專利名稱：立式熱處理裝置以及立式熱處理方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及立式熱處理裝置以及立式熱處理方法。
技術(shù)背景在半導(dǎo)體裝置的制造過程中，對半導(dǎo)體晶片(基板)例如實施氧 化處理、成膜處理等各種處理工序，使用例如能夠批量式處理多個晶 片的立式熱處理裝置(半導(dǎo)體制造裝置)作為進行這種處理的裝置(例 如，參照專利文獻l)。對于該立式熱處理裝置，在下部具有爐口的立 式熱處理爐的下方具有裝載區(qū)域(移載區(qū)域)，在該裝載區(qū)域內(nèi)設(shè)置有 在開閉上述爐口的蓋體上部，通過保溫筒載置搭載保持有多個(100 150左右)大口徑(例如直徑為300mm)晶片的舟體(基板保持件)， 并通過使蓋體升降來使舟體搬入搬出熱處理爐內(nèi)的升降機構(gòu)；在收納 有多個晶片的載體(收納容器)與上述舟體之間對晶片進行移載的移 載機構(gòu)等。上述舟體由石英制成，其造價非常高昂。此外，上述晶片其價格 也非常高昂，隨著處理工序的進展，其制造費用也增加。因此，需慎 重對其進行處理。然而，在上述批量式半導(dǎo)體制造裝置中，在裝置的構(gòu)成上，軟硬 方面均存在各種制約，難以確?？拐饦?gòu)造以及抗震功能，現(xiàn)狀是沒有 充分的抗震對策。因此，若發(fā)生地震，裝置承受較大搖擺，則舟體有 可能倒轉(zhuǎn)、舟體以及晶片有可能發(fā)生破損、引起較大損害。為了解決上述問題，在專利文獻1揭示的立式熱處理裝置中，采 用的是利用基板保持件固定部件相互地連接固定基板保持件的底板和 保溫筒的構(gòu)造。然而，在立式熱處理裝置中，使用兩個上述舟體，并且設(shè)置有為 了進行晶片的移載對舟體進行載置的舟體載置臺、和在該舟體載置臺 以及保溫筒之間進行舟體搬送的舟體搬送機構(gòu)。采用的是在將一方的舟體搬入到熱處理爐內(nèi)進行熱處理期間，對舟體載置臺上的另一方舟 體進行晶片的移載，即所謂的雙舟體系統(tǒng)。然而，在采用這種雙舟體系統(tǒng)的立式熱處理裝置中，因為隨著保 溫筒上的舟體的移交，難以采用通過基板保持件固定部件來連接固定 保溫筒和基板保持件的構(gòu)造，因此，若受到地震等外力，則不光保溫 筒上的舟體、舟體載置臺上的舟體，甚至就連舟體搬送機構(gòu)上的舟體 也有可能倒轉(zhuǎn)。其中，本發(fā)明人先前已經(jīng)提出有能夠分別防止保溫筒 上的舟體以及舟體載置臺上的舟體倒轉(zhuǎn)的立式熱處理裝置以及立式熱 處理方法。發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明是鑒于上述問題而完成的，其目的在于提供一種即便對于 雙舟體系統(tǒng)也能夠以簡單的構(gòu)造防止因地震等外力引起舟體搬送機構(gòu) 上的舟體發(fā)生倒轉(zhuǎn)的立式熱處理裝置以及立式熱處理方法。本發(fā)明提供一種立式熱處理裝置，其特征在于，包括下部形成 有爐口的熱處理爐；多層保持多個基板并且被搬入到熱處理爐內(nèi)對基 板進行熱處理的一對基板保持件；封閉熱處理爐的爐口的蓋體；設(shè)置 在蓋體上的保溫筒；使蓋體升降的升降機構(gòu)；鄰接設(shè)置在熱處理爐的 下方的保持件載置臺；以及在保溫筒上以及保持件載置臺上之間對一 對基板保持件的各個進行搬送的保持件搬送機構(gòu)，其中，在上述保持 件搬送機構(gòu)上設(shè)置有限制各基板保持件發(fā)生倒轉(zhuǎn)的倒轉(zhuǎn)限制部件。本發(fā)明的立式熱處理裝置，其特征在于上述基板保持件具有底 板、頂板以及設(shè)置在底板與頂板之間并且用于多層保持基板的支柱， 上述保持件搬送機構(gòu)具有支撐上述基板保持件的底板的下面的支撐 部，上述倒轉(zhuǎn)限制部件具有隔著間隙與支撐在上述支撐部上的底板的 上面相對的限制片。本發(fā)明的立式熱處理裝置，其特征在于上述倒轉(zhuǎn)限制部件還具 有使該限制片從側(cè)面突出退回的驅(qū)動部。本發(fā)明的立式熱處理裝置，其特征在于上述基板保持件具有底 板、頂板以及設(shè)置在底板與頂板之間并且用于多層保持基板的支柱， 上述保持件搬送機構(gòu)具有支撐上述基板保持件的底板的下面的支撐部，上述倒轉(zhuǎn)限制部件具有從上述支撐部的后方立起設(shè)置的并且用于 按壓基板保持件的頂板的頂板按壓部。本發(fā)明的立式熱處理裝置，其特征在于上述基板保持件具有底 板、頂板以及設(shè)置在底板與頂板之間并且用于多層保持基板的支柱， 上述保持件搬送機構(gòu)具有支撐上述基板保持件的底板的下面的支撐 部，在上述基板保持件的底板的上面形成有限制槽，上述倒轉(zhuǎn)限制部 件具有與上述限制槽隔開少許間隔相對的限制桿。本發(fā)明的立式熱處理裝置，其特征在于上述基板保持件具有底 板、頂板以及設(shè)置在底板與頂板之間并且用于多層保持基板的支柱， 上述保持件搬送機構(gòu)具有支撐上述基板保持件的底板的下面的支撐 部，在上述基板保持件的底板的兩側(cè)形成有平行的一對橫孔，上述倒 轉(zhuǎn)限制部件具有插入上述橫孔的限制桿。本發(fā)明的立式熱處理裝置，其特征在于上述基板保持件具有底 板、頂板以及設(shè)置在底板與頂板之間并且用于多層保持基板的支柱， 上述保持件搬送機構(gòu)具有支撐上述基板保持件的底板的下面的支撐 部，在上述基板保持件的底板的兩側(cè)形成有平行的一對側(cè)槽，上述倒 轉(zhuǎn)限制部件具有插入上述側(cè)槽的限制桿。本發(fā)明的立式熱處理裝置，其特征在于上述基板保持件具有底 板、頂板以及設(shè)置在底板與頂板之間并且用于多層保持基板的支柱， 上述保持件搬送機構(gòu)具有支撐上述基板保持件的底板的下面的支撐 部，在上述基板保持件的底板形成有縱孔，上述倒轉(zhuǎn)限制部件由突設(shè) 在上述支撐部的上面并且具有少許間隙地與上述縱孔嵌合的限制突起 部構(gòu)成。本發(fā)明的立式熱處理裝置，其特征在于上述基板保持件具有底 板、頂板以及設(shè)置在底板與頂板之間并且用于多層保持基板的支柱， 上述保持件搬送機構(gòu)具有支撐上述基板保持件的底板的下面的支撐 部，上述基板保持件的底板形成為環(huán)狀，上述倒轉(zhuǎn)限制部件由突設(shè)在 上述支撐部的上面并且具有少許間隙地與上述環(huán)狀底板的內(nèi)周壁相對 的多個限制突起部構(gòu)成。本發(fā)明提供一種立式熱處理方法，其特征在于，包括隔著保溫 筒將多層保持有多個基板的一方的基板保持件載置于用于封閉熱處理爐的爐口的蓋體上，使蓋體上升將基板保持件搬入到熱處理爐內(nèi)的工 序；在熱處理爐內(nèi)對基板進行熱處理的工序；在基板的熱處理中，將 基板移載至保持件載置臺上的另一方基板保持件上的工序；以及利用 保持件搬送機構(gòu)對熱處理后從熱處理爐搬出的保溫筒上的一方的基板 保持件與保持件載置臺上的另 一 方的基板保持件進行移交(transferring)的工序，其中，上述保持件搬送機構(gòu)具有倒轉(zhuǎn)限制部件， 在利用該倒轉(zhuǎn)限制部件對一方的基板保持件以及另一方的基板保持件 的倒轉(zhuǎn)進行限制的狀態(tài)下搬送各基板保持件。本發(fā)明的立式熱處理方法，其特征在于上述基板保持件具有底 板、頂板以及設(shè)置在底板與頂板之間并且用于多層保持基板的支柱， 上述保持件搬送機構(gòu)具有支撐上述基板保持件的底板的下面的支撐 部，上述倒轉(zhuǎn)限制部件具有隔著間隙與支撐在上述支撐部上的底板的 上面相對的限制片。本發(fā)明的立式熱處理方法，其特征在于上述倒轉(zhuǎn)限制部件還具有使該限制片從側(cè)面突出退回的驅(qū)動部。本發(fā)明的立式熱處理方法，其特征在于上述基板保持件具有底 板、頂板以及設(shè)置在底板與頂板之間并且用于多層保持基板的支柱， 上述保持件搬送機構(gòu)具有支撐上述基板保持件的底板的下面的支撐 部，上述倒轉(zhuǎn)限制部件具有從上述支撐部的后方立起設(shè)置的并且用于 按壓基板保持件的頂板的頂板按壓部。本發(fā)明的立式熱處理方法，其特征在于上述基板保持件具有底 板、頂板以及設(shè)置在底板與頂板之間并且用于多層保持基板的支柱， 上述保持件搬送機構(gòu)具有支撐上述基板保持件的底板的下面的支撐 部，在上述基板保持件的底板的上面形成有限制槽，上述倒轉(zhuǎn)限制部 件具有與上述限制槽隔開少許間隔相對的限制桿。本發(fā)明的立式熱處理方法，其特征在于上述基板保持件具有底 板、頂板以及設(shè)置在底板與頂板之間并且用于多層保持基板的支柱， 上述保持件搬送機構(gòu)具有支撐上述基板保持件的底板的下面的支撐 部，在上述基板保持件的底板的兩側(cè)形成有平行的一對橫孔，上述倒 轉(zhuǎn)限制部件具有插入上述橫孔的限制桿。本發(fā)明的立式熱處理方法，其特征在于上述基板保持件具有底板、頂板以及設(shè)置在底板與頂板之間并且用于多層保持基板的支柱， 上述保持件搬送機構(gòu)具有支撐上述基板保持件的底板的下面的支撐 部，在上述基板保持件的底板的兩側(cè)形成有平行的一對側(cè)槽，上述倒 轉(zhuǎn)限制部件具有插入上述側(cè)槽的限制桿。本發(fā)明的立式熱處理方法，其特征在于上述基板保持件具有底 板、頂板以及設(shè)置在底板與頂板之間并且用于多層保持基板的支柱， 上述保持件搬送機構(gòu)具有支撐上述基板保持件的底板的下面的支撐 部，在上述基板保持件的底板形成有縱孔，上述倒轉(zhuǎn)限制部件由突設(shè) 在上述支撐部的上面并且具有少許間隙地與上述縱孔嵌合的限制突起 部構(gòu)成。本發(fā)明的立式熱處理方法，其特征在于上述基板保持件具有底 板、頂板以及設(shè)置在底板與頂板之間并且用于多層保持基板的支柱， 上述保持件搬送機構(gòu)具有支撐上述基板保持件的底板的下面的支撐 部，上述基板保持件的底板形成為環(huán)狀，上述倒轉(zhuǎn)限制部件由突設(shè)在 上述支撐部的上面并且具有少許間隙地與上述環(huán)狀底板的內(nèi)周壁相對 的多個限制突起部構(gòu)成。根據(jù)本發(fā)明，即便是對于雙舟體系統(tǒng)，也能夠以簡單結(jié)構(gòu)防止因 地震等外力引起舟體搬送機構(gòu)(保持件搬送機構(gòu))上的舟體(基板保 持件)的倒轉(zhuǎn)。


圖1是簡要表示本發(fā)明實施方式的立式熱處理裝置的縱截面圖。圖2是簡要表示同一立式熱處理裝置的裝載區(qū)域內(nèi)的結(jié)構(gòu)平面圖。 圖3是簡要表示保溫筒上的晶舟的載置狀態(tài)的立體圖。 圖4是表示利用搬送機構(gòu)將晶舟載置在保溫筒上的狀態(tài)的立體圖。 圖5是表示卡止部與被卡止部能夠卡止的狀態(tài)的立體圖。 圖6是表示將晶舟載置于保溫筒上的狀態(tài)的示意圖。 圖7是表示當從保溫筒上搬送晶舟時只提升規(guī)定高度的狀態(tài)的示 意圖。圖8是表示在將晶舟提升規(guī)定高度的狀態(tài)下，使保溫筒旋轉(zhuǎn)而能 夠成為解除的狀態(tài)的立體圖。圖9是表示將晶舟從保溫筒上進一步提升規(guī)定高度后向側(cè)面進行 搬送的狀態(tài)的示意圖。圖io是簡要表示保溫筒的旋轉(zhuǎn)機構(gòu)的示意圖。圖11是簡要表示舟體載置臺上的晶舟的定位機構(gòu)的平面圖。 圖12是表示圖11的A —A線的放大截面圖。圖n是表示保溫筒的變形例的局部放大截面圖。圖14 (a)是簡要表示舟體載置臺的一個例子的平面圖，圖14 (b) 是其簡要截面圖。圖15是表示舟體搬送機構(gòu)的舟體倒轉(zhuǎn)限制部件的一個例子的側(cè)面圖。圖16是表示舟體搬送機構(gòu)的舟體倒轉(zhuǎn)限制部件的另一個例子的側(cè) 面圖。圖n是表示舟體搬送機構(gòu)的舟體倒轉(zhuǎn)限制部件的另一個例子的側(cè)面圖。圖18是表示舟體搬送機構(gòu)的舟體倒轉(zhuǎn)限制部件的另一個例子的側(cè)面圖。圖19是表示舟體搬送機構(gòu)的舟體倒轉(zhuǎn)限制部件的另一個例子的側(cè) 面圖。圖20 (a)是表示舟體搬送機構(gòu)的舟體倒轉(zhuǎn)限制部件的另一個例子 的平面圖，圖20 (b)是其側(cè)面圖。圖21 (a)是表示舟體搬送機構(gòu)的舟體倒轉(zhuǎn)限制部件的另一個例子 的平面圖，圖21 (b)是其側(cè)面圖。圖22 (a)是表示舟體搬送機構(gòu)的舟體倒轉(zhuǎn)限制部件的另一個例子 的平面圖，圖22 (b)是其側(cè)面圖。圖23 (a)是表示舟體搬送機構(gòu)的舟體倒轉(zhuǎn)限制部件的另一個例子 的平面圖，圖23 (b)是其側(cè)面圖。
具體實施方式
以下，參照附圖對實施本發(fā)明的最優(yōu)實施方式進行詳細說明。圖1 是簡要表示本發(fā)明實施方式的立式熱處理裝置的縱截面圖，圖2是簡 要表示同一立式熱處理裝置的裝載區(qū)域內(nèi)的結(jié)構(gòu)平面圖，圖3是簡要表示保溫筒上的晶舟的載置狀態(tài)的立體圖，圖4是表示利用搬送機構(gòu) 將晶舟載置在保溫筒上的狀態(tài)的立體圖，圖5是表示卡止部與被卡止 部能夠卡止的狀態(tài)的立體圖。如圖1以及圖2所示，在清潔室內(nèi)設(shè)置有半導(dǎo)體裝置、例如立式 熱處理裝置l，該立式熱處理裝置1具有形成裝置外部的筐體2。在該筐體2內(nèi)形成有用于對收納有多個半導(dǎo)體晶片(基板)W的載體(收 納容器)3進行搬送保管的搬送保管區(qū)域Sa、以及作為作業(yè)區(qū)域(移 載區(qū)域)的裝載區(qū)域Sb，這些搬送保管區(qū)域Sa和裝載區(qū)域Sb通過隔 壁6而被互相分隔。此外，在筐體2內(nèi)配置有在下部形成有爐口 5a的熱處理爐5; 以及在保持多個晶片W的同時被搬入到熱處理爐5內(nèi)，對晶片W進 行熱處理的一對舟體(基板保持件)4。其中，各舟體4能夠沿上下方向以規(guī)定間隔多量地載置有多個(例 如100 150個左右)晶片W。此外，在裝載區(qū)域Sb內(nèi)，能夠在舟體 4與載體3之間進行晶片W的移載作業(yè)，以及相對于熱處理爐5進行 舟體4的搬入搬出作業(yè)。熱處理爐5的爐口 5a通過蓋體17而被堵塞(封閉)，在該蓋體17 上設(shè)置有保溫筒19。此外，在蓋體17的下部設(shè)置有使蓋體17以及保 濕體19旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)機構(gòu)20，而且，在蓋體17上還進一步設(shè)置有用于 使蓋體17升降的升降機構(gòu)18。而且，在裝載區(qū)域Sb內(nèi)，以與熱處理爐5的下方鄰接的方式設(shè)置 有載置臺22，此外，各舟體4在保濕筒19上以及載置臺22上之間通 過舟體搬送機構(gòu)23而被搬送。上述載體3由塑料制的容器構(gòu)成，其能夠沿上下方向、按照規(guī)定 間隔并以水平狀態(tài)多層地收容保持有多個(例如13 25個左右)規(guī)定 口徑(例如直徑為300mm)的晶片并進行搬運，在其前面部開口形成 的晶片取出口上以能夠裝卸的方式安裝有用于氣密(氣體密封)地堵 塞其的蓋體。在上述筐體2的前面部，設(shè)置有用于通過操作者或者搬送臂將載 體3搬入搬出的搬入搬出口 7，在該搬入搬出口 7上設(shè)置有上下滑動開 閉的門8。在搬送保管區(qū)域Sa內(nèi)，在搬入搬出口 7附近設(shè)置有用于載置載體3的載置臺9，在該載置臺9的后部設(shè)置有打開載體3的蓋以檢測晶片W的位置以及個數(shù)的傳感器機構(gòu)10。此外，在載置臺9的上方 以及隔壁6側(cè)的上方，設(shè)置有用于保管多個載體3的保管架11。在搬送保管區(qū)域Sa內(nèi)的上述隔壁6側(cè)，為了進行晶片的移載而設(shè) 置有用于載置載體3的移載臺12。在搬送保管區(qū)域Sa內(nèi)，設(shè)置有用于 在上述載置臺9、保管架11以及移載臺12之間進行載體3的搬送的載 體搬送機構(gòu)13。載體搬送區(qū)域Sa形成為通過圖未示出的空氣清潔機(風(fēng)機過濾單 元fan filter unit)而被清潔化的大氣氛圍。裝載區(qū)域Sb也通過在其一 側(cè)設(shè)置的空氣清潔機(風(fēng)機過濾單元)14而被清潔化，成為正壓力 (positive pressure)的大氣氛圍或者非活性氣體(例如N2氣體)氛圍。 在上述隔壁6上設(shè)置有從搬送保管區(qū)域Sa側(cè)與載置于移載臺12上的 載體3的前面部抵接并且用于連通載體3內(nèi)和裝載區(qū)域Sb內(nèi)的圖未示 出的開口部，并且以能夠開閉的方式設(shè)置有能夠從裝載區(qū)域Sb側(cè)關(guān)閉 該開口部的門15。開口部形成為與載體3的取出口大體相同的口徑， 能夠從開口部相對于載體3內(nèi)進行晶片的出入。在上述門15上設(shè)置有對載體3的蓋進行開閉的圖未示出的蓋開閉 機構(gòu)以及從裝載區(qū)域Sb側(cè)對門15進行開閉的圖未示出的門開閉機構(gòu)， 通過該門開閉機構(gòu)在裝載區(qū)域Sb側(cè)對門15以及蓋進行開放移動，進 一步以不妨礙晶片移載的方式向上方或者下方移動(退避)。在上述移 載臺12的下方，為了調(diào)整結(jié)晶方向而設(shè)置有用于使設(shè)置在晶片周緣部 上的切口 (缺口部)沿同一方向調(diào)整排列的切口調(diào)整排列機構(gòu)16。該 切口調(diào)整排列機構(gòu)16面向裝載區(qū)域Sb側(cè)開放，構(gòu)成為通過后述的移 載機構(gòu)24使從移載臺12上的載體3移載的晶片的切口調(diào)整排列。另一方面，在裝載區(qū)域Sb的內(nèi)部上方，設(shè)置有在下部具有爐口 5a 的立式熱處理爐5，在裝載區(qū)域Sb內(nèi)，配置有能夠沿上下方向以規(guī)定 間隔多層地搭載有多個(例如100 150個左右)晶片w的例如由石英 制成的舟體4，該舟體4經(jīng)由保溫筒19搭載在蓋體17的上部。為了將 舟體4搬入搬出熱處理爐5內(nèi)以及開閉爐口 5a而設(shè)置有進行蓋體17 的升降的升降機構(gòu)18。在上述蓋體17的上部載置有當其閉塞時用于抑 制來自爐口 5a部分的放熱的保溫筒(隔熱體)19，在該保溫筒19的上部載置有舟體4。熱處理爐5主要由反應(yīng)管以及設(shè)置在該反應(yīng)管周圍 的加熱裝置(加熱器)構(gòu)成，在反應(yīng)管上連接有用于導(dǎo)入處理氣體以 及非活性氣體(例如N2)的氣體導(dǎo)入系統(tǒng)以及具有能夠?qū)⒎磻?yīng)管內(nèi)排 氣減壓至規(guī)定真空度的真空泵的排氣系統(tǒng)。在上述蓋體17上經(jīng)由保溫筒19設(shè)置有使舟體4旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)機構(gòu) 20。在爐口5a附近，沿水平方向能夠移動開閉(能夠旋轉(zhuǎn))地設(shè)置有 當使蓋體17開放、將熱處理后的舟體4搬出時用于遮蔽爐口 5a的閘 門21。該閘門21具有使其沿水平方向旋轉(zhuǎn)移動進行開閉的圖未示出的 閘門驅(qū)動機構(gòu)。在裝載區(qū)域Sb—側(cè)，即在空氣清潔機14側(cè)，為了移載晶片w等 而設(shè)置有用于載置舟體4的舟體載置臺(也稱為"舟體臺"、"保持件載 置臺")。該舟體載置臺22只需一個即可，但是優(yōu)選如圖2所示那樣， 沿著空氣清潔機14在前后配置第一載置臺(裝填臺(charge stage)) 22a和第二載置臺(備用臺(standby stage)) 22b的兩個載置臺。在裝載區(qū)域Sb內(nèi)的下方，在第一載置臺22a和第二載置臺22b之 間，設(shè)置有在舟體載置臺22和蓋體17上的保溫筒19之間，具體而言 是指舟體載置臺22的第一載置臺22a或者第二載置臺22b與下降的蓋 體17上的保溫筒19之間、以及第一載置臺22a和第二載置臺22b之 間進行舟體4的搬送的舟體搬送機構(gòu)(保持件搬送機構(gòu))23。此外， 在裝載區(qū)域Sb內(nèi)，設(shè)置有在移載臺12上的載體3和舟體載置臺22上 的舟體4之間，具體而言是指移載臺12上的載體3與切口調(diào)整排列機 構(gòu)16之間、切口調(diào)整排列機構(gòu)16與舟體載置臺22的第一載置臺22a 上的舟體4之間、以及第一載置臺22a上的熱處理后的舟體4和移載 臺12上的空的載體3之間進行晶片w的移載的移載機構(gòu)24。舟體4如圖3所示，具有頂板4a、底板4b、以及在頂板4a與底 板4b之間設(shè)置的多個(例如3個)支柱4c。在上述支柱4c上以規(guī)定 間隔呈梳齒狀地形成有用于多層地保持晶片w的槽部4d。正面?zhèn)鹊淖?右支柱4c之間為了晶片的出入而擴開(打開)。舟體搬送機構(gòu)23具有垂直地支撐一個舟體4并且能夠沿水平方向 伸縮的臂。舟體搬送機構(gòu)23具有能夠水平旋轉(zhuǎn)的第一臂23a、能夠水 平旋轉(zhuǎn)地軸支在該第一臂23a的前端部并且作為支撐舟體4的下面(底板4b的下面)的支撐部的平面大致呈U字形的第二臂(手臂(hand)) 23b、驅(qū)動第一臂23a和第二臂23b的驅(qū)動部23c、以及使它們整體升 降移動的升降機構(gòu)23d，構(gòu)成為通過使第一臂23a和第二臂23b同步水 平旋轉(zhuǎn)動作而能夠沿水平直線方向進行搬送。由此，通過使臂伸縮而 能夠?qū)釀又垠w4的區(qū)域抑制在最小限度，能夠減少裝置的橫寬以及 縱深。在第二臂23b的上面設(shè)置有多點支撐舟體4的底板4b的下面的支 撐片60。其中，支撐片60例如通過耐熱樹脂形成，優(yōu)選以多點(例如 3點)支撐舟體4的下面。上述移載機構(gòu)24具有能夠水平旋轉(zhuǎn)的基臺24a、以及能夠進退地 設(shè)置在基臺24a上的、載置半導(dǎo)體晶片的多個(例如5個)薄板狀的 移載臂24b。作為上述移載臂24b，優(yōu)選構(gòu)成為5個之中的中央的單片 移載用的一個移載臂能夠與其他四個移載臂獨立地在基臺24a上進退 移動，并且其他四個移載臂能夠以中央的移載臂為基準沿上下方向變 換間隔。基臺24a能夠通過設(shè)置在裝載區(qū)域Sb另一側(cè)的升降機構(gòu)24c 進行升降。為了防止載置于上述保溫筒19上的舟體4因地震等外力發(fā)生倒轉(zhuǎn) 而在上述保溫筒19的上部設(shè)置有卡掛部(卡止部)25，在舟體4的底 部4b上設(shè)置有與卡掛部25卡止的卡止槽部(被卡止部)26。如圖5 圖9所示，在舟體4通過舟體搬送機構(gòu)23而被放置在保溫筒19的正 上方的狀態(tài)下，通過旋轉(zhuǎn)機構(gòu)20使保溫筒19旋轉(zhuǎn)規(guī)定的角度(例如 90度)，由此能夠互相卡止或者解除。如圖3 圖5所示，上述舟體4具有環(huán)狀的底板4b，上述保溫筒 19具有沿其周方向以適當間隔支撐上述底板4b的多個(例如4個)支 柱19a。更具體地說，保溫筒19具有圓板狀的基部1%、立設(shè)在該基 部19b上的多個支柱19a、以及沿著這些支柱19a在高度方向上通過隔 離件(spacer) 19j以適當間隔多層配置的多個隔熱板19c，這些構(gòu)成部 件例如由石英構(gòu)成。支柱19a呈圓筒狀，在上端部一體地設(shè)置有堵塞 其開口端的上端部件19e。此外，為了防止因內(nèi)外的壓力差導(dǎo)致支柱 19a破損而在支柱19a的側(cè)面適當?shù)匦纬捎羞B通支柱19a的內(nèi)外的孔部 19f。在支柱19a的上端部即上端部件19e上形成有用于承受舟體4的底板4b的下面的載置面19g、從該載置面19g立起并與底板4b的內(nèi)周 抵接以對底板4b進行定位的定位部19h。為了使定位部19h易于與底 板4b的內(nèi)周嵌合或者接合，而在定位部19h的上端邊緣部形成有傾斜 面19i。與為了支撐舟體4的環(huán)狀底板4b而沿其周方向以適當間隔配置的 上述支柱19a外接的外接圓的直徑形成為比底板4b的外徑小。因此， 當舟體搬送機構(gòu)23的第二臂23b支撐舟體4的底板4b的下面并將其 載置于保溫筒19的支柱19a的上端部上時與支柱19a不干涉。此外， 在這些支柱19a的外側(cè)部上設(shè)置有作為槽狀的被卡止部的卡止槽部26， 在上述底板4b的下面，在與上述卡止槽部26對應(yīng)的位置設(shè)置有作為 卡止上述各卡止槽部26的鉤狀(截面呈L字狀)的多個卡止部的卡掛 部25?？⊕觳?5由從底板4b的下面垂下的垂直部25a以及從該垂直部 25a的下端向半徑方向內(nèi)側(cè)突出的水平部25b構(gòu)成。此外，上述卡止槽 部26，在由舟體搬送機構(gòu)23將舟體4搬送至保溫筒19的正上方保持 的狀態(tài)下通過旋轉(zhuǎn)機構(gòu)20將保溫筒19旋轉(zhuǎn)規(guī)定角度時，卡掛部25的 水平部25b沿著周方向進入到該卡止槽部26內(nèi)。此時，槽寬以及槽深 形成為不與卡掛部25的水平部25b干涉。此外，將槽寬設(shè)計為在卡 掛部25位于卡止槽部26位置處的可卡止位置，保溫筒19停止旋轉(zhuǎn)， 利用舟體搬送機構(gòu)23使舟體4進一步下降而載置在保溫筒19的支柱 19a上時，卡掛部25的水平部25b不與卡止槽部26抵接，由于這樣能 夠防止產(chǎn)生微粒，因此優(yōu)選(參照圖6)。優(yōu)選上述水平部25b的前端 以及卡止槽部26的底面形成為以保溫筒19的旋轉(zhuǎn)中心為中心的曲面 狀。作為上述旋轉(zhuǎn)機構(gòu)20，適用于例如日本專利第3579278號公報中 所揭示的機構(gòu)。即，如圖IO所示，在上述蓋體17的底部設(shè)置有具有 軸孔的固定部件27，在該固定部件27的外周通過沿上下配置的圖未示 出的軸承以及磁性體密封而能夠旋轉(zhuǎn)地設(shè)置有有底筒狀的旋轉(zhuǎn)筒體 28，在該旋轉(zhuǎn)筒體28的底部設(shè)置有與上述固定部件27的軸孔游離嵌 合貫通(游隙配合貫通)的旋轉(zhuǎn)軸29。該旋轉(zhuǎn)軸29的上端部游隙貫通 蓋體17的中央部，在該旋轉(zhuǎn)軸29的上端部安裝有旋轉(zhuǎn)臺30。旋轉(zhuǎn)臺30與蓋體17的上部隔開微小間隙配置，在該旋轉(zhuǎn)臺30上載置有上述保溫筒19，保溫筒19的基部19b通過固定部件31固定在旋轉(zhuǎn)臺30 上。在旋轉(zhuǎn)筒體28上通過同步帶(timing belt) 33連接有用于旋轉(zhuǎn)驅(qū) 動其的馬達32。此外，為了能夠自動地旋轉(zhuǎn)控制保溫筒19使其位于上述卡掛部25 和上述卡止槽部26能夠卡止的位置或者能夠解除的位置，優(yōu)選上述旋 轉(zhuǎn)機構(gòu)20具有檢測保溫筒19的旋轉(zhuǎn)方向的原點位置的傳感器34、用 于根據(jù)來自該傳感器34的檢測信號將保溫筒19旋轉(zhuǎn)控制在上述卡掛 部25和上述卡止槽部26能夠卡止的位置或者能夠解除的位置的控制 裝置35。在上述旋轉(zhuǎn)筒體28的外周部突設(shè)有被檢測部件(kicker:抖 動器)36，用于檢測該被檢測部件36的傳感器34被設(shè)置在蓋體17的 下方。上述控制裝置35進行控制，使得在熱處理時通過保溫筒19使 舟體4連續(xù)地旋轉(zhuǎn)。另一方面，在利用舟體搬送機構(gòu)23進行的舟體4的搬送過程中， 為了防止該舟體4因地震等外力倒轉(zhuǎn)，而如圖4 圖14所示那樣，在 上述第二臂23b的上部設(shè)置有倒轉(zhuǎn)限制部件37，使得能夠在與該第二 臂23b之間以從上下夾持舟體4的底板4b的方式進行限制。該倒轉(zhuǎn)限 制部件37被設(shè)置在第二臂23b的上面部的基部側(cè)(支撐片60的后方)， 具有隔開規(guī)定間隔與支撐于支撐片60上的舟體4的底板4b的上面相 對(對峙)的限制片37a。限制部件37由通過固定件(例如螺釘)61固定在第二臂23b的基 部側(cè)上面的基部37b以及從該基部37b向前方延伸出的平面大致呈U 字形的限制片37a構(gòu)成，在該限制片37a與第二臂23b的支撐片60之 間形成有舟體4的底板4b從水平方向以非接觸方式進入的空間。其中， 限制片37a與第二臂23b對應(yīng)，形成為平面U字形。在限制片37a的 基部側(cè)形成有用于避免與支柱4c干涉的切口部37c (參照圖4)，此外， 以向前方延伸出的左右的限制片37a避免與支柱4c干涉的方式來設(shè)定 左右的寬度尺寸。倒轉(zhuǎn)限制部件37與舟體搬送機構(gòu)23的臂23a、 23b 相同，例如由鋁形成。而且，為了防止載置于舟體載置臺22上的舟體4因地震等外力倒 轉(zhuǎn)，采用下述結(jié)構(gòu)。如圖2、圖ll、圖12、圖14以及圖15所示，在舟體載置臺22上設(shè)置有用于定位舟體4的舟體定位機構(gòu)(保持件定位機構(gòu))38。該舟體定位機構(gòu)38具有在舟體載置臺22上通過缸體38a 沿徑向方向進行擴縮(接近離開)的一對輥38b。另一方面，在舟體4 的底板4b的內(nèi)周，沿直徑方向相對地設(shè)置有當上述一對輥38b分開(互 相離開)時與其接合的V字形的定位接合槽40。定位接合槽40以規(guī) 定角度6 (例如120度)擴開(展開)。由此，即便舟體4稍微錯開而 載置于舟體載置臺22上也能夠定位舟體4。此外，在上述舟體載置臺22上設(shè)置有以不使舟體倒轉(zhuǎn)的方式對其 進行把持的舟體把持機構(gòu)(保持件把持機構(gòu))41。該舟體把持機構(gòu)41 具有設(shè)置在上述輥38b的上部的、緣狀(brim)的把持部41a。該把持 部41a在輥38b與定位接合槽40接合時(輥分開時)，與舟體4的底 板4b的上面相對，在與舟體載置臺22 (具體而言是在舟體載置臺的上 面)之間把持該底板4b。對舟體載置臺22的結(jié)構(gòu)更詳細地進行說明，舟體載置臺22具有 固定板42、以及通過滾珠軸承(ballbearing) 43能夠水平移動地支撐 在該固定板42上的上板44，舟體4載置在該上板44上。固定板42 以及上板44形成為環(huán)狀。滾珠軸承43由環(huán)狀的鑲邊(border (邊緣)) 43a以及支撐在該鑲邊43a上的多個小球43b構(gòu)成。上板44通過突設(shè) 在上板44和固定板42中任一方上的銷45、以及以該銷45能夠緩和嵌 入(平緩嵌入)的方式形成在另一方上的限制孔46而能夠在規(guī)定的范 圍內(nèi)水平移動。此外，在上板44與固定板42之間安裝有多個彈簧47， 用于對上板44施加作用力，使得其中心能夠返回到舟體載置臺22的 中心位置。在舟體載置臺22中，特別是第一載置臺22a，為了使上板44在晶 片w的移載中不發(fā)生水平移動，而設(shè)置有在舟體4的定位后對上板44 進行固定的上板固定機構(gòu)48。該上板固定機構(gòu)48具有截面呈日文假名 "]"字形的框體49以及氣缸50。其中，框體49具有上片49a和下片 4%，上片49a固定在上板44的下面，在上片49a和下片49b之間從 上下隔著規(guī)定間隙夾持固定板42和滾珠軸承43。氣缸50被設(shè)置在框 體49的下片49b上，具有在與上片49a之間夾著固定板42以及滾珠 軸承43固定的可伸縮的按壓部50a。此外，舟體載置臺22具有用于安裝左右一對上述缸體38a、 38a 的安裝板51，在該安裝板51上設(shè)置有能夠水平移動地支撐移動體52 的引導(dǎo)部件53，上述輥38b能夠繞其周圍旋轉(zhuǎn)地軸支在立設(shè)于該移動 體52上的支柱54的上端部。在各輥38b的上端部上形成有緣狀的上 述把持部41a。上述輥38b與熱處理后的舟體4的底板4b抵接，因此 優(yōu)選其通過具有耐熱性的樹脂形成。在舟體載置臺22的一側(cè)設(shè)置有用 于檢測舟體有無的傳感器55，該傳感器55在檢測到載置有舟體4時進 行定位。接著，對如上所述構(gòu)成的立式熱處理裝置1的作用和立式熱處理 方法進行說明。首先，多層保持多個晶片w，經(jīng)由保溫筒19載置于蓋 體17上的舟體4，通過蓋體17的上升而與保溫筒19 一起被搬入到熱 處理爐5內(nèi)，與此同時，利用蓋體17密閉熱處理爐5的爐口 5a。然后， 利用旋轉(zhuǎn)機構(gòu)20通過保溫筒19使舟體4在熱處理爐5內(nèi)旋轉(zhuǎn)，并且 在規(guī)定溫度、規(guī)定壓力以及規(guī)定處理氣體氛圍下對晶片w進行規(guī)定時 間的熱處理。在該熱處理中，相對于舟體載置臺22的第一載置臺22a 上的一個舟體4進行晶w的移載。此時，首先，通過移載機構(gòu)24將搭 載在舟體4上的熱處理后的晶片搬出至移載臺12上的空的載體3上， 接著，從搬送至移載臺12上的收納有熱處理前的晶片的載體3中將處 理前的晶片搭載在上述空的舟體4上。若在上述熱處理爐5內(nèi)進行的熱處理結(jié)束，則通過使蓋體17下降 將舟體4從熱處理爐5內(nèi)搬出至裝載區(qū)域Sb。舟體搬送機構(gòu)23的第二 臂23b沿水平方向與該舟體4接近(參照圖6)，使舟體4的底板4b 位于第二臂(手臂)23b和限制片37a之間，通過第二臂上升，由支撐 片60支撐舟體4并將其提升至規(guī)定高度(參照圖7)。在該狀態(tài)下，通 過旋轉(zhuǎn)機構(gòu)20使保溫筒19旋轉(zhuǎn)規(guī)定的角度(例如90度)，使卡掛部 25和卡止槽部26位于解除位置(參照圖8)，之后，進一步提升舟體4 至規(guī)定高度(卡掛部與保溫筒的支柱不干涉的高度)，向舟體載置臺22 的第二載置臺22b的方向搬送(參照圖9)，載置在第二載置臺22b上。 由此，在舟體4的搬送過程中，相對于支撐在第二臂23b的支撐片60 上的舟體4的底板4b的上面，倒轉(zhuǎn)限制部件37的限制片37a隔開規(guī) 定間隙與其相對，因此，即便舟體4因地震、搖晃等外力發(fā)生傾斜，也能夠?qū)ζ溥M行抑制以防止舟體4發(fā)生倒轉(zhuǎn)。此外，載置于第二載置臺22b上的舟體4通過定位機構(gòu)38被定位的同時通過緣狀的倒轉(zhuǎn)限制 部38c而能夠防止舟體4的倒轉(zhuǎn)。另一方面，第一載置臺22a上的舟體4也通過定位機構(gòu)38而被定 位，并且通過緣狀的倒轉(zhuǎn)限制部件38c而能夠防止舟體4發(fā)生倒轉(zhuǎn)。 該第一載置臺22a上的舟體4，在倒轉(zhuǎn)限制部38c的限制被解除后，被 支撐在舟體搬送機構(gòu)23的第二臂23b上，并被搬送至上述蓋體17的 保溫筒19上方。然后，通過舟體搬送機構(gòu)23使舟體4下降至保溫筒 19上，在舟體4正好載置于保溫筒19上之前通過旋轉(zhuǎn)機構(gòu)20使保溫 筒19旋轉(zhuǎn)規(guī)定角度(例如90度)，使卡掛部25和卡止槽部26位于能 夠卡止的位置，之后，使舟體4進一步下降，載置于保溫筒19上即可。 由此，在向保溫筒19上進行的舟體4的載置結(jié)束后，通過蓋體17的 上升，將舟體4搬入到熱處理爐5內(nèi)開始熱處理即可。然后，在該熱 處理中，通過舟體搬送機構(gòu)23將上述第二載置臺22b上的舟體4搬送 至第一載置臺22a上，在該第一載置臺22a上，通過移載機構(gòu)24進行 從該舟體4向移載臺12上的載體3支出熱處理后的晶片的作業(yè)以及從 移載臺12上的載體3向舟體4進行的熱處理前的晶片的搭載作業(yè)，從 而能夠?qū)崿F(xiàn)工作效率的提高。這樣，根據(jù)本實施方式的立式熱處理裝置1，在上述保溫筒19的 上部和舟體4的底部設(shè)置卡掛部25和卡止槽部26，在通過舟體搬送機 構(gòu)23使舟體4位于保溫筒19正上方的狀態(tài)下，通過旋轉(zhuǎn)機構(gòu)20使保 溫筒19旋轉(zhuǎn)規(guī)定角度，而能夠互相卡止或者解除。因此，作為所謂的 雙舟體系統(tǒng)，能夠以簡單的構(gòu)造防止因地震等外力引起的保溫筒19上 的舟體4的倒轉(zhuǎn)。此時，上述舟體4具有環(huán)狀底板4b，上述保溫筒19具有沿著其周 方向以適當間隔支撐上述底板4b的下面的多個支柱19a，在這些支柱 19a的外側(cè)部設(shè)置有卡止槽部(槽狀的被卡止部)26，在上述底板4b 的下面設(shè)置有與上述各卡止槽部26卡止的卡掛部(槽狀的卡止部)25， 由此，能夠以簡單的構(gòu)造可靠且容易地進行保溫筒19與舟體4之間的 鎖定。此外，上述旋轉(zhuǎn)機構(gòu)20具有用于檢測出保溫筒19的旋轉(zhuǎn)方向的原點位置的傳感器34、以及用于根據(jù)該傳感器34的檢測信號旋轉(zhuǎn)控制保溫筒19使其位于上述卡掛部25和上述卡止槽部26能夠卡止位置或 者能夠解除位置的控制裝置35。因此，能夠可靠且容易地解除保溫筒 19和舟體4之間的鎖定。特別是，因為上述舟體搬送機構(gòu)23具有用于限制舟體4的倒轉(zhuǎn)的 倒轉(zhuǎn)限制部件37，在舟體4的搬送時或者搬送過程中，限制舟體4以 使其不倒轉(zhuǎn)，所以，在所謂的雙舟體系統(tǒng)中，能夠以簡單的機構(gòu)防止 因地震等外力引起的搬送機構(gòu)23上的舟體4的倒轉(zhuǎn)、損壞。在該情況 下，因為舟體搬送機構(gòu)23具有支撐上述舟體4的底板4b下面的支撐 片60，上述倒轉(zhuǎn)限制部件37具有與支撐在上述支撐片60上的底板4b 的上面隔開間隔相對的限制片37a，所以能夠?qū)崿F(xiàn)結(jié)構(gòu)的簡化以及降低 制造成本。此外，在舟體載置臺22上設(shè)置有以使舟體4不倒轉(zhuǎn)的方式把持其 的舟體把持機構(gòu)41，以使搬送至舟體載置臺22上的舟體4不倒轉(zhuǎn)的方 式對其進行把持。因此，在所謂的雙舟體系統(tǒng)中，能夠以簡單的構(gòu)造 防止因地震等外力引起的舟體載置臺22上的舟體4的倒轉(zhuǎn)。此時，舟 體載置臺22還設(shè)置有，通過使能夠擴縮的一對輥38b分開而能夠使舟 體4的環(huán)狀底板4b的內(nèi)周上形成的定位接合槽40與上述輥38b接合， 對舟體4的位置進行定位的舟體定位機構(gòu)38。此外，舟體把持機構(gòu)41 在上述舟體定位機構(gòu)38的輥38b上具有在其分開時與舟體4的底板4b 的上面相對，在與舟體載置臺22之間把持該底板4b的把持部41a。因 此，能夠在進行舟體4的定位的同時防止因地震等外力引起的舟體載 置臺22上的舟體4的倒轉(zhuǎn)，此外，只需改良舟體定位機構(gòu)38的輥38b 即可，能夠?qū)崿F(xiàn)結(jié)構(gòu)的簡化以及成本的降低。由此，能夠防止舟體4 在保溫筒4上、舟體載置臺22上、以及舟體搬送機構(gòu)23上的所有階 段有可能發(fā)生的倒轉(zhuǎn)、損壞。圖13表示的是保溫筒的變形例的局部放大截面圖。在圖13實施 方式的保溫筒19中，設(shè)置有用于利用安裝螺釘41將舟體4的底板4b 固定在支柱19a的上端部件19e上的螺釘孔42。安裝螺釘41通過底板 4b的V字形的接合槽40被擰入上述螺釘孔42中，安裝螺釘41的頭 部41a與底板4b的上面締結(jié)(擰緊結(jié)合)從而將底板4b固定在支柱19a上。通過該保溫筒19，由安裝螺釘41固定保溫筒19和舟體4，由 此，能夠利用于單舟體系統(tǒng)，只需取下安裝螺釘41便能夠利用于雙舟 體系統(tǒng)。圖16是表示舟體搬送機構(gòu)的舟體倒轉(zhuǎn)限制部件的另一個例子的側(cè) 面圖。在圖16的實施方式中，上述舟體搬送機構(gòu)23具有支撐上述舟 體4的底板4b的下面的支撐片60，上述倒轉(zhuǎn)限制部件37具有隔著間 隙與支撐在上述支撐片60上的底板4b的上面相對的限制片37a以及 能夠使該限制片37a從側(cè)面突出退回(突沒)的驅(qū)動部62。作為驅(qū)動 部62，例如可以適用氣缸。限制片37a在被使用時，從基部側(cè)向前端 方向突出，在其不被使用時退回(返回收撤至原始位置)，由此，在進 行舟體4的交接時，限制片37a不與舟體4發(fā)生干涉妨礙。在本實施 方式中也能夠?qū)崿F(xiàn)與上述實施方式相同的效果。圖17、圖18是表示舟體搬送機構(gòu)的舟體倒轉(zhuǎn)限制部件的另一個例 子的側(cè)面圖。首先，在圖17的實施方式中，上述舟體搬送機構(gòu)23具 有支撐上述舟體4的底板4b的下面的支撐片60，上述倒轉(zhuǎn)限制部件 37具有從上述支撐片60的后方立起設(shè)置的、按壓舟體4的頂板4a的 頂板按壓部63。在該情況下，頂板按壓部63由立設(shè)在第二臂23b的基 部上面的支柱63a以及設(shè)置在頂板4a上并且上述支柱63a的前端部從 下方插通的孔部63b所構(gòu)成。為了設(shè)置該孔部63b，在頂板4a上設(shè)置 有沿著水平方向伸出的伸出部63c，在該伸出部63c上垂直地形成有孔 部63b?？撞?3b優(yōu)選形成為支柱63a易于插通的尺寸。在本實施方式 中，當通過支撐片60支撐舟體4時，只需使上述支柱63a從下方插通 上述頂板4a的孔部63b即可，由此能夠防止舟體4的倒轉(zhuǎn)。在圖18的實施方式中，頂板按壓部63由立設(shè)在第二臂23b的基 部上面的支柱63a以及設(shè)置在該支柱63a的上端部上并且與上述舟體4 的頂板4a的上面隔開規(guī)定間隙相對的上部限制片63d構(gòu)成。該上部限 制片63d從支柱63a的上端部向頂板4a上水平延伸。在本實施方式中， 當利用支撐片60支撐舟體4時，只需使上述支柱63a上端的上部限制 片63d與上述頂板4a的上面相對即可，由此能夠防止舟體4發(fā)生倒轉(zhuǎn)。圖19 圖23表示的是舟體搬送機構(gòu)的舟體倒轉(zhuǎn)限制部件的另一 個例子的側(cè)面圖。在此對于與上述實施方式相同的部分標注相同的參考標號并省略其說明。在圖19的實施方式中，舟體4具有底板4b、頂板4a、以及設(shè)置在底板4b和頂板4a之間的用于多層保持晶片w的支 柱4c，舟體搬送機構(gòu)23具有支撐上述舟體4的底板4b的下面的支撐 部(第二支撐臂)23b。在上述舟體4的底板4b的上面平行地形成有 一對限制槽65，上述倒轉(zhuǎn)限制部件37具有相對于上述限制槽65隔開 少許間隔地與其相對的限制桿(bar)(與限制片相同)37a。限制桿37a 成為薄板狀，左右設(shè)置一對，形成為平面U字形也可以。上述限制槽 65與限制桿37a對應(yīng)形成為左右一對的平行槽狀。在限制槽65的側(cè)面 與限制桿37a的側(cè)面之間設(shè)置有微小間隙。在本實施方式中，當舟體4 因地震而搖晃時，上述限制槽65的側(cè)面卡掛在限制桿37a的側(cè)面，上 述限制槽65的底面卡掛在限制桿37a的下面，能夠防止舟體4的倒轉(zhuǎn)。在圖20的實施方式中，在舟體的底板4b的兩側(cè)形成有平行的一 對橫孔66，上述倒轉(zhuǎn)限制部件37具有插入到上述橫孔66中的限制桿 37a。橫孔66形成為薄板狀限制桿37a能夠緩和插入(平緩插入)的 截面矩形，在橫孔66的內(nèi)壁與限制桿37a之間設(shè)置有微小間隙。根據(jù) 本實施方式，當因地震導(dǎo)致舟體4搖擺時，上述橫孔66的內(nèi)壁卡掛在 限制桿37a上，能夠防止舟體4的倒轉(zhuǎn)。在圖21的實施方式中，在舟體的底板4b的兩側(cè)形成有平行的一 對側(cè)槽67，上述倒轉(zhuǎn)限制部件37具有插入到上述側(cè)槽67中的限制桿 37a。側(cè)槽67形成為薄板狀的限制桿37a能夠平緩插入(緩和插入) 的截面呈日文假名"=1"字形狀，在側(cè)槽67的內(nèi)壁和限制桿37a之間設(shè) 置有微小間隔。根據(jù)本實施方式，當因為地震等引起舟體4搖擺時， 上述側(cè)槽67的內(nèi)壁卡掛在限制桿37a上，能夠防止舟體4的倒轉(zhuǎn)。在圖22的實施方式中，在舟體4的底板4b上形成有多個縱孔68， 上述倒轉(zhuǎn)限制部件37由突設(shè)在手柄(支撐部)23b的上面并且具有微 小間隙地嵌合在上述縱孔68中的限制突起部70構(gòu)成。上述縱孔68形 成為橫截面呈圓形，優(yōu)選設(shè)置在舟體4的底板4b的左右兩處。此外， 圖示例子的縱孔68為貫通孔，但是也可以是不貫通底板4b的上面的 凹孔(沉孔)。上述限制突起部70形成為圓筒狀。根據(jù)本實施方式， 當因為地震等引起舟體4搖晃時，舟體4的底板4b的縱孔68的內(nèi)周 壁卡掛在從手柄23b上立起的限制突起部70的側(cè)面，從而能夠防止舟體4的倒轉(zhuǎn)。在圖23的實施方式中，上述舟體4的底板4b形成為環(huán)狀，上述 倒轉(zhuǎn)限制部件37具有突設(shè)在上述支撐部23b的上面并且隔開微小間隔 而與上述環(huán)狀底板4b的內(nèi)周壁4e相對的多個(例如3個)限制突起 部71。限制突起部71形成為圓柱狀，以大致相等的間隔配置在圓周方 向。根據(jù)本實施方式中，當因地震等引起舟體4搖擺時，舟體4的底 板4b的內(nèi)周壁4e卡掛在從手柄23b上立起的多個限制突起部71的側(cè) 面，因此能夠防止舟體4的倒轉(zhuǎn)。以上，參照附圖對本發(fā)明的具體實施方式
進行了詳細說明，但是 本發(fā)明并不局限于上述實施方式，在不脫離本發(fā)明宗旨的范圍內(nèi)可以 對其進行種種設(shè)計變更等。
權(quán)利要求
1.一種立式熱處理裝置，其特征在于，包括下部形成有爐口的熱處理爐；多層保持多個基板并且被搬入到熱處理爐內(nèi)對基板進行熱處理的一對基板保持件；封閉熱處理爐的爐口的蓋體；設(shè)置在蓋體上的保溫筒；使蓋體升降的升降機構(gòu)；鄰接設(shè)置在熱處理爐的下方的保持件載置臺；以及在保溫筒上以及保持件載置臺上之間對一對基板保持件的各個進行搬送的保持件搬送機構(gòu)，其中，在所述保持件搬送機構(gòu)上設(shè)置有限制各基板保持件發(fā)生倒轉(zhuǎn)的倒轉(zhuǎn)限制部件。
2. 如權(quán)利要求1所述的立式熱處理裝置，其特征在于 所述基板保持件具有底板、頂板以及設(shè)置在底板與頂板之間并且用于多層保持基板的支柱，所述保持件搬送機構(gòu)具有支撐所述基板保 持件的底板的下面的支撐部，所述倒轉(zhuǎn)限制部件具有隔著間隙與支撐 在所述支撐部上的底板的上面相對的限制片。
3. 如權(quán)利要求2所述的立式熱處理裝置，其特征在于 所述倒轉(zhuǎn)限制部件還具有使該限制片從側(cè)面突出退回的驅(qū)動部。
4. 如權(quán)利要求l所述的立式熱處理裝置，其特征在于 所述基板保持件具有底板、頂板以及設(shè)置在底板與頂板之間并且用于多層保持基板的支柱，所述保持件搬送機構(gòu)具有支撐所述基板保 持件的底板的下面的支撐部，所述倒轉(zhuǎn)限制部件具有從所述支撐部的 后方立起設(shè)置的并且用于按壓基板保持件的頂板的頂板按壓部。
5. 如權(quán)利要求1所述的立式熱處理裝置，其特征在于所述基板保持件具有底板、頂板以及設(shè)置在底板與頂板之間并且 用于多層保持基板的支柱，所述保持件搬送機構(gòu)具有支撐所述基板保 持件的底板的下面的支撐部，在所述基板保持件的底板的上面形成有 限制槽，所述倒轉(zhuǎn)限制部件具有隔著少許間隔與所述限制槽相對的限 制桿。
6. 如權(quán)利要求1所述的立式熱處理裝置，其特征在于 所述基板保持件具有底板、頂板以及設(shè)置在底板與頂板之間并且用于多層保持基板的支柱，所述保持件搬送機構(gòu)具有支撐所述基板保 持件的底板的下面的支撐部，在所述基板保持件的底板的兩側(cè)形成有 平行的一對橫孔，所述倒轉(zhuǎn)限制部件具有插入所述橫孔的限制桿。
7. 如權(quán)利要求1所述的立式熱處理裝置，其特征在于 所述基板保持件具有底板、頂板以及設(shè)置在底板與頂板之間并且用于多層保持基板的支柱，所述保持件搬送機構(gòu)具有支撐所述基板保 持件的底板的下面的支撐部，在所述基板保持件的底板的兩側(cè)形成有 平行的一對側(cè)槽，所述倒轉(zhuǎn)限制部件具有插入所述側(cè)槽的限制桿。
8. 如權(quán)利要求1所述的立式熱處理裝置，其特征在于 所述基板保持件具有底板、頂板以及設(shè)置在底板與頂板之間并且用于多層保持基板的支柱，所述保持件搬送機構(gòu)具有支撐所述基板保 持件的底板的下面的支撐部，在所述基板保持件的底板形成有縱孔， 所述倒轉(zhuǎn)限制部件由突設(shè)在所述支撐部的上面并且具有少許間隙地與 所述縱孔嵌合的限制突起部構(gòu)成。
9. 如權(quán)利要求1所述的立式熱處理裝置，其特征在于 所述基板保持件具有底板、頂板以及設(shè)置在底板與頂板之間并且用于多層保持基板的支柱，所述保持件搬送機構(gòu)具有支撐所述基板保 持件的底板的下面的支撐部，所述基板保持件的底板形成為環(huán)狀，所 述倒轉(zhuǎn)限制部件由突設(shè)在所述支撐部的上面并且具有少許間隙地與所 述環(huán)狀底板的內(nèi)周壁相對的多個限制突起部構(gòu)成。
10. —種立式熱處理方法，其特征在于，包括隔著保溫筒將多層保持有多個基板的一方的基板保持件載置于用 于封閉熱處理爐的爐口的蓋體上，使蓋體上升將基板保持件搬入到熱 處理爐內(nèi)的工序；在熱處理爐內(nèi)對基板進行熱處理的工序；在基板的熱處理中，將基板移載至保持件載置臺上的另一方基板 保持件上的工序；以及利用保持件搬送機構(gòu)對熱處理后從熱處理爐搬出的保溫筒上的一 方的基板保持件與保持件載置臺上的另一方的基板保持件進行移交的 工序，其中，所述保持件搬送機構(gòu)具有倒轉(zhuǎn)限制部件，在利用該倒轉(zhuǎn)限制部件 對一方的基板保持件以及另一方的基板保持件的倒轉(zhuǎn)進行限制的狀態(tài) 下搬送各基板保持件。
11. 如權(quán)利要求IO所述的立式熱處理方法，其特征在于 所述基板保持件具有底板、頂板以及設(shè)置在底板與頂板之間并且用于多層保持基板的支柱，所述保持件搬送機構(gòu)具有支撐所述基板保 持件的底板的下面的支撐部，所述倒轉(zhuǎn)限制部件具有隔著間隙與支撐 在所述支撐部上的底板的上面相對的限制片。
12. 如權(quán)利要求11所述的立式熱處理方法，其特征在于 所述倒轉(zhuǎn)限制部件還具有使該限制片從側(cè)面突出退回的驅(qū)動部。
13. 如權(quán)利要求10所述的立式熱處理方法，其特征在于 所述基板保持件具有底板、頂板以及設(shè)置在底板與頂板之間并且用于多層保持基板的支柱，所述保持件搬送機構(gòu)具有支撐所述基板保 持件的底板的下面的支撐部，所述倒轉(zhuǎn)限制部件具有從所述支撐部的 后方立起設(shè)置的并且用于按壓基板保持件的頂板的頂板按壓部。
14. 如權(quán)利要求IO所述的立式熱處理方法，其特征在于 所述基板保持件具有底板、頂板以及設(shè)置在底板與頂板之間并且用于多層保持基板的支柱，所述保持件搬送機構(gòu)具有支撐所述基板保 持件的底板的下面的支撐部，在所述基板保持件的底板的上面形成有 限制槽，所述倒轉(zhuǎn)限制部件具有隔著少許間隔與所述限制槽相對的限 制桿。
15. 如權(quán)利要求IO所述的立式熱處理方法，其特征在于 所述基板保持件具有底板、頂板以及設(shè)置在底板與頂板之間并且用于多層保持基板的支柱，所述保持件搬送機構(gòu)具有支撐所述基板保 持件的底板的下面的支撐部，在所述基板保持件的底板的兩側(cè)形成有 平行的一對橫孔，所述倒轉(zhuǎn)限制部件具有插入所述橫孔的限制桿。
16. 如權(quán)利要求10所述的立式熱處理方法，其特征在于 所述基板保持件具有底板、頂板以及設(shè)置在底板與頂板之間并且用于多層保持基板的支柱，所述保持件搬送機構(gòu)具有支撐所述基板保 持件的底板的下面的支撐部，在所述基板保持件的底板的兩側(cè)形成有 平行的一對側(cè)槽，所述倒轉(zhuǎn)限制部件具有插入所述側(cè)槽的限制桿。
17. 如權(quán)利要求IO所述的立式熱處理方法，其特征在于 所述基板保持件具有底板、頂板以及設(shè)置在底板與頂板之間并且用于多層保持基板的支柱，所述保持件搬送機構(gòu)具有支撐所述基板保 持件的底板的下面的支撐部，在所述基板保持件的底板形成有縱孔， 所述倒轉(zhuǎn)限制部件由突設(shè)在所述支撐部的上面并且具有少許間隙地與 所述縱孔嵌合的限制突起部構(gòu)成。
18. 如權(quán)利要求IO所述的立式熱處理方法，其特征在于 所述基板保持件具有底板、頂板以及設(shè)置在底板與頂板之間并且用于多層保持基板的支柱，所述保持件搬送機構(gòu)具有支撐所述基板保 持件的底板的下面的支撐部，所述基板保持件的底板形成為環(huán)狀，所 述倒轉(zhuǎn)限制部件由突設(shè)在所述支撐部的上面并且具有少許間隙地與所 述環(huán)狀底板的內(nèi)周壁相對的多個限制突起部構(gòu)成。
全文摘要
本發(fā)明提供一種對于雙舟體系統(tǒng)也能以簡單結(jié)構(gòu)防止因地震等外力導(dǎo)致舟體搬送機構(gòu)上的舟體倒轉(zhuǎn)的立式熱處理裝置和方法，立式熱處理裝置(1)包括下部具有爐口(5a)的熱處理爐(5)、封閉爐口的蓋體(17)、隔著保溫筒(19)載置在蓋體上并多層保持多個基板(w)的基板保持件(4)、和使蓋體升降從而將基板保持件相對熱處理爐搬入搬出的升降機構(gòu)(18)。當另一方基板保持件(4)在熱處理爐中時，另一方基板保持件為了基板(w)的移載而被載置于保持件載置臺上。在保持件載置臺與保溫筒之間，基板保持件通過保持件搬送機構(gòu)被搬送。保持件搬送機構(gòu)具有限制基板保持件倒轉(zhuǎn)的倒轉(zhuǎn)限制部件。
文檔編號F27B17/00GK101246815SQ200810074119
公開日2008年8月20日 申請日期2008年2月14日 優(yōu)先權(quán)日2007年2月14日
發(fā)明者似鳥弘彌, 菱谷克幸 申請人:東京毅力科創(chuàng)株式會社