專利名稱：日用瓷氣燒還原焰隧道窯低溫氧化區(qū)燃燒室溫度均勻結(jié)構(gòu)裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種日用瓷氣燒還原焰隧道窯低溫氧化區(qū)燃燒室溫度 均勻結(jié)構(gòu)裝置，為日用瓷窯爐技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)：
日用瓷氣燒還原焰隧道窯為滿足陶瓷制品在燒結(jié)過程中的物理化學(xué)變 化的需要， 一般將窯爐劃分為三個(gè)區(qū)氧化排煙區(qū)，還原高火保溫區(qū)和急冷 緩冷區(qū)。在氧化排煙區(qū)設(shè)置有一定數(shù)量的燒咀，用于滿足陶瓷制品氧化時(shí)所 必需的氧化氣氛和對(duì)應(yīng)的溫度。
但是，現(xiàn)有的日用瓷氣燒還原焰隧道窯低溫氧化區(qū)燃燒室結(jié)構(gòu)通常就是 燒咀磚的結(jié)構(gòu)。這種結(jié)構(gòu)的燃燒室的弊端在于
1、 易導(dǎo)致低溫區(qū)的火焰"鋼性"過強(qiáng)；
2、 燒咀附近及噴火口之間的溫差較大；
3、 燒咀容易熄火。
因而陶瓷制品在其中的的受熱不是均勻的，而是波浪式的。這樣給制品 的燒成帶來(lái)很多的缺陷開裂、陰黃、過火、沖泡、彩色不正等等；同時(shí)， 也導(dǎo)致窯爐燒成的能耗增高，給安全生產(chǎn)帶來(lái)了較大的隱患。
改革低溫氧化區(qū)燃燒室結(jié)構(gòu)，研發(fā)一種新型的結(jié)構(gòu)，便于還原焰陶瓷制 品的燒成，克服低溫氧化控制不當(dāng)帶來(lái)的缺陷，具有重要的現(xiàn)實(shí)意義。

實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題是提供一種科學(xué)合理、簡(jiǎn)單易行的曰
用瓷氣燒還原焰隧道窯低溫氧化區(qū)燃燒室結(jié)構(gòu)，滿足陶瓷制品氧化時(shí)所必需 的氧化氣氛和必要的溫度，同時(shí)保證溫度的均勻性，保證火焰的連續(xù)性。
本實(shí)用新型的目的是通過下述技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的， 一種日用瓷氣燒還原焰 隧道窯低溫氧化區(qū)燃燒室，包括窯爐和燒咀，且燒咀是通過窯爐的側(cè)面進(jìn)入 窯爐內(nèi)的，在窯爐的側(cè)面的燃?xì)馊肟谔巸?nèi)面，燒咀的出口處擴(kuò)散燒咀火焰， 保證火焰在燃燒室充分燃燒后合理的進(jìn)入窯內(nèi)通道。燃燒室的底面正對(duì)窯車 臺(tái)面，燒咀中心正對(duì)下火道的中下部，可充分利用燒咀噴出火焰的動(dòng)能，對(duì) 窯內(nèi)燃燒產(chǎn)物進(jìn)行攪拌，強(qiáng)化傳熱。燃燒室的燒咀選用燃?xì)馄窖鏌?，火?br> 長(zhǎng)度(X3 0.9m。燃燒室的截面尺寸必需保證以燒咀為中心，直徑為300mm 的火焰有足夠的燃燒空間。燃燒室的出口的張角取45"。燃燒室是直徑為 350mra 560mm的半圓拱，長(zhǎng)度200mm 350mm;燃燒室的大小取決于所選 取的燃燒室空間熱強(qiáng)度。燃?xì)馔ㄟ^燒咀噴入燒咀磚進(jìn)入燃燒室燃燒后，燃燒 產(chǎn)物再進(jìn)入窯內(nèi)通道。為保證火焰在燃燒室充分燃燒后合理的進(jìn)入窯內(nèi)通 道，在燃燒室出口設(shè)置分流裝置。分流裝置是由耐火磚在燃燒室內(nèi)燒咀的前 面設(shè)置擋塊形成。
這種日用瓷氣燒還原焰隧道窯低溫氧化區(qū)燃燒室結(jié)構(gòu)的優(yōu)點(diǎn)在于
1、 噴火口與產(chǎn)品間形成了 300mm 450mm開擴(kuò)空間，擴(kuò)大了幅射面積， 增加了幅射層的厚度，防止了局部溫度超高；
2、 當(dāng)耐火磚分流裝置中的耐火磚達(dá)到一定溫度后，能較好地防止熄火 現(xiàn)象，保證了火焰的連續(xù)性；
3、 噴火口與產(chǎn)品間的開擴(kuò)空間和耐火磚分流裝置共同改良了火焰的"鋼 性"，更適合產(chǎn)品的低溫氧化。


圖1為原氣燒還原焰隧道窯低溫氧化區(qū)燃燒室結(jié)構(gòu)示意圖； 圖2為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖； 圖3為本發(fā)明的k向視圖。
具體實(shí)施方式

下面結(jié)合實(shí)施例和附圖對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步說明。 實(shí)施例一
一種日用瓷氣燒還原焰隧道窯低溫氧化區(qū)燃燒室，包括窯爐1和燒咀2， 且燒咀2是通過窯爐的側(cè)面3進(jìn)入窯爐內(nèi)的，在窯爐的側(cè)面3的燃?xì)馊肟谔?內(nèi)面4，燒咀的出口處5設(shè)有擴(kuò)散燒咀火焰，保證火焰充分燃燒后合理的進(jìn) 入窯內(nèi)通道的燃燒室6。燃燒室6的底面正對(duì)窯車臺(tái)面7，燒咀中心正對(duì)下 火道的中下部，可充分利用燒咀噴出火焰的動(dòng)能，對(duì)窯內(nèi)燃燒產(chǎn)物進(jìn)行攪拌， 強(qiáng)化傳熱。燃燒室6的燒咀2選用燃?xì)庑」β势窖鏌坠β蕿?5 KW，火 焰長(zhǎng)度0.3 0.9m。燃燒室的截面尺寸必需保證以燒咀2為中心，直徑為 300mm的火焰有足夠的燃燒空間。燃燒室6的出口的張角取45°。燃燒室6 是采用雙環(huán)拱形第一層拱8的直徑560mm,拱厚為180 mm;第二層拱9 的直徑328mm，拱厚為180 mm，燃燒室體積25 X 0.6/260=0.577 m3;燃 燒室空間熱強(qiáng)度取260KW/m3;燃?xì)馔ㄟ^燒咀2噴入燒咀磚進(jìn)入燃燒室燃燒 后，燃燒產(chǎn)物再進(jìn)入窯內(nèi)通道。為保證火焰在燃燒室充分燃燒后合理的進(jìn)入 窯內(nèi)通道，在燃燒室出口設(shè)置分流裝置IO。分流裝置IO是由耐火磚在燃燒 室6內(nèi)燒咀2的前面設(shè)置擋塊形成的。
該方案實(shí)施以來(lái)，較好的解決了低溫氧化不當(dāng)帶來(lái)的一些缺陷，杜絕了 低溫?cái)嗷瓞F(xiàn)象，且低溫可調(diào)性好。
權(quán)利要求1、日用瓷氣燒還原焰隧道窯低溫氧化區(qū)燃燒室溫度均勻結(jié)構(gòu)裝置，包括窯爐和燒咀，且燒咀是通過窯爐的側(cè)面進(jìn)入窯爐內(nèi)的，其特征在于在窯爐的側(cè)面的燃?xì)馊肟谔巸?nèi)面，燒咀的出口處設(shè)有擴(kuò)散燒咀火焰，保證火焰在燃燒室充分燃燒后合理的進(jìn)入窯內(nèi)通道的燃燒室。
2、 如權(quán)利要求1所述的日用瓷氣燒還原焰隧道窯低溫氧化區(qū)燃燒室溫 度均勻結(jié)構(gòu)裝置，其特征在于所述的燃燒室的底面正對(duì)窯車臺(tái)面，燒咀中 心正對(duì)下火道的中下部。
3、 如權(quán)利要求1所述的日用瓷氣燒還原焰隧道窯低溫氧化區(qū)燃燒室溫 度均勻結(jié)構(gòu)裝置，其特征在于所述的燃燒室的燒咀選用燃?xì)馄窖鏌?，火焰長(zhǎng)度0. 3 0. 9m。
4、 如權(quán)利要求1所述的日用瓷氣燒還原焰隧道窯低溫氧化區(qū)燃燒室溫 度均勻結(jié)構(gòu)裝置，其特征在于所述的燃燒室的截面尺寸必需保證以燒咀為 中心，直徑為300mm的火焰有足夠的燃燒空間；燃燒室的出口的張角取45"。 燃燒室是直徑為350mm 560mm的半圓拱，長(zhǎng)度200mm 350mm;燃燒室 的大小取決于所選取的燃燒室空間熱強(qiáng)度。
5、 如權(quán)利要求1所述的日用瓷氣燒還原焰隧道窯低溫氧化區(qū)燃燒室溫 度均勻結(jié)構(gòu)裝置，其特征在于為保證火焰在燃燒室充分燃燒后合理的進(jìn)入 窯內(nèi)通道，在燃燒室出口設(shè)置分流裝置。
6、 如權(quán)利要求5所述的日用瓷氣燒還原焰隧道窯低溫氧化區(qū)燃燒室溫度均勻結(jié)構(gòu)裝置，其特征在于所述的分流裝置是由耐火磚在燃燒室內(nèi)燒咀 的前面設(shè)置擋塊形成的。
專利摘要日用瓷氣燒還原焰隧道窯低溫氧化區(qū)燃燒室溫度均勻結(jié)構(gòu)裝置，包括窯爐和燒咀，且燒咀是通過窯爐的側(cè)面進(jìn)入窯爐內(nèi)的，在窯爐的側(cè)面的燃?xì)馊肟谔巸?nèi)面，燒咀的出口處擴(kuò)散燒咀火焰，保證火焰在燃燒室充分燃燒后合理的進(jìn)入窯內(nèi)通道。燃燒室的底面正對(duì)窯車臺(tái)面，燒咀中心正對(duì)下火道的中下部，可充分利用燒咀噴出火焰的動(dòng)能，對(duì)窯內(nèi)燃燒產(chǎn)物進(jìn)行攪拌，強(qiáng)化傳熱。燃燒室是直徑為350mm～560mm的半圓拱，長(zhǎng)度200mm～350mm；燃燒室的大小取決于所選取的燃燒室空間熱強(qiáng)度。燃?xì)馔ㄟ^燒咀噴入燒咀磚進(jìn)入燃燒室燃燒后，燃燒產(chǎn)物再進(jìn)入窯內(nèi)通道。為保證火焰在燃燒室充分燃燒后合理的進(jìn)入窯內(nèi)通道，在燃燒室出口設(shè)置分流裝置。
文檔編號(hào)F27B9/36GK201066238SQ20072006353
公開日2008年5月28日 申請(qǐng)日期2007年6月14日 優(yōu)先權(quán)日2007年6月14日
發(fā)明者聶岳軍 申請(qǐng)人:湖南華聯(lián)瓷業(yè)有限公司