專利名稱：基于磚窯廢氣的制磚烘干裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及節(jié)能減排領(lǐng)域，具體是一種利用磚窯廢氣中的廢熱的基于磚窯廢氣的制磚烘干裝置。
背景技術(shù)：
磚燒制過程中需要及時排煙，排煙溫度達到150 200°C，其中蘊含著大量的廢熱。磚窯廠在生產(chǎn)中有大量的廢氣和粉塵排放，嚴重污染了周邊環(huán)境，磚窯生產(chǎn)過程中有大量的廢熱資源未得以利用。目前，排煙直接由風道排入大氣，這部分熱能未被利用，給環(huán)境帶來了大量的熱污染，排煙中含有大量的二氧化硫、一氧化碳，嚴重污染空氣，空氣質(zhì)量降低，同時排煙使得周圍環(huán)境溫度升高，造成了熱能浪費。

實用新型內(nèi)容本實用新型的目的是提供一種利用磚窯廢氣中的廢熱的基于磚窯廢氣的制磚烘
干裝置。本實用新型基于磚窯廢氣的制磚烘干裝置，包括一個烘干室，所述烘干室由隔板分為上層碼磚室和下層廢氣通道，下層廢氣通道上設(shè)置有廢氣入口，上層碼磚室頂部設(shè)置有出氣口，在所述隔板上設(shè)置氣孔連通碼磚室與廢氣通道。作為優(yōu)化，可以將隔板上的氣孔梯度分布，靠近廢氣入口處的氣孔密度小于遠離廢氣入口處的氣孔密度?？梢栽趶U氣入口處設(shè)置有鼓風機。也可以將廢氣入口的數(shù)量為兩個。生產(chǎn)時將磚窯產(chǎn)生的廢氣，通過鼓風機吹進廢氣入口，廢氣進入烘干室下層的廢氣通道內(nèi)，廢氣通過烘干室上下兩層之間的氣孔進入到烘干室上層，對放置在烘干室上層的磚頭進行烘干。本實用新型基于磚窯廢氣的制磚烘干裝置，對磚窯產(chǎn)生的廢氣中廢熱進行了有效利用，同時降低了廢氣中廢熱和粉塵的含量。

圖1為本實用新型基于磚窯廢氣的制磚烘干裝置結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施方式
下面給出的實施例擬對本實用新型作進一步說明，但不能理解為是對本實用新型保護范圍的限制，本領(lǐng)域技術(shù)人員根據(jù)本實用新型內(nèi)容對本實用新型的一些非本質(zhì)的改進和調(diào)整，仍屬于本實用新型的保護范圍?；诖u窯廢氣的制磚烘干裝置，如圖1所示，包括廢氣入口1、鼓風機2、烘干室3、出氣口 4 ;烘干室3上端連接有出氣口 4，烘干室3下端連接廢氣入口 I，鼓風機2設(shè)置在廢氣入口 I處；烘干室3由隔板7分為上下兩層，上下兩層有氣孔5連通，烘干室3下層設(shè)置有廢氣通道6。烘干室3上下兩層之間的氣孔5靠近廢氣入口 I處的密度小于遠離廢氣入口 I處的密度。生產(chǎn)時將磚窯產(chǎn)生的廢氣，通過鼓風機吹進廢氣入口，廢氣進入烘干室下層的廢氣通道內(nèi)，廢氣通過烘干室上下兩層之間的氣孔進入到烘干室上層，對放置在烘干室上層的磚頭進行烘干。另外可以將，廢氣入口數(shù)量設(shè)置為兩個。
權(quán)利要求1.一種基于磚窯廢氣的制磚烘干裝置，包括一個烘干室，其特征在于所述烘干室由隔板分為上層碼磚室和下層廢氣通道，下層廢氣通道上設(shè)置有廢氣入口，上層碼磚室頂部設(shè)置有出氣口，在所述隔板上設(shè)置氣孔連通碼磚室與廢氣通道。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制磚烘干裝置，其特征在于所述隔板上的氣孔梯度分布，靠近廢氣入口處的氣孔密度小于遠離廢氣入口處的氣孔密度。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制磚烘干裝置，其特征在于在所述廢氣入口處設(shè)置有鼓風機。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制磚烘干裝置，其特征在于所述廢氣入口的數(shù)量為兩個。
專利摘要本實用新型基于磚窯廢氣的制磚烘干裝置，包括一個烘干室，所述烘干室由隔板分為上層碼磚室和下層廢氣通道，下層廢氣通道上設(shè)置有廢氣入口，上層碼磚室頂部設(shè)置有出氣口，在所述隔板上設(shè)置氣孔連通碼磚室與廢氣通道。生產(chǎn)時將磚窯產(chǎn)生的廢氣，通過鼓風機吹進廢氣入口，廢氣進入烘干室下層的廢氣通道內(nèi)，廢氣通過烘干室上下兩層之間的氣孔進入到烘干室上層，對放置在烘干室上層的磚頭進行烘干。本實用新型基于磚窯廢氣的制磚烘干裝置，對磚窯產(chǎn)生的廢氣中廢熱進行了有效利用，同時降低了廢氣中廢熱和粉塵的含量。
文檔編號F26B21/14GK202902809SQ201220550450
公開日2013年4月24日 申請日期2012年10月25日 優(yōu)先權(quán)日2012年10月25日
發(fā)明者張雷, 魏巍 申請人:張雷