專利名稱：回轉(zhuǎn)窯窯體狀態(tài)簡(jiǎn)易監(jiān)測(cè)裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及化工設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種回轉(zhuǎn)窯窯體狀態(tài)的簡(jiǎn)易測(cè)量裝置。
背景技術(shù)：
回轉(zhuǎn)窯廣泛應(yīng)用于化學(xué)加工過(guò)程中，如在采用回轉(zhuǎn)窯內(nèi)作為煅燒的設(shè)備，煅燒時(shí)受火均勻，相對(duì)于立窯式煅燒，可大大提高煅燒的產(chǎn)品的質(zhì)量。但回轉(zhuǎn)窯在運(yùn)轉(zhuǎn)過(guò)程中因各種原因可能引起窯軸心偏離安裝調(diào)試好的軸心，但因回轉(zhuǎn)窯體積相對(duì)較大，其軸心偏轉(zhuǎn)幾個(gè)毫米時(shí)很難發(fā)現(xiàn)，而軸心偏移，很容易引起崩塌等各種事故。

實(shí)用新型內(nèi)容為盡早發(fā)現(xiàn)上述窯軸心發(fā)生偏移而存在的安全隱患，本實(shí)用新型提供了一種回轉(zhuǎn)窯窯體狀態(tài)簡(jiǎn)易測(cè)量裝置?；剞D(zhuǎn)窯窯體狀態(tài)簡(jiǎn)易測(cè)量裝置，包括測(cè)量線、安裝孔、水平儀、刻度線，其特征在于所述的安裝孔設(shè)計(jì)在窯頭和窯尾，其連線與回轉(zhuǎn)窯軸心相平行；測(cè)量線固定在兩個(gè)安裝孔之間，水平儀安裝在測(cè)量線上，水平儀可沿測(cè)量線滑動(dòng)，刻度線為窯軸正常時(shí)水平儀內(nèi)的液體在測(cè)量線的不同位置時(shí)，水平儀內(nèi)的液體所顯示的痕跡線。本實(shí)用新型通過(guò)水平儀內(nèi)液體所顯示痕跡線的變化確定窯軸是否發(fā)生偏移，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，觀察方便，只要檢測(cè)時(shí)窯軸的水平儀內(nèi)的液體痕跡與原刻度痕跡不同，則表示回轉(zhuǎn)窯軸心發(fā)生偏移。

圖1 :回轉(zhuǎn)窯窯體狀態(tài)簡(jiǎn)易測(cè)量裝置安裝示意圖；圖中1.安裝孔2.水平儀3.測(cè)量線
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步的說(shuō)明回轉(zhuǎn)窯窯體狀態(tài)簡(jiǎn)易測(cè)量裝置，包括測(cè)量線3、安裝孔1、水平儀2、刻度線，其特征在于所述的安裝孔I設(shè)計(jì)在窯頭和窯尾，其連線與回轉(zhuǎn)窯軸心相平行；測(cè)量線3固定在兩個(gè)安裝孔I之間，水平儀2安裝在測(cè)量線3上，水平儀可沿測(cè)量線滑動(dòng)，刻度線為窯軸正常時(shí)水平儀2內(nèi)的液體在測(cè)量線3的不同位置時(shí)，水平儀2內(nèi)的液體所顯示的痕跡線。本實(shí)用新型的保護(hù)范圍不僅限于具體實(shí)施方式
部分所公開(kāi)的技術(shù)方案，凡通過(guò)測(cè)量線與水平儀的搭配使用，實(shí)現(xiàn)對(duì)回轉(zhuǎn)窯窯體狀態(tài)的監(jiān)測(cè)均落入本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求1.回轉(zhuǎn)窯窯體狀態(tài)簡(jiǎn)易測(cè)量裝置，包括測(cè)量線(3)、安裝孔(I)、水平儀(2)、刻度線，其特征在于所述的安裝孔(I)設(shè)計(jì)在窯頭和窯尾，其連線與回轉(zhuǎn)窯軸心相平行；測(cè)量線(3) 固定在兩個(gè)安裝孔(I)之間，水平儀(2)安裝在測(cè)量線(3)上，水平儀可沿測(cè)量線滑動(dòng)，刻度線為窯軸正常時(shí)水平儀(2)內(nèi)的液體在測(cè)量線(3)的不同位置時(shí)，水平儀(2)內(nèi)的液體所顯示的痕跡線。
專利摘要回轉(zhuǎn)窯窯體狀態(tài)簡(jiǎn)易測(cè)量裝置，包括測(cè)量線、安裝孔、水平儀、刻度線，其特征在于所述的安裝孔設(shè)計(jì)在窯頭和窯尾，其連線與回轉(zhuǎn)窯軸心相平行；測(cè)量線固定在兩個(gè)安裝孔之間，水平儀安裝在測(cè)量線上，水平儀可沿測(cè)量線滑動(dòng)，刻度線為窯軸正常時(shí)水平儀內(nèi)的液體在測(cè)量線的不同位置時(shí)，水平儀內(nèi)的液體所顯示的痕跡線。本實(shí)用新型通過(guò)水平儀內(nèi)液體所顯示痕跡線的變化確定窯軸是否發(fā)生偏移，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，觀察方便，只要檢測(cè)時(shí)窯軸的水平儀內(nèi)的液體痕跡與原刻度痕跡不同，則表示回轉(zhuǎn)窯軸心發(fā)生偏移。
文檔編號(hào)F27B7/42GK202885505SQ201220595820
公開(kāi)日2013年4月17日 申請(qǐng)日期2012年11月13日 優(yōu)先權(quán)日2012年11月13日
發(fā)明者文邦祥 申請(qǐng)人:遵義市恒新化工有限公司