一種晶圓清洗甩干機(jī)的移動(dòng)門的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型提供一種晶圓清洗甩干機(jī)的移動(dòng)門，所述晶圓清洗甩干機(jī)的移動(dòng)門包括：位于晶圓清洗甩干機(jī)外殼頂部、可以滑動(dòng)打開的外部移動(dòng)門；位于晶圓清洗甩干機(jī)腔體頂部、用于控制腔體開關(guān)的內(nèi)部移動(dòng)門；所述內(nèi)部移動(dòng)門由內(nèi)外兩層結(jié)構(gòu)構(gòu)成。所述晶圓清洗甩干機(jī)的內(nèi)外部移動(dòng)門的材料均使用親水材料，且表面均為顆粒噴涂面，晶圓清洗甩干機(jī)內(nèi)部移動(dòng)門的內(nèi)層結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)為帶溝槽的弧形，同時(shí)在內(nèi)部移動(dòng)門內(nèi)層結(jié)構(gòu)的兩端設(shè)置有進(jìn)水口，且內(nèi)部移動(dòng)門內(nèi)層結(jié)構(gòu)的外表面設(shè)有沿其兩側(cè)邊緣的凸出區(qū)，這樣就可以讓內(nèi)層結(jié)構(gòu)表面的水通過溝槽流到進(jìn)水口，順利滑落到內(nèi)部容器中，避免了水停留在內(nèi)層結(jié)構(gòu)表面，在內(nèi)部移動(dòng)門做開關(guān)動(dòng)作時(shí)導(dǎo)致水掉落在晶圓表面。
【專利說明】—種晶圓清洗甩干機(jī)的移動(dòng)門
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及半導(dǎo)體工藝設(shè)備領(lǐng)域，特別是涉及一種晶圓清洗甩干機(jī)的移動(dòng)門。
【背景技術(shù)】
[0002]在集成電路加工工藝中，對(duì)晶圓進(jìn)行清洗是其中比較重要的一個(gè)步驟流程，這是因?yàn)樵诨瘜W(xué)機(jī)械拋光之后會(huì)有一些殘留或微塵落在晶圓表面，如果此種塵粒缺陷(P/D，ParticleDefect)不及時(shí)去除，會(huì)嚴(yán)重影響良率。通過刷洗的方式可以將此種塵粒缺陷去除，目前，通常使用的刷洗方式有以下5種:去離子水沖洗、毛刷刷洗、高壓水刷洗、毛刷加高壓水刷洗和芯片雙面刷洗。
[0003]在化學(xué)機(jī)械拋光以后,現(xiàn)有技術(shù)中使用晶圓清洗甩干機(jī)(SRD, Spin Rinse Dryer)對(duì)晶圓進(jìn)行去離子水沖洗，晶圓清洗甩干機(jī)可以將潮濕的晶圓通過旋轉(zhuǎn)及干燥使晶圓表面干燥。而在現(xiàn)有的生產(chǎn)工藝過程中，經(jīng)過晶圓清洗甩干機(jī)旋轉(zhuǎn)干燥以后，晶圓表面10上仍然有水痕11 (如圖1所不)，由圖1可以看到，晶圓表面存在一道明顯的水痕11。這是由于晶圓在進(jìn)入晶圓清洗甩干機(jī)的時(shí)候，晶圓表面的水會(huì)掉落在晶圓清洗甩干機(jī)的移動(dòng)門上，而現(xiàn)有晶圓清洗甩干機(jī)的移動(dòng)門的材料為非親水性材料，且表面光滑，晶圓掉落到該移動(dòng)門上后就會(huì)在移動(dòng)門表面掉落處形成水滴，在晶圓甩干取出時(shí)，由于開關(guān)晶圓清洗甩干機(jī)的移動(dòng)門時(shí)會(huì)產(chǎn)生震動(dòng)，這就會(huì)使得之前掉落在移動(dòng)門上的水滴重新掉落在晶圓的表面產(chǎn)生水痕，使得晶圓經(jīng)過化學(xué)機(jī)械拋光和旋轉(zhuǎn)及干燥后并沒能達(dá)到干燥的要求。此處晶圓表面水痕缺陷的存在，將會(huì)大大影響產(chǎn)品的良率。
[0004]因此，提供一種改進(jìn)型的晶圓清洗旋干機(jī)的移動(dòng)門非常必要。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0005]鑒于以上所述現(xiàn)有技術(shù)的缺點(diǎn)，本實(shí)用新型的目的在于提供一種晶圓清洗甩干機(jī)的移動(dòng)門，用于解決現(xiàn)有技術(shù)中由于晶圓清洗甩干機(jī)的移動(dòng)門的材料為非親水性材料，且表面光滑，而產(chǎn)生的晶圓在進(jìn)入晶圓清洗甩干機(jī)的時(shí)候，晶圓表面的水會(huì)掉落在晶圓清洗甩干機(jī)的移動(dòng)門上而在移動(dòng)門表面形成水滴，之后在晶圓甩干取出時(shí)，在開關(guān)晶圓清洗甩干機(jī)的移動(dòng)門時(shí)產(chǎn)生震動(dòng)，使得之前掉落在移動(dòng)門上的水滴重新掉落在晶圓的表面而產(chǎn)生水痕，進(jìn)而影響廣品良率的問題。
[0006]為實(shí)現(xiàn)上述目的及其他相關(guān)目的，本實(shí)用新型提供一種晶圓清洗甩干機(jī)的移動(dòng)門，所述晶圓清洗甩干機(jī)的移動(dòng)門至少包括:
[0007]位于晶圓清洗甩干機(jī)外殼頂部、可以滑動(dòng)打開的外部移動(dòng)門；
[0008]位于晶圓清洗甩干機(jī)腔體頂部、用于控制腔體開關(guān)的內(nèi)部移動(dòng)門；所述內(nèi)部移動(dòng)門由內(nèi)外兩層結(jié)構(gòu)構(gòu)成，其中內(nèi)部移動(dòng)門外層結(jié)構(gòu)固定在腔體一側(cè)的內(nèi)壁上，內(nèi)部移動(dòng)門內(nèi)層結(jié)構(gòu)可以左右滑動(dòng)；所述內(nèi)部移動(dòng)門內(nèi)層結(jié)構(gòu)的內(nèi)外表面均縱向均勻地分布有溝槽。
[0009]作為本實(shí)用新型的晶圓清洗甩干機(jī)的移動(dòng)門的一種優(yōu)選方案，所述內(nèi)部移動(dòng)門內(nèi)層結(jié)構(gòu)的兩端設(shè)置有進(jìn)水口。
[0010]作為本實(shí)用新型的晶圓清洗甩干機(jī)的移動(dòng)門的一種優(yōu)選方案，所述內(nèi)部移動(dòng)門內(nèi)層結(jié)構(gòu)的外表面設(shè)有沿其兩側(cè)邊緣的凸出區(qū)。
[0011]作為本實(shí)用新型的晶圓清洗甩干機(jī)的移動(dòng)門的一種優(yōu)選方案，所述內(nèi)部移動(dòng)門內(nèi)外兩層結(jié)構(gòu)的材料均為親水材料。
[0012]作為本實(shí)用新型的晶圓清洗甩干機(jī)的移動(dòng)門的一種優(yōu)選方案，所述內(nèi)部移動(dòng)門內(nèi)外兩層結(jié)構(gòu)的材料均為親水石英。
[0013]作為本實(shí)用新型的晶圓清洗甩干機(jī)的移動(dòng)門的一種優(yōu)選方案，所述內(nèi)部移動(dòng)門內(nèi)外兩層結(jié)構(gòu)的表面均為顆粒噴涂面。
[0014]作為本實(shí)用新型的晶圓清洗甩干機(jī)的移動(dòng)門的一種優(yōu)選方案，所述內(nèi)部移動(dòng)門內(nèi)外兩層結(jié)構(gòu)的形狀均為弧形。
[0015]作為本實(shí)用新型的晶圓清洗甩干機(jī)的移動(dòng)門的一種優(yōu)選方案，所述外部移動(dòng)門的表面為顆粒嗔涂面。
[0016]作為本實(shí)用新型的晶圓清洗甩干機(jī)的移動(dòng)門的一種優(yōu)選方案，所述外部移動(dòng)門的材料為親水材料。
[0017]作為本實(shí)用新型的晶圓清洗甩干機(jī)的移動(dòng)門的一種優(yōu)選方案，所述外部移動(dòng)門的材料為親水石英。
[0018]如上所述，本實(shí)用新型的晶圓清洗甩干機(jī)的移動(dòng)門，具有以下有益效果:將晶圓清洗甩干機(jī)的內(nèi)外部移動(dòng)門的材料均使用親水材料，這種親水材料可以讓去離子水在材料表面鋪展開，而不是停留在掉落處形成水滴，這就降低了在該門做開關(guān)動(dòng)作時(shí)水掉落到晶圓表面的可能；將晶圓清洗甩干機(jī)的內(nèi)外部移動(dòng)門的表面均設(shè)置成顆粒噴涂面，可以大大增加已是親水表面的親水性；將晶圓清洗甩干機(jī)內(nèi)部移動(dòng)門的內(nèi)層結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)為帶溝槽的弧形，同時(shí)在內(nèi)部移動(dòng)門內(nèi)層結(jié)構(gòu)的兩端設(shè)置有進(jìn)水口，可以讓內(nèi)層結(jié)構(gòu)表面的水通過溝槽流到進(jìn)水口，順利滑落到內(nèi)部容器中，避免了水停留在內(nèi)層結(jié)構(gòu)表面，在內(nèi)部移動(dòng)門做開關(guān)動(dòng)作時(shí)導(dǎo)致水掉落在晶圓表面；將內(nèi)部移動(dòng)門內(nèi)層結(jié)構(gòu)的外表面設(shè)有沿其兩側(cè)邊緣的凸出區(qū)，避免了水流過內(nèi)層結(jié)構(gòu)的外表面的邊緣而掉落在晶圓的表面。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0019]圖1顯不為現(xiàn)有技術(shù)中的晶圓表面存在水痕缺陷不意圖。
[0020]圖2a顯示為本實(shí)用新型的晶圓清洗甩干機(jī)外部移動(dòng)門關(guān)閉時(shí)的俯視圖。
[0021]圖2b顯示為本實(shí)用新型的晶圓清洗甩干機(jī)外部移動(dòng)門打開、內(nèi)部移動(dòng)門關(guān)閉時(shí)的俯視圖。
[0022]圖2c顯示為本實(shí)用新型的晶圓清洗甩干機(jī)內(nèi)部移動(dòng)門內(nèi)層結(jié)構(gòu)的示意圖。
[0023]元件標(biāo)號(hào)說明
[0024]
【權(quán)利要求】
1.一種晶圓清洗甩干機(jī)的移動(dòng)門，其特征在于，所述晶圓清洗甩干機(jī)的移動(dòng)門包括: 位于晶圓清洗甩干機(jī)外殼頂部、可以滑動(dòng)打開的外部移動(dòng)門； 位于晶圓清洗甩干機(jī)腔體頂部、用于控制腔體開關(guān)的內(nèi)部移動(dòng)門；所述內(nèi)部移動(dòng)門由內(nèi)外兩層結(jié)構(gòu)構(gòu)成，其中內(nèi)部移動(dòng)門外層結(jié)構(gòu)固定在腔體一側(cè)的內(nèi)壁上，內(nèi)部移動(dòng)門內(nèi)層結(jié)構(gòu)可以左右滑動(dòng)；所述內(nèi)部移動(dòng)門內(nèi)層結(jié)構(gòu)的內(nèi)外表面均縱向均勻地分布有溝槽。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓清洗甩干機(jī)的移動(dòng)門，其特征在于:所述內(nèi)部移動(dòng)門內(nèi)層結(jié)構(gòu)的兩端設(shè)置有進(jìn)水口。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓清洗甩干機(jī)的移動(dòng)門，其特征在于:所述內(nèi)部移動(dòng)門內(nèi)層結(jié)構(gòu)的外表面設(shè)有沿其兩側(cè)邊緣的凸出區(qū)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓清洗甩干機(jī)的移動(dòng)門，其特征在于:所述內(nèi)部移動(dòng)門內(nèi)外兩層結(jié)構(gòu)的材料均為親水材料。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的晶圓清洗甩干機(jī)的移動(dòng)門，其特征在于:所述內(nèi)部移動(dòng)門內(nèi)外兩層結(jié)構(gòu)的材料均為親水石英。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓清洗甩干機(jī)的移動(dòng)門，其特征在于:所述內(nèi)部移動(dòng)門內(nèi)外兩層結(jié)構(gòu)的表面均為顆粒噴涂面。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓清洗甩干機(jī)的移動(dòng)門，其特征在于:所述內(nèi)部移動(dòng)門內(nèi)外兩層結(jié)構(gòu)的形狀均為弧形。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓清洗甩干機(jī)的移動(dòng)門，其特征在于:所述外部移動(dòng)門的表面為顆粒嗔涂面。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓清洗甩干機(jī)的移動(dòng)門，其特征在于:所述外部移動(dòng)門的材料為親水材料。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的晶圓清洗甩干機(jī)的移動(dòng)門，其特征在于:所述外部移動(dòng)門的材料為親水石英。
【文檔編號(hào)】F26B25/12GK203704628SQ201420060911
【公開日】2014年7月9日 申請(qǐng)日期:2014年2月10日 優(yōu)先權(quán)日:2014年2月10日
【發(fā)明者】唐強(qiáng), 馮惠敏 申請(qǐng)人:中芯國(guó)際集成電路制造(北京)有限公司