專利名稱：：干燥裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及用于干燥晶圓的干燥裝置，特別涉及晶圓清洗后的干燥裝置。
背景技術(shù)：
：在半導(dǎo)體器件的制造工藝中，清洗是其中最重要和最頻繁的步驟之一。一般來說，在半導(dǎo)體器件的整個制造工藝中，高達(dá)20%的步驟為清洗的步驟。清洗的目的是為了避免微量離子和金屬雜質(zhì)對半導(dǎo)體器件的污染，以至于影響半導(dǎo)體器件的性能和合格率。而在晶圓清洗之后，為了避免晶圓上殘留的水印或是殘留清洗液反應(yīng)物對于后續(xù)制程產(chǎn)生影響，一般都會對于晶圓進(jìn)行干燥。例如美國專利號為5996594的美國專利所公開的，在晶圓清洗后將晶圓與旋轉(zhuǎn)頭固定，利用離心力來進(jìn)行旋轉(zhuǎn)式干燥。目前用于旋轉(zhuǎn)式干燥的干燥裝置如圖l所示，包括，旋轉(zhuǎn)臺1、連接旋轉(zhuǎn)臺l位于旋轉(zhuǎn)臺1上方用于放置晶圓的晶圓架2。當(dāng)進(jìn)行晶圓干燥時，旋轉(zhuǎn)臺啟動帶動晶圓架2旋轉(zhuǎn)，通過旋轉(zhuǎn)產(chǎn)生的離心力使晶圓3表面干燥。然而，在目前的旋轉(zhuǎn)式晶圓干燥工藝中發(fā)現(xiàn)，由于目前使用的旋轉(zhuǎn)臺l的轉(zhuǎn)速較低，在完成干燥的晶圓上還能夠發(fā)現(xiàn)殘留的水份，并且干燥的時間也較長，晶圓干燥的效率不高。而如果使得旋轉(zhuǎn)臺1的轉(zhuǎn)速很快，則會影響晶圓干燥過程中的穩(wěn)定性，甚至有可能會損壞晶圓，并且旋轉(zhuǎn)臺1的轉(zhuǎn)速過快也會導(dǎo)致旋轉(zhuǎn)臺l耗損較快，增加了設(shè)備成本。
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明提供了一種干燥裝置，解決現(xiàn)有技術(shù)干燥裝置在對晶圓干燥之后，晶圓表面仍殘留水份，并且干燥時間長，晶圓干燥效率不高的問題。為解決上述問題，本發(fā)明提供了一種干燥裝置，包括，旋轉(zhuǎn)臺、連接所述旋轉(zhuǎn)臺位于旋轉(zhuǎn)臺上方用于放置晶圓的晶圓架以及與所述晶圓架相對，用于向所述晶圓吹氣的干燥輔助裝置?？蛇x的，所述干燥輔助裝置包括氣體供應(yīng)裝置以及連接氣體供應(yīng)裝置并位于晶圓架上方的氣體釋出裝置，所述氣體供應(yīng)裝置和氣體釋出裝置通過傳輸管道連接。可選的，所述干燥輔助裝置包括氣體供應(yīng)裝置、連接氣體供應(yīng)裝置的加熱裝置以及連接加熱裝置并位于晶圓架上方的氣體釋出裝置，所述氣體供應(yīng)裝置、加熱裝置和氣體釋出裝置通過傳輸管道連接?？蛇x的，所述干燥輔助裝置包括氣體供應(yīng)裝置、連接氣體供應(yīng)裝置的過濾器以及連接過濾器位于晶圓架上方的氣體釋出裝置，所述氣體供應(yīng)裝置、過濾器、氣體釋出裝置通過傳輸管道連接?？蛇x的，所述干燥輔助裝置包括氣體供應(yīng)裝置、連接氣體供應(yīng)裝置的過濾器、連接過濾器的加熱裝置、連接加熱裝置并位于晶圓架上方的氣體釋出裝置，所述氣體供應(yīng)裝置、過濾器、加熱裝置、氣體釋出裝置通過傳輸管道連接?？蛇x的，所述干燥輔助裝置包括氣體供應(yīng)裝置、連接氣體供應(yīng)裝置的加熱裝置、連接加熱裝置的過濾器、連接過濾器并位于晶圓架上方的氣體釋出裝置，所述氣體供應(yīng)裝置、加熱裝置、過濾器、氣體釋出裝置通過傳輸管道連接?？蛇x的，所述干燥輔助裝置包括氣體供應(yīng)裝置、連接氣體供應(yīng)裝置的第一過濾器、連接第一過濾器的加熱裝置、連接加熱裝置的第二過濾器、連接第二過濾器并位于晶圓架上方的氣體釋出裝置，所述氣體供應(yīng)裝置、第一過濾器、加熱裝置、第二過濾器和氣體釋出裝置通過傳輸管道連接。與現(xiàn)有技術(shù)相比，上述方案具有以下優(yōu)點(diǎn)上述方案干燥裝置通過增設(shè)干燥輔助裝置向晶圓吹氣，使得殘留的水份能夠地從晶圓表面去除，不但避免了晶圓干燥之后表面殘留水份，并且減少了晶圓干燥的時間，因而提高了晶圓干燥的效率。圖l是現(xiàn)有干燥裝置示意圖；圖2是本發(fā)明實(shí)施例1干燥裝置示意圖；圖3是本發(fā)明實(shí)施例2干燥裝置示意圖；圖4是本發(fā)明實(shí)施例3干燥裝置示意圖；圖5是本發(fā)明實(shí)施例4干燥裝置示意圖；圖6是本發(fā)明實(shí)施例5干燥裝置示意圖；圖7是本發(fā)明實(shí)施例6干燥裝置示意圖。具體實(shí)施例方式本發(fā)明干燥裝置通過增設(shè)干燥輔助裝置向晶圓吹氣，使得殘留的水份能夠地從晶圓表面去除，不但避免了晶圓干燥之后表面殘留水份，并且減少了晶圓干燥的時間，因而提高了晶圓干燥的效率。實(shí)施例1如圖2所示，本發(fā)明實(shí)施例干燥裝置包括，旋轉(zhuǎn)臺10;連接旋轉(zhuǎn)臺IO位于旋轉(zhuǎn)臺IO上方，用于放置晶圓30的晶圓架20;與晶圓架20相對，用于向晶圓30表面吹氣的干燥輔助裝置，所述干燥輔助裝置包括氣體供應(yīng)裝置40、連通氣體供應(yīng)裝置40的傳輸管道41以及連接傳輸管道41并位于晶圓架20上方的氣體釋出裝置42。所述氣體供應(yīng)裝置40提供的氣體為氮?dú)饣蚨栊詺怏w，例如氦、氖、氬、氪等。所述與氣體供應(yīng)裝置40和氣體釋出裝置42相連的傳輸管道41采用金屬或硬質(zhì)塑料的材質(zhì)。所述傳輸管道41釆用焊接或鉚接的方式與氣體供應(yīng)裝置40和氣體釋出裝置42相連。作為本發(fā)明實(shí)施例的一種可實(shí)現(xiàn)方式，所述傳輸管道41為不銹鋼螺紋管，通過螺紋旋緊的方式分別與氣體供應(yīng)裝置40和氣體釋出裝置42相連。所述釋出裝置42包括用于向晶圓30表面吹氣的噴槍423、連通傳輸管道41并向噴槍423提供氣體的傳輸軟管(圖中未標(biāo)號)、用于固定噴槍的懸架421、用于帶動懸架421運(yùn)動的馬達(dá)422。所述噴槍423位于晶圓30上方并且噴槍423的噴口指向晶圓30中心，所述噴槍423的噴口相對于晶圓30的角度為30至45度，例如31度、32度、33度、34度、35度、36度、37度、38度、39度、40度、41度、42度、43度、44度、45度。如前所述，當(dāng)晶圓完成清洗之后，就需要進(jìn)行干燥以避免晶圓表面殘留的水印或是殘留的清洗液反應(yīng)物對后續(xù)制程造成影響。在晶圓30被放置于晶圓架20上并固定好之后，旋轉(zhuǎn)臺10啟動，帶動晶圓架20旋轉(zhuǎn)，旋轉(zhuǎn)臺的轉(zhuǎn)速為3000-5000轉(zhuǎn)/分鐘，例如3000轉(zhuǎn)/分鐘、3200轉(zhuǎn)/分鐘、3400轉(zhuǎn)/分鐘、3600轉(zhuǎn)/分鐘、3800轉(zhuǎn)/分鐘、4000轉(zhuǎn)/分鐘、4200轉(zhuǎn)/分鐘、4400轉(zhuǎn)/分鐘、4600轉(zhuǎn)/分鐘、4800轉(zhuǎn)/分鐘、5000轉(zhuǎn)/分鐘。此時，氣體供應(yīng)裝置40開啟提供氮?dú)饣蚨栊詺怏w，氮?dú)饣蚨栊詺怏w的氣壓為3至5Atm,例如3.2Atm、3.4Atm、3.6Atm、3.8Atm、4Atm、4.2Atm、4.4Atm、4.6Atm、4.8Atm、5Atm。氮?dú)饣蚨栊詺怏w通過傳輸管道41到達(dá)傳輸軟管，由于傳輸軟管與噴槍423連通，氮?dú)饣蚨栊詺怏w就通過噴槍423吹到晶圓表面。此時，馬達(dá)422還會帶動懸架421以一定的角度旋轉(zhuǎn)，馬達(dá)422轉(zhuǎn)動的角度應(yīng)能夠使得噴槍423噴出的氮?dú)饣蚨栊詺怏w能夠覆蓋整個晶圓30，因此馬達(dá)422轉(zhuǎn)動的角度其實(shí)是根據(jù)馬達(dá)422所處的位置以及噴槍423在晶圓30上方所處的位置來確定的。實(shí)施例2如圖3所示，本發(fā)明實(shí)施例干燥裝置包括，旋轉(zhuǎn)臺10;連接旋轉(zhuǎn)臺IO位于旋轉(zhuǎn)臺IO上方，用于放置晶圓30的晶圓架20;與晶圓架20相對，用于向晶圓30表面吹氣的干燥輔助裝置，所述干燥輔助裝置包括氣體供應(yīng)裝置40、連通氣體供應(yīng)裝置40的傳輸管道41、連通傳輸管道41的過濾器43、連通過濾器43的傳輸管道41以及連通傳輸管道41并位于晶圓架20上方的氣體釋出裝置42。所述氣體供應(yīng)裝置40提供的氣體為氮?dú)饣蚨栊詺怏w，例如氦、氖、氬、氪等。所述過濾器43用以過濾氣體供應(yīng)裝置40提供的氣體中含有的污染物顆粒。所述與氣體供應(yīng)裝置40、氣體釋出裝置42以及過濾器43相連的傳輸管道41采用金屬或硬質(zhì)塑料的材質(zhì)。所述傳輸管道41采用焊接或鉚接的方式與氣體供應(yīng)裝置40、氣體釋出裝置42以及過濾器43相連。作為本發(fā)明實(shí)施例的一種可實(shí)現(xiàn)方式，所述傳輸管道41為不銹鋼螺紋管，通過螺紋旋緊的方式分別與氣體供應(yīng)裝置40、氣體釋出裝置42以及過濾器43相連。所述釋出裝置42包括用于向晶圓30表面吹氣的噴槍423、連通傳輸管道41并向噴槍423提供氣體的傳輸軟管(圖中未標(biāo)號)、用于固定噴槍的懸架421、用于帶動懸架421運(yùn)動的馬達(dá)422。所述噴槍423位于晶圓30上方并且噴槍423的噴口指向晶圓30中心，所述噴槍423的噴口相對于晶圓30的角度為30至45度，例如31度、32度、33度、34度、35度、36度、37度、38度、39度、40度、41度、42度、43度、44度、45度。如前所述，當(dāng)晶圓完成清洗之后，就需要進(jìn)行干燥以避免晶圓表面殘留的水份或是殘留的清洗液反應(yīng)物對后續(xù)制程造成影響。在晶圓30被放置于晶圓架20上并固定好之后，旋轉(zhuǎn)臺IO啟動，帶動晶圓架20旋轉(zhuǎn)，旋轉(zhuǎn)臺的轉(zhuǎn)速為3000-5000轉(zhuǎn)/分鐘，例如3000轉(zhuǎn)/分鐘、3200轉(zhuǎn)/分鐘、3400轉(zhuǎn)/分鐘、3600轉(zhuǎn)/分鐘、3800轉(zhuǎn)/分鐘、4000轉(zhuǎn)/分鐘、4200轉(zhuǎn)/分鐘、4400轉(zhuǎn)/分鐘、4600轉(zhuǎn)/分鐘、4800轉(zhuǎn)/分鐘、5000轉(zhuǎn)/分鐘。此時，氣體供應(yīng)裝置40開啟提供氮?dú)饣蚨栊詺怏w，氮?dú)饣蚨栊詺怏w的氣壓為3至5Atm,例如3.2Atm、3.4Atm、3.6Atm、3.8Atm、4Atm、4.2Atm、4.4Atm、4.6Atm、4.8Atm、5Atm。氮?dú)饣蚨栊詺怏w通過傳輸管道41到達(dá)過濾器43，氮?dú)饣蚨栊詺怏w經(jīng)過過濾器43的過濾能夠去除微細(xì)顆粒污染物。所述過濾器43的過濾孔徑為O.lum至0.16um，例如O.lum、0.105um、O.llum、0.115um、0.12um、0.125um、0.13um、0.135um、0.14um、0.145um、0.15um、0.155um、0.16um。經(jīng)過過濾器43過濾的氮?dú)饣蚨栊詺怏w再通過傳輸管道41到達(dá)傳輸軟管，由于傳輸軟管與噴槍423連通，氮?dú)饣蚨栊詺怏w就通過噴槍423吹到晶圓表面。此時，馬達(dá)422還會帶動懸架421以一定的角度旋轉(zhuǎn)，馬達(dá)422轉(zhuǎn)動的角度應(yīng)能夠使得噴槍423噴出的氮?dú)饣蚨栊詺怏w能夠覆蓋整個晶圓30,因此馬達(dá)422轉(zhuǎn)動的角度其實(shí)是根據(jù)馬達(dá)422所處的位置以及噴槍423在晶圓30上方所處的位置來確定的。實(shí)施例3如圖4所示，本發(fā)明實(shí)施例干燥裝置包括，旋轉(zhuǎn)臺10;連接旋轉(zhuǎn)臺IO位于旋轉(zhuǎn)臺IO上方，用于放置晶圓30的晶圓架20;用于向晶圓30表面吹氣的干燥輔助裝置，所述干燥輔助裝置包括氣體供應(yīng)裝置40、連通氣體供應(yīng)裝置40的傳輸管道41、連通傳輸管道41的加熱裝置44、連通加熱裝置44的傳輸管道41以及連通傳輸管道41并位于晶圓架20上方的氣體釋出裝置42。所述氣體供應(yīng)裝置40提供的氣體為氮?dú)饣蚨栊詺怏w，例如氦、氖、氬、氪等。所述加熱裝置44用以對于氣體供應(yīng)裝置40提供的氣體進(jìn)行加熱以提高干燥的效率。所述與氣體供應(yīng)裝置40、氣體釋出裝置42以及加熱裝置44相連的傳輸管道41采用金屬或石更質(zhì)塑料的材質(zhì)。所述傳輸管道41采用焊接或鉚接的方式與氣體供應(yīng)裝置40、氣體釋出裝置42以及加熱裝置44相連。作為本發(fā)明實(shí)施例的一種可實(shí)現(xiàn)方式，所述傳輸管道41為不銹鋼螺紋管，通過螺紋旋緊的方式分別與氣體供應(yīng)裝置40、氣體釋出裝置42以及加熱裝置44相連。所述釋出裝置42包括用于向晶圓30表面吹氣的噴槍423、連通傳輸管道41并向噴槍423提供氣體的傳輸軟管(圖中未標(biāo)號)、用于固定噴槍的懸架421、用于帶動懸架421運(yùn)動的馬達(dá)422。所述噴槍423位于晶圓30上方并且噴槍423的噴口指向晶圓30中心，所述噴槍423的噴口相對于晶圓30的角度為30至45度，例如31度、32度、33度、34度、35度、36度、37度、38度、39度、40度、41度、42度、43度、44度、45度。如前所述，當(dāng)晶圓完成清洗之后，就需要進(jìn)行干燥以避免晶圓表面殘留的水份或是殘留的清洗液反應(yīng)物對后續(xù)制程造成影響。在晶圓30被放置于晶圓架20上并固定好之后，旋轉(zhuǎn)臺IO啟動，帶動晶圓架20旋轉(zhuǎn)，旋轉(zhuǎn)臺的轉(zhuǎn)速為3000-5000轉(zhuǎn)/分鐘，例如3000轉(zhuǎn)/分鐘、3200轉(zhuǎn)/分鐘、3400轉(zhuǎn)/分鐘、3600轉(zhuǎn)/分鐘、3800轉(zhuǎn)/分鐘、4000轉(zhuǎn)/分鐘、4200轉(zhuǎn)/分鐘、4400轉(zhuǎn)/分鐘、4600轉(zhuǎn)/分鐘、4800轉(zhuǎn)/分鐘、5000轉(zhuǎn)/分鐘。此時，氣體供應(yīng)裝置40開啟提供氮?dú)饣蚨栊詺怏w，氮?dú)饣蚨栊詺怏w的氣壓為3至5Atm，例如3.2Atm、3.4Atm、3.6Atm、3.8Atm、4Atm、4.2Atm、4.4Atm、4.6Atm、4.8Atm、5Atm。氮?dú)饣蚨栊詺怏w通過傳輸管道41到達(dá)加熱裝置44，加熱裝置44加熱氮?dú)饣蚨栊詺怏w的作用是為了使得晶圓表面的水份能夠更快地脫離晶圓，通過加熱的氮?dú)饣蚨栊詺怏w溫度為50至6(TC,例如50。C、51°C、52°C、53°C、54°C、55°C、56°C、57°C、58°C、59°C、60°C。經(jīng)過加熱裝置44加熱的氮?dú)饣蚨栊詺怏w再通過傳輸管道41到達(dá)傳輸軟管，由于傳輸軟管與噴槍423連通，氮?dú)饣蚨栊詺怏w就通過噴槍423吹到晶圓表面。此時，馬達(dá)422還會帶動懸架421以一定的角度旋轉(zhuǎn)，馬達(dá)422轉(zhuǎn)動的角度應(yīng)能夠使得噴槍423噴出的氮?dú)饣蚨栊詺怏w能夠覆蓋整個晶圓30,因此馬達(dá)422轉(zhuǎn)動的角度其實(shí)是根據(jù)馬達(dá)422所處的位置以及噴槍423在晶圓30上方所處的位置來確定的。實(shí)施例4如圖5所示，本發(fā)明實(shí)施例干燥裝置包括，旋轉(zhuǎn)臺10;連接旋轉(zhuǎn)臺IO位于旋轉(zhuǎn)臺IO上方，用于放置晶圓30的晶圓架20;用于向晶圓30表面吹氣的干燥輔助裝置，所述干燥輔助裝置包括氣體供應(yīng)裝置40、連通氣體供應(yīng)裝置40的傳輸管道41、連通傳輸管道41的過濾器43、連通過濾器43的傳輸管道41、連通傳輸管道41的加熱裝置44、連通加熱裝置44的傳輸管道41以及連通傳輸管道41并位于晶圓架20上方的氣體釋出裝置42。所述氣體供應(yīng)裝置40提供的氣體為氮?dú)饣蚨栊詺怏w，例如氦、氖、氬、氪等。所述過濾器43用以過濾氣體供應(yīng)裝置40提供的氣體中含有的污染物顆粒。所述加熱裝置44用以對于氣體供應(yīng)裝置40提供的氣體進(jìn)行加熱以提高干燥的效率。所述與氣體供應(yīng)裝置40、氣體釋出裝置42、過濾器43以及加熱裝置44相連的傳輸管道41采用金屬或硬質(zhì)塑料的材質(zhì)。所述傳輸管道41采用焊接或鉚接的方式與氣體供應(yīng)裝置40、氣體釋出裝置42、過濾器43以及加熱裝置44相連。作為本發(fā)明實(shí)施例的一種可實(shí)現(xiàn)方式，所述傳輸管道41為不銹鋼螺紋管，通過螺紋旋緊的方式分別與氣體供應(yīng)裝置40、氣體釋出裝置42、過濾器43以及加熱裝置44相連。所述釋出裝置42包括用于向晶圓30表面吹氣的噴槍423、連通傳輸管道41并向噴槍423提供氣體的傳輸軟管(圖中未標(biāo)號)、用于固定噴槍的懸架421、用于帶動懸架421運(yùn)動的馬達(dá)422。所述噴槍423位于晶圓30上方并且噴槍423的噴口指向晶圓30中心，所述噴槍423的噴口相對于晶圓30的角度為30至45度，例如31度、32度、33度、34度、35度、36度、37度、38度、39度、40度、41度、42度、43度、44度、45度。如前所述，當(dāng)晶圓完成清洗之后，就需要進(jìn)行干燥以避免晶圓表面殘留的水份或是殘留的清洗液反應(yīng)物對后續(xù)制程造成影響。在晶圓30被放置于晶圓架20上并固定好之后，旋轉(zhuǎn)臺IO啟動，帶動晶圓架20旋轉(zhuǎn)，旋轉(zhuǎn)臺的轉(zhuǎn)速為3000-5000轉(zhuǎn)/分鐘，例如3000轉(zhuǎn)/分鐘、3200轉(zhuǎn)/分鐘、3400轉(zhuǎn)/分鐘、3600轉(zhuǎn)/分鐘、3800轉(zhuǎn)/分鐘、4000轉(zhuǎn)/分鐘、4200轉(zhuǎn)/分鐘、4400轉(zhuǎn)/分鐘、4600轉(zhuǎn)/分鐘、4800轉(zhuǎn)/分鐘、5000轉(zhuǎn)/分鐘。此時，氣體供應(yīng)裝置40開啟提供氮?dú)饣蚨栊詺怏w，氮?dú)饣蚨栊詺怏w的氣壓為3至5Atm，例如3.2Atm、3.4Atm、3.6Atm、3.8Atm、4Atm、4.2Atm、4.4Atm、4.6Atm、4.8Atm、5Atm。氮?dú)饣蚨栊詺怏w通過傳輸管道41到達(dá)過濾器43,氮?dú)饣蚨栊詺怏w經(jīng)過過濾器43的過濾能夠去除微細(xì)顆粒污染物。所述過濾器43的過濾孔徑為O.lum至0.16um,例如O.lum、0.105um、O.llum、0.115um、0.12um、0.125um、0.13um、0.135um、0.14um、0.145um、0.15um、0.155um、0.16um。經(jīng)過過濾器43過濾的氮?dú)饣蚨栊詺怏w再經(jīng)過傳輸管道41到達(dá)加熱裝置44,加熱裝置44加熱氮?dú)饣蚨栊詺怏w的作用是為了使得晶圓表面的水份能夠更快地脫離晶圓表面，通過加熱的氮?dú)饣蚨栊詺怏w溫度為50至60。C,例如50。C、51°C、52°C、53°C、54°C、55°C、56°C、57°C、58°C、59°C、60°C。經(jīng)過加熱裝置44加熱的氮?dú)饣蚨栊詺怏w再通過傳輸管道41到達(dá)傳輸軟管，由于傳輸軟管與噴槍423連通，氮?dú)饣蚨栊詺怏w就通過噴槍423吹到晶圓表面。此時，馬達(dá)422還會帶動懸架421以一定的角度旋轉(zhuǎn)，馬達(dá)422轉(zhuǎn)動的角度應(yīng)能夠使得噴槍423噴出的氮?dú)饣蚨栊詺怏w能夠覆蓋整個晶圓30,因此馬達(dá)422轉(zhuǎn)動的角度其實(shí)是根據(jù)馬達(dá)422所處的位置以及噴槍423在晶圓30上方所處的位置來確定的。實(shí)施例5如圖6所示，本發(fā)明實(shí)施例干燥裝置包括，旋轉(zhuǎn)臺10;連接旋轉(zhuǎn)臺IO位于旋轉(zhuǎn)臺IO上方，用于放置晶圓30的晶圓架20;用于向晶圓30表面吹氣的干燥輔助裝置，所述干燥輔助裝置包括氣體供應(yīng)裝置40、連通氣體供應(yīng)裝置40的傳輸管道41、連通傳輸管道41的加熱裝置44、連通加熱裝置44的傳輸管道41、連通傳輸管道41的過濾器43、連通過濾器43的傳輸管道41以及連通傳輸管道41并位于晶圓架20上方的氣體釋出裝置42。所述氣體供應(yīng)裝置40提供的氣體為氮?dú)饣蚨栊詺怏w，例如氦、氖、氬、氪等。所述加熱裝置44用以對于氣體供應(yīng)裝置40提供的氣體進(jìn)行加熱以提高干燥的效率。所述過濾器43用以過濾經(jīng)加熱的氣體中含有的污染物顆粒。所述與氣體供應(yīng)裝置40、氣體釋出裝置42、過濾器43以及加熱裝置44相連的傳輸管道41采用金屬或硬質(zhì)塑料的材質(zhì)。所述傳輸管道41采用焊接或鉚接的方式與氣體供應(yīng)裝置40、氣體釋出裝置42、過濾器43以及加熱裝置44相連。作為本發(fā)明實(shí)施例的一種可實(shí)現(xiàn)方式，所述傳輸管道41為不銹鋼螺紋管，通過螺紋旋緊的方式分別與氣體供應(yīng)裝置40、氣體釋出裝置42、過濾器43以及加熱裝置44相連。所述釋出裝置42包括用于向晶圓30表面吹氣的噴槍423、連通傳輸管道41并向噴槍423提供氣體的傳輸軟管(圖中未標(biāo)號)、用于固定噴槍的懸架421、用于帶動懸架421運(yùn)動的馬達(dá)422。所述噴槍423位于晶圓30上方并且噴槍423的噴口指向晶圓30中心，所述噴槍423的噴口相對于晶圓30的角度為30至45度，例如31度、32度、33度、34度、35度、36度、37度、38度、39度、40度、41度、42度、43度、44度、45度。如前所述，當(dāng)晶圓完成清洗之后，就需要進(jìn)行干燥以避免晶圓表面殘留的水份或是殘留的清洗液反應(yīng)物對后續(xù)制程造成影響。在晶圓30被放置于晶圓架20上并固定好之后，旋轉(zhuǎn)臺10啟動帶動晶圓架20旋轉(zhuǎn)，旋轉(zhuǎn)臺的轉(zhuǎn)速為3000-5000轉(zhuǎn)/分鐘，例如3000轉(zhuǎn)/分鐘、3200轉(zhuǎn)/分鐘、3400轉(zhuǎn)/分鐘、3600轉(zhuǎn)/分鐘、3800轉(zhuǎn)/分鐘、4000轉(zhuǎn)/分鐘、4200轉(zhuǎn)/分鐘、4400轉(zhuǎn)/分鐘、4600轉(zhuǎn)/分鐘、4800轉(zhuǎn)/分鐘、5000轉(zhuǎn)/分鐘。此時，氣體供應(yīng)裝置40開啟提供氮?dú)饣蚨栊詺怏w，氮?dú)饣蚨栊詺怏w的氣壓為3至5Atm,例如3.2Atm、3.4Atm、3.6Atm、3.8Atm、4Atm、4.2Atm、4.4Atm、4.6Atm、4.8Atm、5Atm。氮?dú)饣蚨栊詺怏w通過傳輸管道41到達(dá)加熱裝置44,加熱裝置44加熱氮?dú)饣蚨栊詺怏w的作用是為了使得晶圓表面的水份能夠更快地脫離晶圓表面，通過加熱的氮?dú)饣蚨栊詺怏w溫度為50至60。C,例如50。C、51°C、52°C、53°C、54°C、55°C、56°C、57°C、58°C、59°C、60°C。經(jīng)過加熱裝置44加熱的氮?dú)饣蚨栊詺怏w再通過傳輸管道41到達(dá)過濾器43,氮?dú)饣蚨栊詺怏w經(jīng)過過濾器43的過濾能夠去除孩支細(xì)顆^立污染物。所述過濾器43的過濾孔徑為0.1um至0.16um,例如0.1um、0.105urn、O.llum、0.115urn、0.12um、0.125um、0.13um、0.135um、0.14um、0.145um、0.15um、0.155um、0.16um。經(jīng)過過濾器43過濾的氮?dú)饣蚨栊詺怏w再經(jīng)過傳輸管道41到達(dá)傳輸軟管，由于傳輸軟管與噴槍423連通，氮?dú)饣蚨栊詺怏w就通過噴槍423吹到晶圓表面。此時，馬達(dá)422還會帶動懸架421以一定的角度旋轉(zhuǎn)，馬達(dá)422轉(zhuǎn)動的角度應(yīng)能夠使得噴槍423噴出的氮?dú)饣蚨栊詺怏w能夠覆蓋整個晶圓30,因此馬達(dá)422轉(zhuǎn)動的角度其實(shí)是根據(jù)馬達(dá)422所處的位置以及噴槍423在晶圓30上方所處的位置來確定的。實(shí)施例6如圖7所示，本發(fā)明實(shí)施例干燥裝置包括，旋轉(zhuǎn)臺10;連接旋轉(zhuǎn)臺IO位于旋轉(zhuǎn)臺IO上方，用于放置晶圓30的晶圓架20;用于向晶圓30表面吹氣的干燥輔助裝置，所述干燥輔助裝置包括氣體供應(yīng)裝置40、連通氣體供應(yīng)裝置40的傳輸管道41、連通傳輸管道41的第一過濾器43、連通第一過濾器43的傳輸管道41、連通傳輸管道41的加熱裝置44、連通加熱裝置44的傳輸管道41、連通傳輸管道41的第二過濾器45、連通第二過濾器45的傳輸管道41以及連通傳輸管道41并位于晶圓架20上方的氣體釋出裝置42。所述氣體供應(yīng)裝置40提供的氣體為氮?dú)饣蚨栊詺怏w，例如氦、氖、氬、氪等。所述第一過濾器43用以過濾氣體供應(yīng)裝置40提供的氣體中含有的污染物顆粒。所述加熱裝置44用以對于氣體供應(yīng)裝置40提供的氣體進(jìn)行加熱以提高干燥的效率。所述第二過濾器45用以過濾經(jīng)加熱的氣體中含有的污染物顆粒。所述與氣體供應(yīng)裝置40、氣體釋出裝置42、過濾器43以及加熱裝置44相連的傳輸管道41采用金屬或硬質(zhì)塑料的材質(zhì)。所述傳輸管道41釆用焊接或鉚接的方式與氣體供應(yīng)裝置40、氣體釋出裝置42、第一過濾器43、加熱裝置44以及第二過濾器45相連。作為本發(fā)明實(shí)施例的一種可實(shí)現(xiàn)方式，所述傳輸管道41為不銹鋼螺紋管，通過螺紋旋緊的方式分別與氣體供應(yīng)裝置40、氣體釋出裝置42、第一過濾器43、加熱裝置44以及第二過濾器45相連。所述釋出裝置42包括用于向晶圓30表面吹氣的噴槍423、連通傳輸管道41并向噴槍423提供氣體的傳輸軟管(圖中未標(biāo)號)、用于固定噴槍的懸架421、用于帶動懸架421運(yùn)動的馬達(dá)422。所述噴槍423位于晶圓30上方并且噴槍423的噴口指向晶圓30中心，所述噴槍423的噴口相對于晶圓的角度為30至45度，例如31度、32度、33度、34度、35度、36度、37度、38度、39度、40度、41度、42度、43度、44度、45度。如前所述，當(dāng)晶圓完成清洗之后，就需要進(jìn)行干燥以避免晶圓表面殘留的水印或是殘留的清洗液反應(yīng)物對后續(xù)制程造成影響。在晶圓30被放置于晶圓架20上并固定好之后，旋轉(zhuǎn)臺IO啟動，帶動晶圓架20旋轉(zhuǎn)，旋轉(zhuǎn)臺的轉(zhuǎn)速為3000-5000轉(zhuǎn)/分鐘，例如3000轉(zhuǎn)/分鐘、3200轉(zhuǎn)/分鐘、3400轉(zhuǎn)/分鐘、3600轉(zhuǎn)/分鐘、3800轉(zhuǎn)/分鐘、4000轉(zhuǎn)/分鐘、4200轉(zhuǎn)/分鐘、4400轉(zhuǎn)/分鐘、4600轉(zhuǎn)/分鐘、4800轉(zhuǎn)/分鐘、5000轉(zhuǎn)/分鐘。此時，氣體供應(yīng)裝置40開啟提供氮?dú)?5或惰性氣體，氮?dú)饣蚨栊詺怏w的氣壓為3至5Atm,例如3.2Atm、3.4Atm、3.6Atm、3.8Atm、4Atm、4.2Atn^、4.4Atm、4,6Atm、4.8Atm、5Atm。氮?dú)饣蚨栊詺怏w通過傳輸管道41到達(dá)第一過濾器43,氮?dú)饣蚨栊詺怏w經(jīng)過第一過濾器43的過濾能夠去除微細(xì)顆粒污染物。所述第一過濾器43的過濾孔徑為O.lum至0.16um,例3口0.1um、0.105um、O.llum、0.115um、0.12um、0.125um、0.13um、0.135um、0.14um、0.145um、0.15um、0.155um、0.16um。經(jīng)過第一過濾器43過濾的氮?dú)饣蚨栊詺怏w通過傳輸管道41到達(dá)加熱裝置44,加熱裝置44加熱氮?dú)饣蚨栊詺怏w的作用是為了使得晶圓表面的水份能夠更快地脫離晶圓，通過加熱的氮?dú)饣蚨栊詺怏w溫度為50至60。C，例如50。C、51°C、52°C、53°C、54°C、55°C、56°C、57°C、58°C、59°C、60°C。經(jīng)過加熱裝置44加熱的氮?dú)饣蚨栊詺怏w再通過傳輸管道41到達(dá)第二過濾器45,氮?dú)饣蚨栊詺怏w經(jīng)過第二過濾器45的過濾能夠進(jìn)一步去除微細(xì)顆粒污染物。所述第二過濾器45的過濾孔徑為O.lum至0.16um,例如O.lum、0.105um、O.llum、0.115um、0.12um、0.125urn、0.13urn、0.135urn、0.14um、0.145um、0.15um、0.155um、0.16um。經(jīng)過第二過濾器45過濾的氮?dú)饣蚨栊詺怏w再經(jīng)過傳輸管道41到達(dá)傳輸軟管，由于傳輸軟管與噴槍423連通，氮?dú)饩屯ㄟ^噴槍423吹到晶圓表面。此時，馬達(dá)422還會帶動懸架421以一定的角度旋轉(zhuǎn)，馬達(dá)422轉(zhuǎn)動的角度應(yīng)能夠使得噴槍423噴出的氮?dú)饣蚨栊詺怏w能夠覆蓋整個晶圓30，因此馬達(dá)422轉(zhuǎn)動的角度其實(shí)是根據(jù)馬達(dá)422所處的位置以及噴槍423在晶圓30上方所處的位置來確定的。為了驗(yàn)證本發(fā)明實(shí)施例干燥裝置的晶圓干燥效果，選取現(xiàn)有的用于晶圓濕法清洗的TEL公司的型號為SS-4的濕法清洗設(shè)備以及本發(fā)明實(shí)施例6的干燥裝置作對比試驗(yàn)，而TEL公司的濕法清洗設(shè)備本身已含有用于晶圓干燥的干燥裝置，在使用本發(fā)明實(shí)施例6的干燥裝置的時候又分成兩種方法，一種是在旋轉(zhuǎn)臺開始旋轉(zhuǎn)的同時通入氮?dú)?，并且持續(xù)10分鐘，而另一種也是在旋頁轉(zhuǎn)臺開始旋轉(zhuǎn)的同時通入氮?dú)?，但是通入氮?dú)獾臅r間會一直持續(xù)到晶圓干燥完成。所述試驗(yàn)結(jié)果如下表所示，表1<table>tableseeoriginaldocumentpage17</column></row><table>從上表中可以看到，釆用本發(fā)明實(shí)施例6的干燥裝置進(jìn)行晶圓干燥的時間比采用TEL公司的濕法清洗設(shè)備中的干燥裝置進(jìn)行晶圓干燥的時間要少。并且，通入氮?dú)獾臅r間越長，晶圓干燥完成的時間也越快。如表1中所示，當(dāng)通入氮?dú)獾臅r間為10分鐘時，晶圓干燥完成的時間是20分鐘，而當(dāng)在晶圓干燥的過程中持續(xù)通入氮?dú)獾脑?，晶圓干燥完成的時間小于15分鐘。由此可以看出，在晶圓干燥的過程中通入氮?dú)獾臅r間越長，晶圓干燥完成的時間也越少，晶圓干燥的效率也越高。綜上所述，上述方案通過增設(shè)干燥輔助裝置向晶圓吹氣，使得殘留的水份能夠地從晶圓表面去除，不但避免了晶圓干燥之后表面殘留水份，并且減少了晶圓干燥的時間，因而提高了晶圓干燥的效率。雖然本發(fā)明已以較佳實(shí)施例披露如上，但本發(fā)明并非限定于此。任何本領(lǐng)域技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，均可作各種更動與修改，因此本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)當(dāng)以權(quán)利要求所限定的范圍為準(zhǔn)。權(quán)利要求1.一種干燥裝置，包括旋轉(zhuǎn)臺；連接所述旋轉(zhuǎn)臺并位于旋轉(zhuǎn)臺上方，用于放置晶圓的晶圓架，其特征在于，還包括與所述晶圓架相對，用于向所述晶圓吹氣的干燥輔助裝置。2.如權(quán)利要求1所述的干燥裝置，其特征在于，所述干燥輔助裝置包括氣體供應(yīng)裝置以及連接氣體供應(yīng)裝置并位于晶圓架上方的氣體釋出裝置，所述氣體供應(yīng)裝置和氣體釋出裝置通過傳輸管道連接。3.如權(quán)利要求1所述的干燥裝置，其特征在于，所述干燥輔助裝置包括氣體供應(yīng)裝置、連接氣體供應(yīng)裝置的加熱裝置以及連接加熱裝置并位于晶圓架上方的氣體釋出裝置，所述氣體供應(yīng)裝置、加熱裝置和氣體釋出裝置通過傳輸管道連接。4.如權(quán)利要求1所述的干燥裝置，其特征在于，所述干燥輔助裝置包括氣體供應(yīng)裝置、連接氣體供應(yīng)裝置的過濾器以及連接過濾器位于晶圓架上方的氣體釋出裝置，所述氣體供應(yīng)裝置、過濾器、氣體釋出裝置通過傳輸管道連接。5.如權(quán)利要求1所述的干燥裝置，其特征在于，所述干燥輔助裝置包括氣體供應(yīng)裝置、連接氣體供應(yīng)裝置的過濾器、連接過濾器的加熱裝置、連接加熱裝置并位于晶圓架上方的氣體釋出裝置，所述氣體供應(yīng)裝置、過濾器、加熱裝置、氣體釋出裝置通過傳輸管道連接。6.如權(quán)利要求1所述的干燥裝置，其特征在于，所述干燥輔助裝置包括氣體供應(yīng)裝置、連接氣體供應(yīng)裝置的加熱裝置、連接加熱裝置的過濾器、連接過濾器并位于晶圓架上方的氣體釋出裝置，所述氣體供應(yīng)裝置、加熱裝置、過濾器、氣體釋出裝置通過傳輸管道連接。7.如權(quán)利要求1所述的干燥裝置，其特征在于，所述干燥輔助裝置包括氣體供應(yīng)裝置、連接氣體供應(yīng)裝置的第一過濾器、連接第一過濾器的加熱裝置、連接加熱裝置的第二過濾器、連接第二過濾器并位于晶圓架上方的氣體釋出裝置，所述氣體供應(yīng)裝置、第一過濾器、加熱裝置、第二過濾器和氣體釋出裝置通過傳輸管道連接。8.如權(quán)利要求2至7任一項(xiàng)所述的干燥裝置，其特征在于，所述氣體釋出裝置包括用于向晶圓表面吹氣的噴槍、連通傳輸管道并向噴槍提供氣體的傳輸軟管、用于固定噴槍的懸架、用于帶動懸架運(yùn)動的馬達(dá)，其中所述噴槍位于晶圓上方。9.如權(quán)利要求8所述的干燥裝置，其特征在于，所述噴槍的噴口指向晶圓中心。10.如權(quán)利要求8所述的干燥裝置，其特征在于，所述噴槍的噴口相對于晶圓的角度為30至45度。全文摘要本發(fā)明公開了一種干燥裝置，包括旋轉(zhuǎn)臺、連接所述旋轉(zhuǎn)臺位于旋轉(zhuǎn)臺上方用于放置晶圓的晶圓架，還包括與所述晶圓架相對，用于向晶圓吹氣的干燥輔助裝置。本發(fā)明干燥裝置由于解決了現(xiàn)有技術(shù)晶圓干燥后表面殘留水份并且干燥時間長的問題，因而提高了晶圓干燥的效率。文檔編號F26B11/00GK101368786SQ20071004503公開日2009年2月18日申請日期2007年8月17日優(yōu)先權(quán)日2007年8月17日發(fā)明者張文鋒申請人:中芯國際集成電路制造(上海)有限公司