專利名稱：一種真空冶金爐等離子槍回轉(zhuǎn)升降機構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及等離子槍技術(shù)領(lǐng)域，具體的說是一種真空冶金爐等離子槍回轉(zhuǎn)升降機構(gòu)。
背景技術(shù)：
等離子體被列為物質(zhì)固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)三種基本形態(tài)之外的第四態(tài)，等離子體的電離程度不同而分為低溫、中溫、高溫等離子體，中溫等離子體廣泛用于切割、焊接、熔煉、噴涂以及火力發(fā)電等領(lǐng)域，一般自由弧心溫度可高5000 6000K，應(yīng)用范圍隨著現(xiàn)代工業(yè)產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)的調(diào)整和節(jié)能環(huán)保要求的提高而迅速擴大，以等離子體為熱源的真空冶金設(shè)備或其它反應(yīng)器正在越來越受到重視，但國內(nèi)在這方面的應(yīng)用由于等離子電源及等離子發(fā)生器發(fā)展滯后，特別是在冶金、太陽能多晶硅提純、生活及醫(yī)用垃圾的焚燒都未被廣泛采用。等離子槍是等離子爐的關(guān)鍵部件，是直接向爐料提供熱源(高溫等離子弧)的發(fā)射機構(gòu)，一般等離子爐的等離子槍有升降功能，但沒有回轉(zhuǎn)機構(gòu)，這是等離子弧心溫度特高、材料某些特殊性能和工藝要求所決定的，其難點在于，升降回轉(zhuǎn)時不僅不得破壞真空，回轉(zhuǎn)半徑根據(jù)設(shè)備結(jié)構(gòu)和工藝要求可以調(diào)節(jié)。因此，為克服上述技術(shù)的不足而設(shè)計出一款不僅不得破壞真空，回轉(zhuǎn)半徑根據(jù)設(shè)備結(jié)構(gòu)和工藝要求可以調(diào)節(jié)的真空冶金爐等離子槍回轉(zhuǎn)升降機構(gòu)，正是發(fā)明人所要解決的問題。
發(fā)明內(nèi)容針對現(xiàn)有技術(shù)的不足，本實用新型的目的是提供一種真空冶金爐等離子槍回轉(zhuǎn)升降機構(gòu)，其操作方便，使用簡單，不僅不破壞真空，回轉(zhuǎn)半徑根據(jù)設(shè)備結(jié)構(gòu)和工藝要求可以調(diào)節(jié)，有非常好的實用價值。本實用新型專利解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是:一種真空冶金爐等離子槍回轉(zhuǎn)升降機構(gòu)，包含等離子槍回轉(zhuǎn)與升降機構(gòu)、固定支架、等離子槍，等離子槍設(shè)置在具有上下運動與回轉(zhuǎn)運動相結(jié)合的等離子槍回轉(zhuǎn)與升降機構(gòu)上，等離子槍回轉(zhuǎn)與升降機構(gòu)包含等離子槍回轉(zhuǎn)機構(gòu)、等離子槍升降機構(gòu)，等離子槍回轉(zhuǎn)與升降機構(gòu)安裝在爐頂?shù)墓潭ㄖЪ苌?，其特征在?等離子槍回轉(zhuǎn)與升降機構(gòu)還包含旋轉(zhuǎn)半徑可以調(diào)節(jié)的旋轉(zhuǎn)半徑調(diào)節(jié)裝置。本實用新型的有益效果是:1、在采用等離子弧對多晶硅料熔煉時，與單純的電阻加熱或中頻加熱相比，熔化時間從5 10小時左右可縮短到2 3小時；2、采用等離子弧與感應(yīng)加熱相結(jié)合的加熱方式，可以在不同工藝階段既可調(diào)節(jié)功率參數(shù)，還可以調(diào)節(jié)不同加熱組合形式，以滿足其它新工藝(如太陽能多晶硅提純)的特種需求，并且不受被熔煉材料性質(zhì)的限制；3、等離子槍的回轉(zhuǎn)升降機構(gòu)充分滿足了節(jié)時節(jié)能和操作工藝要求，擴展了應(yīng)用范圍；
圖1是本實用新型結(jié)構(gòu)示意圖。附圖標(biāo)記說明:1_等離子槍回轉(zhuǎn)機構(gòu)；2_旋轉(zhuǎn)半徑調(diào)節(jié)裝置；3_等離子槍升降機構(gòu)；4_固定支架；5_等離子槍。
具體實施方式
下面是具體實施例，進一步闡述本實用新型一種真空冶金爐等離子槍回轉(zhuǎn)升降機構(gòu)，應(yīng)理解，這些實施例僅用于說明本實用新型而不用于限制本實用新型的范圍。此外應(yīng)理解，在閱讀了本實用新型講授的內(nèi)容之后，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以對本實用新型一種真空冶金爐等離子槍回轉(zhuǎn)升降機構(gòu)作各種改動或修改，這些等價形式同樣落在申請所附權(quán)利要求書所限定的范圍。圖1為本實用新型一種真空冶金爐等離子槍回轉(zhuǎn)升降機構(gòu)結(jié)構(gòu)示意圖，包含等離子槍回轉(zhuǎn)與升降機構(gòu)、固定支架4、等離子槍5，等離子槍5設(shè)置在具有上下運動與回轉(zhuǎn)運動相結(jié)合的等離子槍回轉(zhuǎn)與升降機構(gòu)上，等離子槍回轉(zhuǎn)與升降機構(gòu)包含等離子槍回轉(zhuǎn)機構(gòu)1、等離子槍升降機構(gòu)3，等離子槍回轉(zhuǎn)與升降機構(gòu)安裝在爐頂?shù)墓潭ㄖЪ?上，等離子槍回轉(zhuǎn)與升降機構(gòu)還包含旋轉(zhuǎn)半徑可以調(diào)節(jié)的旋轉(zhuǎn)半徑調(diào)節(jié)裝置2。本實用新型回轉(zhuǎn)動態(tài)密封是通過一個水冷球體，該球體材料與爐體接觸部分應(yīng)有抗咬死特性，通過特殊動態(tài)密封結(jié)構(gòu)的設(shè)計，在回轉(zhuǎn)運動時不破壞真空，等離子槍升降機構(gòu)3比沒有等離子槍旋轉(zhuǎn)機構(gòu)I的等離子槍復(fù)雜得多，等離子槍5的高度根據(jù)爐料熔融液面位置調(diào)節(jié)，液面位置又受熔化狀態(tài)和連續(xù)加料的變化而變化，通過液面與噴嘴的距離轉(zhuǎn)換為電信號，達到自動升降的目的；回轉(zhuǎn)半徑的調(diào)節(jié)可以通過原料表面熔化狀態(tài)的視屏自動調(diào)整，以適應(yīng)等離子弧高達5000K以上溫度瞬息變化的特點，這是一般感應(yīng)熔煉所沒有的；當(dāng)液面完全熔化后，半徑的最大值必須與坩堝壁保持20 50毫米的距離，防止損壞坩堝；回轉(zhuǎn)速度受表面熔融狀態(tài)變化。能否保持液面的穩(wěn)定狀態(tài)受諸多因素的影響，例如，等離子槍功率、材料的熱導(dǎo)率、爐料的塊度與裝料情況等，可以通過紅外測溫、特殊透視儀等儀表采集的參數(shù)自動調(diào)節(jié)。
權(quán)利要求1.一種真空冶金爐等離子槍回轉(zhuǎn)升降機構(gòu)，包含等離子槍回轉(zhuǎn)與升降機構(gòu)、固定支架、等離子槍，等離子槍設(shè)置在具有上下運動與回轉(zhuǎn)運動相結(jié)合的等離子槍回轉(zhuǎn)與升降機構(gòu)上，等離子槍回轉(zhuǎn)與升降機構(gòu)包含等離子槍回轉(zhuǎn)機構(gòu)、等離子槍升降機構(gòu)，等離子槍回轉(zhuǎn)與升降機構(gòu)安裝在爐頂?shù)墓潭ㄖЪ苌希涮卣髟谟?等離子槍回轉(zhuǎn)與升降機構(gòu)還包含旋轉(zhuǎn)半徑可以調(diào)節(jié)的旋轉(zhuǎn)半徑調(diào)節(jié)裝置。
專利摘要本實用新型涉及等離子槍技術(shù)領(lǐng)域，包含等離子槍回轉(zhuǎn)與升降機構(gòu)、固定支架、等離子槍，等離子槍設(shè)置在具有上下運動與回轉(zhuǎn)運動相結(jié)合的等離子槍回轉(zhuǎn)與升降機構(gòu)上，等離子槍回轉(zhuǎn)與升降機構(gòu)包含等離子槍回轉(zhuǎn)機構(gòu)、等離子槍升降機構(gòu)，等離子槍回轉(zhuǎn)與升降機構(gòu)安裝在爐頂?shù)墓潭ㄖЪ苌?，等離子槍回轉(zhuǎn)與升降機構(gòu)還包含旋轉(zhuǎn)半徑可以調(diào)節(jié)的旋轉(zhuǎn)半徑調(diào)節(jié)裝置，本實用新型在采用等離子弧對多晶硅料熔煉時，與單純的電阻加熱或中頻加熱相比，熔化時間從5～10小時左右可縮短到2～3小時，采用等離子弧與感應(yīng)加熱相結(jié)合的加熱方式，可以在不同工藝階段既可調(diào)節(jié)功率參數(shù)，還可以調(diào)節(jié)不同加熱組合形式，以滿足其它新工藝的特種需求，并且不受被熔煉材料性質(zhì)的限制，等離子槍的回轉(zhuǎn)升降機構(gòu)充分滿足了節(jié)時節(jié)能和操作工藝要求，擴展了應(yīng)用范圍。
文檔編號F27B14/14GK202973879SQ20122069971
公開日2013年6月5日 申請日期2012年12月17日 優(yōu)先權(quán)日2012年12月17日
發(fā)明者潘健武, 郝文杰 申請人:蘇州晶科新能源裝備科技有限公司