專利名稱：太陽光譜選擇性吸收涂層板的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型屬涉及對太陽能利用領(lǐng)域，尤其涉及到太陽光熱發(fā)電、太陽光熱取暖、太陽能熱水器等應(yīng)用，具體的說是ー種高效大面積的太陽光譜選擇性吸收涂層制備方法及涂層板。
背景技術(shù)：
隨著能源和環(huán)境問題的日益嚴(yán)峻，太陽能熱利用技術(shù)在エ業(yè)上的應(yīng)用成為人們關(guān)注的焦點。其中太陽能選擇性吸收涂層制備技術(shù)是太陽能熱利用的關(guān)鍵技術(shù)之一。目前主要的太陽能選擇性吸收涂層主要制備在鋁板、銅板、不銹鋼等金屬襯底上。雖然可以達(dá)到光熱轉(zhuǎn)換的效果，但因其材質(zhì)的限制無法在建筑等領(lǐng)域得到廣泛應(yīng)用。

發(fā)明內(nèi)容實用新型目的本實用新型提供一種高效大面積的太陽光譜選擇性吸收涂層制備方法及涂層板，其目的是解決以往的太陽能熱利用的效果不理想的問題。技術(shù)方案本實用新型是通過以下技術(shù)方案來實現(xiàn)的一種高效大面積的太陽光譜選擇性吸收涂層制備方法，其特征在于在以玻璃材質(zhì)為襯底的材料上利用磁控濺射法制備太陽光譜選擇性吸收涂層，具體制備過程為備襯底，對襯底進行清洗，然后鎖室大氣真空轉(zhuǎn)換，再依次對襯底進行進行真空過渡、磁控濺射鍍制、真空過渡、鎖室真空大氣轉(zhuǎn)換，之后在襯底上便形成太陽光譜選擇性吸收涂層，使具有太陽光譜選擇性吸收涂層的襯底具備性能優(yōu)異的太陽光譜選擇性吸收性能。具備性能優(yōu)異的太陽光譜選擇性吸收性能是指具有高的吸收比和低的發(fā)射比。吸收比大于0. 80，發(fā)射比小于0. 20。所述襯底為玻璃材質(zhì)的材料。所述襯底材料包括所有玻璃材質(zhì)，包括具有陷光結(jié)構(gòu)或者經(jīng)過處理后具備陷光結(jié)構(gòu)的材料。所述太陽光譜選擇性吸收涂層被制備在玻璃襯底的具有陷光結(jié)構(gòu)的面上。由上面所述的高效大面積的太陽光譜選擇性吸收涂層制備方法所制備的太陽光譜選擇性吸收涂層板，其特征在于該涂層板包括玻璃襯底和太陽光譜選擇性吸收涂層，太陽光譜選擇性吸收涂層制備在玻璃襯底上形成太陽光譜選擇性吸收結(jié)構(gòu)。所述玻璃襯底為陷光結(jié)構(gòu)。所述太陽光譜選擇性吸收涂層被制備在玻璃襯底上的具有陷光結(jié)構(gòu)的面上。優(yōu)點及效果本實用新型提供一種高效大面積的太陽光譜選擇性吸收涂層制備方法，其特征在于在以玻璃材質(zhì)為襯底的材料上利用磁控濺射法制備太陽光譜選擇性吸收涂層。做為本實用新型的進ー步改進，若所述襯底材料具備陷光結(jié)構(gòu)，則在具備陷光結(jié)構(gòu)的襯底材料上利用磁控濺射法制備太陽光譜選擇性吸收涂層。所述具備陷光結(jié)構(gòu)的襯底包括所有具有陷光結(jié)構(gòu)或者經(jīng)過處理后具備陷光結(jié)構(gòu)的材料。太陽光譜選擇性吸收涂層被制備在所述襯底材料具有陷光結(jié)構(gòu)的一面上。本實用新型提供的新型、高效、高產(chǎn)能、大面積太陽光譜選擇性吸收涂層的制備方法的優(yōu)勢在于，使用磁控濺射法制備該涂層可實現(xiàn)大面積、高效、高產(chǎn)能的目的，且制造成本較其他方法低廉。使用玻璃材質(zhì)為襯底，使得該材料可與玻璃材料一祥應(yīng)用于多個領(lǐng)域。尤其是在做為建材應(yīng)用于建筑上，除具備玻璃制品本身的時尚、美觀、采光好、環(huán)保的優(yōu)勢夕卜，還結(jié)合了太陽光譜選擇性吸收涂層的特點，根據(jù)涂層的性質(zhì)，通過光熱轉(zhuǎn)換使得該材料更具價值。


圖I是本新型高效高產(chǎn)能大面積太陽光譜選擇性吸收涂層鍍在玻璃材質(zhì)的襯底材料上的示意圖。I玻璃襯底、2太陽光譜選擇性吸收圖層、5入射的太陽光。圖2是本新型高效高產(chǎn)能大面積太陽光譜選擇性吸收涂層鍍在襯底材料具備陷·光結(jié)構(gòu)一面上的整體示意圖附圖標(biāo)記說明1具備陷光結(jié)構(gòu)的玻璃襯底，2太陽光譜選擇性吸收圖層，3表示在該形式的結(jié)構(gòu)中的入射的太陽光，4被一次反射的入射光，6被二次反射的入射光。
具體實施方式

以下結(jié)合附圖對本實用新型做進ー步的描述如圖I所示，本實用新型提供一種高效大面積的太陽光譜選擇性吸收涂層制備方法，在以玻璃材質(zhì)為襯底I的材料上利用磁控濺射法制備太陽光譜選擇性吸收涂層2，具體制備過程為備襯底1，對襯底I進行清洗，然后鎖室大氣真空轉(zhuǎn)換，再依次對襯底I進行進行真空過渡、磁控濺射鍍制、真空過渡、鎖室真空大氣轉(zhuǎn)換，之后在襯底I上便形成太陽光譜選擇性吸收涂層2，使具有太陽光譜選擇性吸收涂層2的襯底I具備性能優(yōu)異的太陽光譜選擇性吸收性能。具備性能優(yōu)異的太陽光譜選擇性吸收性能是指具有高的吸收比和低的發(fā)射比。吸收比大于0. 80，發(fā)射比小于0. 20。所述襯底I為玻璃材質(zhì)的材料。所述襯底材料I包括所有玻璃材質(zhì)，包括具有陷光結(jié)構(gòu)或者經(jīng)過處理后具備陷光結(jié)構(gòu)的材料3。所述太陽光譜選擇性吸收涂層2被制備在襯底材料的具有陷光結(jié)構(gòu)的面上。通過反射、折射和散射，將入射光線分散到各個角度，從而增加光在太陽光譜選擇性吸收涂層材料中的光程，使光吸收增加，從而增加吸收率。該涂層板包括玻璃襯底I和太陽光譜選擇性吸收涂層2，太陽光譜選擇性吸收涂層2制備在玻璃襯底I上形成太陽光譜選擇性吸收結(jié)構(gòu)。所述玻璃襯底I為陷光結(jié)構(gòu)。如圖2所示，所述太陽光譜選擇性吸收涂層2被制備在玻璃襯底I上的具有陷光結(jié)構(gòu)的面上。。
以下結(jié)合附圖對本實用新型實施作進ー步詳細(xì)說明。請參閱圖I所示的本新型高效高產(chǎn)能大面積太陽光譜選擇性吸收涂層鍍在玻璃材質(zhì)的襯底材料上的示意圖。如圖所示，本實用新型包括襯底材料I、太陽光譜選擇性吸收涂層2。[0035]做為本實用新型的一種實施方式，太陽光譜選擇性吸收涂層2被以磁控濺射法鍍在玻璃材質(zhì)的襯底材料I上。當(dāng)入射光5照射到太陽光譜選擇性吸收涂層2上，被吸收并根據(jù)涂層性質(zhì)進行能量的轉(zhuǎn)換。參閱圖2所示為本實用新型的襯底材料具備陷光結(jié)構(gòu)時的整體示意圖。如圖所示，I為具備陷光結(jié)構(gòu)的襯底材料，2為太陽光譜選擇性吸收涂層。做為本實用新型的另ー種實施方式，太陽光譜選擇性吸收涂層2被以磁控濺射法鍍在具備陷光結(jié)構(gòu)的玻璃材質(zhì)襯底材料I上。因太陽光譜選擇性吸收涂層2被鍍在陷光結(jié)構(gòu)材質(zhì)I上，并形成表面的倒金字塔形狀，因而當(dāng)入射光3照射到太陽光譜選擇性吸收涂層2上，部份入射光被襯底材料I吸收,部份入射光3而被襯底材料I反射，反射光4反射到太陽光譜選擇性吸收涂層2上，同樣，部份反射光4被吸收，部份反射光4被再次反射，形成再次反射光6，再次反射光6反射到太陽光譜選擇性吸收涂層2上，且周而復(fù)始。因入射角的不同，入射光被反射的次數(shù)也不盡相同?？傮w而言，光被最大限度的留在太陽光譜選擇性吸收涂層2并被吸收。從而達(dá)到増加吸收率的目的本實用新型很好的解決了以往在光能利用方面所存在的問題，大大提高了太陽光譜選擇性吸收涂層的工作效率。
權(quán)利要求1.太陽光譜選擇性吸收涂層板，其特征在于該涂層板包括玻璃襯底(I)和太陽光譜選擇性吸收涂層(2)，太陽光譜選擇性吸收涂層(2)制備在玻璃襯底(I)上形成太陽光譜選擇性吸收結(jié)構(gòu)。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的太陽光譜選擇性吸收涂層板，其特征在于所述玻璃襯底(I)為陷光結(jié)構(gòu)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的太陽光譜選擇性吸收涂層板，其特征在于所述太陽光譜選擇性吸收涂層(2)被制備在玻璃襯底(I)上的具有陷光結(jié)構(gòu)的面上。
4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的太陽光譜選擇性吸收涂層板，其特征在于太陽光譜選擇性吸收涂層(2)為具有高的吸收比和低的發(fā)射比的結(jié)構(gòu)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的太陽光譜選擇性吸收涂層板，其特征在于吸收比大于O.80，發(fā)射比小于O. 20。
專利摘要太陽光譜選擇性吸收涂層板，其特征在于該涂層板包括玻璃襯底和太陽光譜選擇性吸收涂層，太陽光譜選擇性吸收涂層制備在玻璃襯底上形成太陽光譜選擇性吸收結(jié)構(gòu)。本實用新型很好的解決了以往在光能利用方面所存在的問題，大大提高了太陽光譜選擇性吸收涂層的工作效率。
文檔編號F24J2/48GK202532768SQ20122012545
公開日2012年11月14日 申請日期2012年3月29日 優(yōu)先權(quán)日2012年3月29日
發(fā)明者張浙軍, 解欣業(yè) 申請人:張浙軍, 解欣業(yè)