)施例涉及的分配室內(nèi)部的分配板及分配扇片的附圖。
[0023]圖5(d)是本發(fā)明一實(shí)施例是的分配室的仰視圖。
[0024]圖6是為了說明本發(fā)明一實(shí)施例涉及的連接件將圖5(C)沿著A-A’方向切斷的截面圖及放大圖。
[0025]圖7(a)是為了說明本發(fā)明一實(shí)施例涉及的填密片圖5(c)的部分放大圖。
[0026]圖7(b)是為了說明本發(fā)明一實(shí)施例涉及的填密片將圖7(a)沿著B_B’方向切斷的剖面圖。
[0027]圖7(c)是為了說明本發(fā)明一實(shí)施例涉及的填密片將圖5(c)沿著A-A’方向切斷的截面圖及放大圖。
[0028]圖8是圖示本發(fā)明一實(shí)施例涉及的、包括膨脹接頭的連接管的附圖。
[0029]圖9(a)是本發(fā)明一實(shí)施例涉及的支撐臺(tái)的正視圖。
[0030]圖9(b)是本發(fā)明一實(shí)施例涉及的支撐臺(tái)的俯視圖。
[0031]附圖標(biāo)記說明
[0032]200:蓄熱式氧化裝置210:主體
[0033]220:氣體分配層 230:旋轉(zhuǎn)體
[0034]260:支撐部310:固定片
[0035]330:氣體分配層 340:連接管
[0036]510:下部中心孔 530:分配板
[0037]540:分配扇片550:上部分配孔
[0038]600:連接件710:填密片
[0039]810:膨脹接頭920:支撐臺(tái)
【具體實(shí)施方式】
[0040]以下參照附圖對本發(fā)明的實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)說明如下。
[0041]標(biāo)注附圖標(biāo)記時(shí)，即使相同技術(shù)特征在不同的附圖中出現(xiàn)，也盡可能使用了相同的附圖標(biāo)記。同時(shí)還要注意，在通篇說明書中，如果認(rèn)為對相關(guān)已知的技術(shù)特征和功能的具體說明可能會(huì)導(dǎo)致本發(fā)明主題不清楚，則省略其詳細(xì)說明。
[0042]而且，說明本發(fā)明時(shí)，可以使用第一、第二、1)、^)、幻、13)等用語。這些用語僅僅是為了區(qū)分相應(yīng)技術(shù)特征與其他技術(shù)特征，并非限定其本質(zhì)、次序或順序等。如果說明書記載一技術(shù)特征與另一技術(shù)特征“連接”、“結(jié)合”或“接觸”，可以理解為一技術(shù)特征與另一技術(shù)特征直接連接或接觸，也可以理解為各技術(shù)特征之間有另一技術(shù)特征與之相“連接”、“結(jié)合”或“接觸”。
[0043]以下參照附圖對本發(fā)明涉及的用于蓄熱式氧化裝置的氣體分配層及應(yīng)用該氣體分配層的蓄熱式氧化裝置進(jìn)行說明。
[0044]圖2是本發(fā)明一實(shí)施例涉及的蓄熱式氧化裝置的整體側(cè)視圖。
[0045]如圖2所示，本實(shí)施例涉及的蓄熱式氧化裝置200主要包括主體210、氣體分配層220、旋轉(zhuǎn)體230、管部240、驅(qū)動(dòng)裝置250及支撐部260。
[0046]主體210主要分為蓄熱室和燒結(jié)室，蓄熱室具有將揮發(fā)性有機(jī)化合物氣體預(yù)熱并送往燒結(jié)室或者接收燒結(jié)氣體轉(zhuǎn)達(dá)的熱量并蓄熱的作用，燒結(jié)室具有燒結(jié)經(jīng)蓄熱室預(yù)熱后的揮發(fā)性有機(jī)化合物氣體的作用。
[0047]氣體分配層220主要包括分配室330和固定片310，根據(jù)情況還可包括連接管340，以下對其進(jìn)行詳細(xì)說明。
[0048]旋轉(zhuǎn)體230具有將從供氣管進(jìn)入的揮發(fā)性有機(jī)化合物氣體輸送給氣體分配層220，或者將從氣體分配層220流出的、氧化的氣體輸送給排氣管以及從凈化氣管進(jìn)入的凈化氣輸送給氣體分配層220及主體210的作用。
[0049]管部240包括供氣管、排氣管、凈化氣管，供氣管是待氧化的揮發(fā)性有機(jī)化合物氣體的入口，排氣管是排出氧化處理后氣體的部分。凈化氣管是凈化氣入口。
[0050]驅(qū)動(dòng)裝置250驅(qū)動(dòng)并使旋轉(zhuǎn)體230旋轉(zhuǎn)，雖然本實(shí)施例中使用鎖銷機(jī)構(gòu)的驅(qū)動(dòng)裝置，但這只是本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例而已，驅(qū)動(dòng)裝置250也可以包括能夠使旋轉(zhuǎn)體230旋轉(zhuǎn)的用皮帶或者鏈條驅(qū)動(dòng)等方式的驅(qū)動(dòng)裝置。
[0051]以下對用于支撐主體的支撐部260進(jìn)行詳細(xì)說明。
[0052]以下參照本發(fā)明的氣體分配層220的整體結(jié)構(gòu)、氣體分配層220的分配室330的細(xì)部結(jié)構(gòu)，對分配室330和固定片310間的連接結(jié)構(gòu)、用于密封的填密片710及支撐主體的支撐部260進(jìn)行說明。
[0053]圖3是本發(fā)明一實(shí)施例涉及的氣體分配層的說明圖。圖4是本發(fā)明另一實(shí)施例涉及的氣體分配層的說明圖。
[0054]首先，如圖3所示，本實(shí)施例涉及的氣體分配層220包括固定片310、主柱320、分配室330及連接管340。
[0055]固定片310為車輪形狀，內(nèi)部中心由用于與旋轉(zhuǎn)體連接的圓形孔312、周圍由用于與分配室330連接并固定的、12個(gè)傘形孔314及連接圓形孔312和12個(gè)孔314之間的支架(架子、框架)316構(gòu)成。固定片不同于能夠旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)體230，其不旋轉(zhuǎn)并利用固定的分配板，固定分配室330，從而起到通道的作用以向主體210供氣和從主體210排氣。
[0056]主柱320為連接和固定固定片310和旋轉(zhuǎn)體230的銷柱，為圓柱狀，其上端的直徑大于下部直徑以使其與固定片310固定，而且利用主柱320的重量，將固定片310固定在旋轉(zhuǎn)體230的上部。
[0057]分配室330為將經(jīng)過旋轉(zhuǎn)體230的氣體分配并輸送給主體210的、或者將主體210排出的氣體轉(zhuǎn)達(dá)給排氣管的空間，經(jīng)分配板530分配室330被劃分為12個(gè)空間以與主體210內(nèi)部12個(gè)腔室對應(yīng)。以下對內(nèi)部詳細(xì)結(jié)構(gòu)進(jìn)行說明。
[0058]連接管340為連接上部分配孔550和主體210下部的通道，為圓形管。連接管340遠(yuǎn)離主體210下部面的中心向遠(yuǎn)處延伸。
[0059]其原因在于，相比于從接近于主體210下部的中心位置進(jìn)入，氣體從遠(yuǎn)離于主體210下部的中心位置進(jìn)入時(shí)，主體210內(nèi)部氣體的流動(dòng)更加流暢。
[0060]連接管340約成90°彎曲以連接與地面水平穿透的上部分配孔550和與地面垂直穿透的主體下部孔。并且，其長度隨主體210下部的大小可進(jìn)行調(diào)整。
[0061]如圖4所示的實(shí)施例，分配室330可不包括連接管340。這是因?yàn)橹黧w210的下部面直徑和分配室330的直徑相似時(shí)，無需連接管340也可以從主體210下部面的中心向遠(yuǎn)處供應(yīng)氣體。
[0062]這種情況，與圖3所示的實(shí)施例不同，12個(gè)上部分配孔550形成于分配室330上部，分配室330的上部分配孔550無需連接管340直接與主體210的下部連接。
[0063]圖5是圖示本發(fā)明一實(shí)施例涉及的分配室的內(nèi)部機(jī)構(gòu)的詳圖。
[0064]如圖5所示，分配室330包括下部中心孔510、水平檢查孔520、分配板530、填密片(710a?710c)、12個(gè)分配扇片540、12個(gè)上部分配孔550及蓋子560。
[0065]下部中心孔510為位于分配室330下部面的圓形孔，具有稍微小于固定片310大小的直徑以使分配室330下部面的一部分與固定片310相向。下部中心孔510具有通道作用以連接分配室330、旋轉(zhuǎn)體230及固定片310。
[0066]水平檢查孔520為貫通分配室330內(nèi)部中心的圓形孔，設(shè)置旋轉(zhuǎn)體230、固定片310及分配室330后，打開蓋子560，并測試固定片310和分配室330的水平與否。
[0067]分配板530是為了在分配室330內(nèi)部形成12個(gè)分配扇片540的板。此外，分配板530為垂直于除水平檢查孔520之外的分配室540內(nèi)部的板，具有將分配室330內(nèi)部分成12個(gè)分配扇片540的作用。
[0068]如圖5(b)所示，填密片710a?710c為防止分配室330和固定片310之間的氣體泄漏的密封墊，設(shè)置于固定片310的支架316和分配室330下部之間。
[0069]如圖5(c)所示，分配扇片540為由分配板530將水平檢查孔520除外的分配室330劃分為12個(gè)的空間，在下部，通過下部中心孔520與旋轉(zhuǎn)體230連接，在上部，通過上部分配孔550與連接管340和主體210連接。
[0070]因此，分配扇片540具有分配經(jīng)旋轉(zhuǎn)體230進(jìn)入的揮發(fā)性有機(jī)化合物氣體并將該氣體向主體210輸送及將經(jīng)主體210氧化處理的氣體經(jīng)排氣管向外部排出的作用。
[0071]上部分配孔550為位于分配室330周圍表面的圓形孔，每個(gè)分配扇片540具有上部分配孔，每個(gè)分配扇片對應(yīng)的分配室330周圍表面具有12個(gè)上部分配孔550。
[0072]蓋子560位于分配室330上部表面中心的水平檢查孔520上端，可開合地設(shè)置，當(dāng)蓋子560打開時(shí)，通過觀測水平檢查孔520內(nèi)部能夠檢測固定片310和分配室330的水平與否。
[0073]以下對連接本發(fā)明一實(shí)施例涉及的分配室330和固定片310的連接件600進(jìn)行說明。
[0074]圖6是為了說明本發(fā)明一實(shí)施例涉及的連接件將圖5(C)沿著A-A’方向切斷的截面圖及放大圖。
[0075]如圖6所示，分配室330和固定片310通過連接件600被固定。連接件600具有將固定片310密封安裝并固定在閥門室330下部的作用，包括第一螺栓610、第二螺栓620、制動(dòng)器630及螺母640。
[0076]如圖所示，第一螺栓610的一端焊接并固定在閥門室330下部。第一螺栓610的螺帽部分具有制動(dòng)器630，具有螺母640以將制動(dòng)器630固定在第一螺栓610上。
[0077]固定于第一螺栓610的制動(dòng)器630的另一孔與第二螺栓620連接，第二螺栓620以固定的制動(dòng)器630為杠桿，使固定片310密封安裝在閥門室330下部。
[0078]如上所述，通過雙重連接結(jié)構(gòu)，上下分別均衡地連接分配室330和固定片310，從而具有即便長期使用也能保持裝置的耐久性和耐磨損性的效果。
[0079]圖7是圖示本發(fā)明一實(shí)施例涉及的填密片示意圖。
[0080]如圖7所示，閥門室330下部可設(shè)置填密片710以防止固定片310和閥門室330間的氣體外泄。
[0081]分配扇片540為密封以防止由于旋轉(zhuǎn)體230的旋轉(zhuǎn)使流入氣體不斷變化導(dǎo)致分配扇片540間氣體相互混合。因此，固定片310上部和分配室330下部之間需要密封。
[0082]如圖7(b)所示，位于分配板下部的填密片710a的分配板530下部兩面分別固定有輔助板720，在分配板530和輔助板720之間各設(shè)有I個(gè)填密片710a，共設(shè)置2個(gè)。
[0083]利用所述填密片710a，各分配扇片540間的氣體互不吸入，從而實(shí)現(xiàn)完全密封。
[0084]如圖7(c)所示，填密片710b以鉤狀設(shè)置在檢查孔520和分配扇片540間、與固定片310的支架316相對的位置的分配室330下部表面，填密片710c以鉤狀設(shè)置在與下部中心孔510外的分配室330下部面中固定片310的支架316相對的面。
[0085]利用所述填密片710b，710c，能夠阻止分配室330內(nèi)部和外部間的氣體的流入流出，實(shí)現(xiàn)完全密封。
[0086]此外，填密片710a?710c由耐高溫的陶瓷材料構(gòu)成，因此即便在烘烤狀態(tài)下，分配室排出高溫氣體，填密片710a?710c也不會(huì)發(fā)生變形。
[0087]如上述所述，本發(fā)明利用填密片710a?710c，可完全密封固定片310和分配室330。
[0088]圖8是圖示本發(fā)明一實(shí)施例涉及的包括膨脹接頭的連接管的圖。
[0089]如圖8所示，本實(shí)施例涉及的連接管340還可包括膨脹接頭810。
[0090]膨脹接頭810以一定的間距通過將結(jié)構(gòu)體分離的狀態(tài)設(shè)置于連接管340上部以防止主體210下部的熱膨脹引起連接管340的伸縮導(dǎo)致裂縫等結(jié)構(gòu)缺陷。
[0091]膨脹接頭810安裝于連接管340上部以緩解管道內(nèi)溫度變化等因素引起的膨脹收縮現(xiàn)象，使氣體分配層330和連接管免受主體210熱膨脹引起的影響。
[0092]圖9(a)是本發(fā)明一實(shí)施例涉及的支撐臺(tái)的示意圖。
[0093]如圖9所示，本實(shí)施例涉及的支撐部260支撐主體包括支撐臺(tái)920、支撐座910、輔助墊930及支架940以不施加主體210的重量于旋轉(zhuǎn)體230等之上。
[0094]支撐座910是以圓形的主體210下部的直徑為一邊的四邊形框，四邊形框的每個(gè)邊的中心與主體210下部的外表面接觸，從而支撐主體。
[0095]支撐臺(tái)920為從支撐座910的各個(gè)棱角位置延伸至地面的梁柱，起到支撐主體重量的效果。
[0096]輔助墊930從支撐座910的棱角位置向矩形框的中心方向延伸至與主體210下部部分地面接觸的位置，從而具有分散支撐座910受力的效果。
[0097]支架940用于支撐輔助墊930，連接輔助墊930和支撐臺(tái)920，支架940與輔助墊930和支撐臺(tái)920共同形成直角三角形形狀。因此，支架940具有將輔助墊930的受力向支撐臺(tái)920分散的效果。
[0098]以上所述的支撐部260從地面直接支撐主體210，可避免氣體分配層220、旋轉(zhuǎn)體230等承載主體210負(fù)重，從而在旋轉(zhuǎn)體230旋轉(zhuǎn)時(shí)，能夠起到改善旋轉(zhuǎn)體230與氣體分配層220間的摩擦引起的磨損等的效果。
[0099]以上說明僅僅是為了舉例說明本實(shí)施例的技術(shù)思想，只要是本實(shí)施例所屬的技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員，在不超過本實(shí)施例的本質(zhì)特征的范圍內(nèi)，可進(jìn)行各種修改和變形。因此，本實(shí)施例不是為了限定本實(shí)施例的技術(shù)思想，而是為了對其進(jìn)行說明，本實(shí)施例的技術(shù)思想的范圍不限于上述實(shí)施例。本實(shí)施例的保護(hù)范圍解釋要依據(jù)權(quán)利要求書，與其等同范圍內(nèi)的所有技術(shù)思想均被認(rèn)為屬于本實(shí)施例的權(quán)利范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種蓄熱式氧化裝置的氣體分配層，其包括具有焚化爐和蓄熱室的主體、氣體分配層、旋轉(zhuǎn)體、管、驅(qū)動(dòng)裝置及支撐部，其特征在于，所述氣體分配層包括: 將通過所述旋轉(zhuǎn)體的氣體向所述主體分配或者將所述主體流出的氣體向排放管傳遞的分配室； 作為所述旋轉(zhuǎn)體上的固定體，且將所述分配室與所述旋轉(zhuǎn)體固定在一起的固定片；以及 根據(jù)所述主體的尺寸被配置不同長度的、連接所述分配室和所述主體下部的連接管。2.如權(quán)利要求1所述的蓄熱式氧化裝置的氣體分配層，其特征在于，所述分配室包括: 連接所述旋轉(zhuǎn)體和所述分配室的下部中心孔； 將所述分配室內(nèi)部分隔為多個(gè)空間的分配板； 被所述分配板分割成多個(gè)空間的分配扇片；以及 能夠移動(dòng)所述分配扇片和主體下部之間氣體的上部分配孔。3.如權(quán)利要求2所述的蓄熱式氧化裝置的氣體分配層，其特征在于，所述分配室還包括能夠檢測與所述分配室的地面水平與否的水平檢查孔和蓋子，且所述水平檢查孔為貫通所述分配室內(nèi)部中心的圓柱體形狀，且所述蓋子位于所述水平檢查孔上部并能夠開合。4.如權(quán)利要求3所述的蓄熱式氧化裝置的氣體分配層，其特征在于，所述下部中心孔位于所述分配室的下部、為圓形且尺寸小于固定片以使其能夠與所述固定片相接觸，所述分配板為位于所述分配室內(nèi)部、從所述水平檢查孔延伸至所述分配室外表面的矩形板，所述分配扇片為除所述水平檢查孔之外、在所述分配室內(nèi)部通過所述分配板形成的空間，其下部的一部分被下部中心孔穿透，所述上部分配孔為延伸于所述分配扇片、并位于所述分配室周圍的圓形孔。5.如權(quán)利要求2至4中任一項(xiàng)所述的蓄熱式氧化裝置的氣體分配層，其特征在于，所述分配室還包括填密片，所述填密片形成于所述分配室下部和固定片上部相遇的面以阻止所述固定片和所述分配室之間的氣體向外部流入或者流出。6.如權(quán)利要求5所述的蓄熱式氧化裝置的氣體分配層，其特征在于，所述分配板的下部包括用于固定所述填密片的輔助板且所述填密片固定在所述分配板和所述輔助板之間。7.如權(quán)利要求5所述的蓄熱式氧化裝置的氣體分配層，其特征在于，所述填密片由耐高溫的陶瓷材料制成。8.如權(quán)利要求1或2所述的蓄熱式氧化裝置的氣體分配層，其特征在于，所述分配室和所述固定片通過連接件連接并固定，所述連接件包括: 固定于所述分配室下部的第一螺栓； 連接于所述第一螺栓的螺帽的制動(dòng)器；用于固定所述制動(dòng)器于所述第一螺栓的螺母；以及 連接并固定于所述制動(dòng)器的另一部分、以所述制動(dòng)器為杠桿固定所述固定片的第二螺栓。9.如權(quán)利要求1或2所述的蓄熱式氧化裝置的氣體分配層，其特征在于，所述連接管為彎曲角為90 °的曲線以連接所述上部分配孔至所述主體的下部。10.如權(quán)利要求1或2所述的蓄熱式氧化裝置的氣體分配層，其特征在于，所述連接管的上端還包括膨脹接頭以緩解所述連接管內(nèi)由于溫度變化等原因引起的膨脹收縮現(xiàn)象。11.一種蓄熱式氧化裝置的氣體分配層，其包括具有焚化爐和蓄熱室的主體、氣體分配層、旋轉(zhuǎn)體、管、驅(qū)動(dòng)裝置及支撐部，其特征在于， 所述氣體分配層包括將通過所述旋轉(zhuǎn)體的氣體向所述主體分或者將所述主體流出的氣體向排放管傳遞的分配室和作為所述旋轉(zhuǎn)體上的固定體且將所述分配室與所述旋轉(zhuǎn)體固定在一起的固定片， 并且緊密連接所述分配室和所述固定片以及所述分配室和所述主體下部以防止氣體向外部泄出， 所述分配室包括連接所述旋轉(zhuǎn)體和所述分配室的下部中心孔、將所述分配室內(nèi)部分隔為多個(gè)空間的分配板、被所述分配板分割成多個(gè)空間的分配扇片及能夠移動(dòng)所述分配扇片和主體下部之間氣體的上部分配孔。12.如權(quán)利要求11所述的蓄熱式氧化裝置的氣體分配層，其特征在于，所述上部分配孔位于所述分配室上部，且直接與主體下部連接。13.如權(quán)利要求12所述的蓄熱式氧化裝置的氣體分配層，其特征在于，所述分配室還包括能夠檢測與所述分配室的地面水平與否的水平檢查孔和蓋子，所述水平檢查孔為貫通所述分配室內(nèi)部中心的圓柱體形狀，且所述蓋子位于所述水平檢查孔上部并能夠開合。14.如權(quán)利要求11至13中任一項(xiàng)所述的蓄熱式氧化裝置的氣體分配層，其特征在于，所述分配室還包括填密片，所述填密片形成于所述分配室下部和固定片上部相遇的面以阻止所述固定片和所述分配室之間的氣體向外部流入或者流出，且所述填密片由耐高溫的陶瓷材料制成。15.—種蓄熱式氧化裝置，其包括具有焚化爐和蓄熱室的主體、氣體分配層、旋轉(zhuǎn)體、管、驅(qū)動(dòng)裝置及支撐部，其特征在于，所述氣體分配層包括: 將通過所述旋轉(zhuǎn)體的氣體向所述主體分配或者將所述主體流出的氣體向排放管傳遞的分配室； 作為所述旋轉(zhuǎn)體上的固定體，且將所述分配室與所述旋轉(zhuǎn)體固定在一起的固定片；以及 連接分配室和主體下部的連接管， 其中，所述分配室還包括連接所述旋轉(zhuǎn)體和所述分配室的下部中心孔、將所述分配室內(nèi)部分隔為多個(gè)空間的分配板、被所述分配板分割成多個(gè)空間的分配扇片、能夠移動(dòng)所述分配扇片和主體下部之間氣體的上部分配孔及能夠檢測與所述分配室的地面水平與否的水平檢查孔和蓋子， 其中，所述水平檢查孔為貫通所述分配室內(nèi)部中心的圓柱體形狀，且所述蓋子位于所述水平檢查孔上部并能夠開合。16.如權(quán)利要求15所述的蓄熱式氧化裝置，其特征在于，所述下部中心孔位于所述分配室的下部、為圓形且尺寸小于固定片以使其能夠與所述固定片相接觸，所述分配板為位于所述分配室內(nèi)部、從所述水平檢查孔延伸至所述分配室外表面的矩形板，所述分配扇片為除所述水平檢查孔之外、在所述分配室內(nèi)部通過所述分配板形成的空間，且其下部的一部分被下部中心孔穿透，所述上部分配孔為延伸于所述分配扇片、并位于所述分配室周圍的圓形孔。17.如權(quán)利要求15或16所述的蓄熱式氧化裝置，其特征在于，所述支撐部從所述主體下部連接至地面以直接支撐所述主體，從而不施加所述主體的負(fù)重于所述氣體分配層和所述旋轉(zhuǎn)體部。18.如權(quán)利要求15或16所述的蓄熱式氧化裝置，其特征在于，所述連接管為彎曲角為90°的曲線以連接所述上部分配孔連接至所述主體的下部。19.如權(quán)利要求15或16所述的蓄熱式氧化裝置，其特征在于，所述連接管還包括膨脹接頭以緩解所述連接管內(nèi)由于溫度變化等原因引起的膨脹收縮現(xiàn)象。20.如權(quán)利要求16所述的蓄熱式氧化裝置氣體分配層，其特征在于，所述分配室還包括填密片，所述填密片形成于所述分配室下部和固定片上部相遇的面以阻止所述固定片和所述分配室之間的氣體向外部流入或者流出，且所述填密片由耐高溫的陶瓷材料制成。21.如權(quán)利要求15或16所述的蓄熱式氧化裝置，其特征在于，所述分配室和所述固定片通過連接件連接并固定，所述連接件包括: 固定于所述分配室下部的第一螺栓； 連接于所述第一螺栓的螺帽的制動(dòng)器；固定所述制動(dòng)器于所述第一螺栓的螺母；以及 連接并固定于所述制動(dòng)器的另一部分、以所述制動(dòng)器為杠桿固定所述固定片的第二螺栓。
【文檔編號】F23G7/06GK106090944SQ201510477411
【公開日】2016年11月9日
【申請日】2015年8月6日
【發(fā)明人】李善雨
【申請人】株式會(huì)社德福喜