一種電弧爐冷卻用水供水系統(tǒng)的制作方法
【專(zhuān)利摘要】本實(shí)用新型公開(kāi)了一種電弧爐冷卻用水供水系統(tǒng)。該系統(tǒng)包括支架，具有承載端和安裝端；儲(chǔ)水箱，具有一圓柱箱體，水平置于所述支架的承載端上，在儲(chǔ)水箱體的一側(cè)面開(kāi)設(shè)有進(jìn)水口，在儲(chǔ)水箱體的圓弧底部開(kāi)設(shè)有出水口，進(jìn)水口所在平面高于出水口所在平面；進(jìn)水管，其一端與自來(lái)水供水管連接，另一端與所述儲(chǔ)水箱的進(jìn)水口連接；供水管，其一端與電弧爐的供水系統(tǒng)連接，另一端與所述儲(chǔ)水箱的出水口連接。本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，通過(guò)在電弧爐的供水系統(tǒng)上設(shè)置一個(gè)儲(chǔ)水箱，而儲(chǔ)水箱中始終有水，一旦出現(xiàn)停水，儲(chǔ)水箱中的備用水可以用于電弧爐的冷卻降溫，直至恢復(fù)供水，保障了電弧爐的正常生產(chǎn)，實(shí)現(xiàn)電弧爐的安全生產(chǎn)。
【專(zhuān)利說(shuō)明】
一種電弧爐冷卻用水供水系統(tǒng)
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實(shí)用新型屬于電弧爐的輔助技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種用于電弧爐的供水裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]電弧爐指的是利用電弧產(chǎn)生的熱量熔煉礦石和金屬的工業(yè)爐，氣體放電弧爐電形成電弧時(shí)能量很集中，弧區(qū)溫度在3000°C以上。對(duì)于熔煉金屬，電弧爐比其他煉鋼爐工藝靈活性大，能有效地去除硫、磷等雜質(zhì)、爐溫容易控制、設(shè)備占地面積小，適于優(yōu)質(zhì)合金鋼的熔煉。
[0003]電弧爐冶煉時(shí)，爐體和爐蓋均用循環(huán)冷卻水進(jìn)行冷卻，目前電弧爐使用的冷卻用水供水系統(tǒng)包括供水管路，該供水管路直接與自來(lái)水供水管連接，一旦出現(xiàn)停水，則會(huì)導(dǎo)致供水中斷，電弧爐的爐體和爐蓋溫度急劇上升，極容易造成爐體和爐蓋損壞，更為嚴(yán)重的是，爐體急劇升溫，極容易釀成嚴(yán)重的安全事故，存在極大的安全隱患。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0004]為了克服現(xiàn)有技術(shù)的缺陷，本實(shí)用新型的目的是提供一種電弧爐冷卻用水供水系統(tǒng)，為電弧爐提供應(yīng)急冷卻用水，保障電弧爐的正常生產(chǎn)，消除安全隱患。
[0005]為了實(shí)現(xiàn)上述的實(shí)用新型目的，本實(shí)用新型采用以下技術(shù)方案:
[0006]—種電弧爐冷卻用水供水系統(tǒng)，包括支架，具有承載端和安裝端；
[0007]儲(chǔ)水箱，具有一圓柱箱體，水平置于所述支架的承載端上，在儲(chǔ)水箱體的一側(cè)面開(kāi)設(shè)有進(jìn)水口，在儲(chǔ)水箱體的圓弧底部開(kāi)設(shè)有出水口，進(jìn)水口所在平面高于出水口所在平面；
[0008]進(jìn)水管，其一端與自來(lái)水供水管連接，另一端與所述儲(chǔ)水箱的進(jìn)水口連接；
[0009]供水管，其一端與電弧爐的供水系統(tǒng)連接，另一端與所述儲(chǔ)水箱的出水口連接。
[0010]本實(shí)用新型進(jìn)一步改進(jìn)，所述支架包括底座和置于底座上的呈圓弧狀的承托架，承托架的圓弧直徑與所述儲(chǔ)水箱的直徑相一致。
[0011 ]本實(shí)用新型進(jìn)一步改進(jìn)，所述儲(chǔ)水箱上設(shè)有溢水口與進(jìn)水口相對(duì)，且溢水口所在平面高于進(jìn)水口所在平面，在溢水口上設(shè)置有溢水管，溢水管向下伸到排水溝中。
[0012]本實(shí)用新型進(jìn)一步改進(jìn)，所述儲(chǔ)水箱的圓弧頂部開(kāi)設(shè)有檢修孔，并配置有孔蓋，便于清理儲(chǔ)水箱中的沉積物。
[0013]本實(shí)用新型進(jìn)一步改進(jìn)，還包括PLC控制器，所述溢水管上設(shè)有流量傳感器，所述進(jìn)水管上設(shè)有電磁閥，流量傳感器、電磁閥均與PLC控制器電氣連接，當(dāng)溢水管上的流量傳感器檢測(cè)到水流，則反饋信號(hào)給PLC控制器，其輸出信號(hào)關(guān)閉進(jìn)水管上的電磁閥；在電磁閥關(guān)閉5-10min后，PLC控制器輸出信號(hào)，打開(kāi)進(jìn)水管上的電磁閥，繼續(xù)進(jìn)水。
[0014]與現(xiàn)有技術(shù)相比，有益效果是:本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，通過(guò)在電弧爐的供水系統(tǒng)上設(shè)置一個(gè)儲(chǔ)水箱，而儲(chǔ)水箱中始終有水，一旦出現(xiàn)停水，儲(chǔ)水箱中的備用水可以用于電弧爐的冷卻降溫，直至恢復(fù)供水，保障了電弧爐的正常生產(chǎn)，實(shí)現(xiàn)電弧爐的安全生產(chǎn)。
【附圖說(shuō)明】

[0015]以下將結(jié)合附圖和實(shí)施例來(lái)對(duì)本實(shí)用新型的技術(shù)方案作進(jìn)一步的詳細(xì)描述，但是應(yīng)當(dāng)知道，這些附圖僅是為解釋目的而設(shè)計(jì)的，因此不作為本實(shí)用新型范圍的限定。此外，除非特別指出，這些附圖僅意在概念性地說(shuō)明此處描述的結(jié)構(gòu)構(gòu)造，而不必要依比例進(jìn)行繪制。
[0016]圖1是本實(shí)用新型電弧爐冷卻用水供水系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0017]圖2是圖的A向視圖。
【具體實(shí)施方式】
[0018]首先，需要說(shuō)明的是，以下將以示例方式來(lái)具體說(shuō)明本實(shí)用新型電弧爐冷卻用水供水系統(tǒng)的具體結(jié)構(gòu)、特點(diǎn)和優(yōu)點(diǎn)等，然而所有的描述僅是用來(lái)進(jìn)行說(shuō)明的，而不應(yīng)將其理解為對(duì)本實(shí)用新型形成任何限制。此外，在本文所提及各實(shí)施例中予以描述或隱含的任意單個(gè)技術(shù)特征，或者被顯示或隱含在各附圖中的任意單個(gè)技術(shù)特征，仍然可在這些技術(shù)特征(或其等同物)之間繼續(xù)進(jìn)行任意組合或刪減，從而獲得可能沒(méi)有在本文中直接提及的本實(shí)用新型的更多其他實(shí)施例。
[0019]請(qǐng)結(jié)合參考圖1、圖2，下面就通過(guò)這個(gè)給出的實(shí)施例來(lái)對(duì)本實(shí)用新型電弧爐冷卻用水供水系統(tǒng)進(jìn)行示例性說(shuō)明。
[0020]如圖1、圖2所示，一種電弧爐冷卻用水供水系統(tǒng)，包括支架I，具有承載端和安裝端;儲(chǔ)水箱2，具有一圓柱箱體，水平置于所述支架I的承載端上，在儲(chǔ)水箱體的一側(cè)面開(kāi)設(shè)有進(jìn)水口 201，在儲(chǔ)水箱體的圓弧底部開(kāi)設(shè)有出水口 202，進(jìn)水口所在平面高于出水口所在平面;進(jìn)水管3，其一端與自來(lái)水供水管連接，另一端與所述儲(chǔ)水箱2的進(jìn)水口 201連接;供水管4，其一端與電弧爐的供水系統(tǒng)連接，另一端與所述儲(chǔ)水箱2的出水口 202連接。
[0021]在圖1中，所述支架I包括底座101和置于底座上的呈圓弧狀的承托架102，承托架的圓弧直徑與所述儲(chǔ)水箱2的直徑相一致。
[0022]在圖1中，所述儲(chǔ)水箱2上設(shè)有溢水口 203與進(jìn)水口 201相對(duì)，且溢水口所在平面高于進(jìn)水口所在平面，在溢水口上設(shè)置有溢水管204，溢水管向下伸到排水溝中。
[0023]在圖1中，所述儲(chǔ)水箱2的圓弧頂部開(kāi)設(shè)有檢修孔205，并配置有孔蓋，便于清理儲(chǔ)水箱中的沉積物。
[0024]進(jìn)一步的，還包括PLC控制器5，所述溢水管204上設(shè)有流量傳感器501，所述進(jìn)水管3上設(shè)有電磁閥502，流量傳感器、電磁閥均與PLC控制器電氣連接，當(dāng)溢水管上的流量傳感器檢測(cè)到水流，則反饋信號(hào)給PLC控制器，其輸出信號(hào)關(guān)閉進(jìn)水管上的電磁閥；在電磁閥關(guān)閉5-10min后，PLC控制器輸出信號(hào)，打開(kāi)進(jìn)水管上的電磁閥，繼續(xù)進(jìn)水。
[0025]以上僅以舉例方式來(lái)詳細(xì)闡明本實(shí)用新型的電弧爐冷卻用水供水系統(tǒng)，這些個(gè)例僅供說(shuō)明本實(shí)用新型的原理及其實(shí)施方式之用，而非對(duì)本實(shí)用新型的限制，在不脫離本實(shí)用新型的精神和范圍的情況下，本領(lǐng)域技術(shù)人員還可以做出各種變形和改進(jìn)。因此，所有等同的技術(shù)方案均應(yīng)屬于本實(shí)用新型的范疇并為本實(shí)用新型的各項(xiàng)權(quán)利要求所限定。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種電弧爐冷卻用水供水系統(tǒng)，其特征在于，包括支架(I)，具有承載端和安裝端;儲(chǔ)水箱(2)，具有一圓柱箱體，水平置于所述支架(I)的承載端上，在儲(chǔ)水箱體的一側(cè)面開(kāi)設(shè)有進(jìn)水口(201)，在儲(chǔ)水箱體的圓弧底部開(kāi)設(shè)有出水口(202)，進(jìn)水口所在平面高于出水口所在平面;進(jìn)水管(3)，其一端與自來(lái)水供水管連接，另一端與所述儲(chǔ)水箱(2)的進(jìn)水口(201)連接；供水管(4)，其一端與電弧爐的供水系統(tǒng)連接，另一端與所述儲(chǔ)水箱(2)的出水口(202)連接。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電弧爐冷卻用水供水系統(tǒng)，其特征在于，所述支架(I)包括底座(101)和置于底座上的呈圓弧狀的承托架(102)，承托架的圓弧直徑與所述儲(chǔ)水箱(2)的直徑相一致。3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電弧爐冷卻用水供水系統(tǒng)，其特征在于，所述儲(chǔ)水箱(2)上設(shè)有溢水口(203)與進(jìn)水口( 201)相對(duì)，且溢水口所在平面高于進(jìn)水口所在平面，在溢水口上設(shè)置有溢水管(204)，溢水管向下伸到排水溝中。4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電弧爐冷卻用水供水系統(tǒng)，其特征在于，所述儲(chǔ)水箱(2)的圓弧頂部開(kāi)設(shè)有檢修孔(205)，并配置有孔蓋。5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的電弧爐冷卻用水供水系統(tǒng)，其特征在于，還包括PLC控制器(5)，所述溢水管(204)上設(shè)有流量傳感器(501)，所述進(jìn)水管(3)上設(shè)有電磁閥(502)，流量傳感器、電磁閥均與PLC控制器電氣連接。
【文檔編號(hào)】F27B3/24GK205718416SQ201620587998
【公開(kāi)日】2016年11月23日
【申請(qǐng)日】2016年6月15日
【發(fā)明人】宮尚虎, 宮尚兵, 宮東東, 黃慶春
【申請(qǐng)人】安徽省含山縣林頭振皖鑄造廠(chǎng)