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      一種可連續(xù)供料的真空熔煉爐

      文檔序號:40402471發(fā)布日期:2024-12-20 12:26閱讀:6來源:國知局
      一種可連續(xù)供料的真空熔煉爐

      本技術(shù)涉及熔煉爐,具體為一種可連續(xù)供料的真空熔煉爐。


      背景技術(shù):

      1、真空熔煉爐是在真空條件下,利用中頻感應(yīng)加熱原理,將金屬熔化的真空冶煉設(shè)備。它主要適用于科研與生產(chǎn)單位對鎳基合金及特殊鋼、精密合金、高溫合金、有色金屬及其合金在真空或保護氣氛下進行熔煉和澆鑄。而連續(xù)供料可以確保熔煉爐內(nèi)金屬液體的持續(xù)穩(wěn)定,減少因等待加料而產(chǎn)生的停機時間,從而提高整個熔煉過程的效率。

      2、在授權(quán)公告號為cn207815966u公開的一種真空熔煉爐二次加料倉。所述真空熔煉爐二次加料倉包括一種真空熔煉爐二次加料倉,包括過渡管、下料口、料倉底板、料倉、旋轉(zhuǎn)機構(gòu)、隔欄料欄和倉蓋。可以為真空熔煉爐提高二次加料,以此提高工作效率

      3、但是仍然存在以下問題:

      4、上述裝置雖然可以為真空熔煉爐提供二次供料,但是當加料從中的物料添加完成之后,需要向加料倉中重新添加物料才可以繼續(xù)保障真空熔煉爐的持續(xù)運行,具有一定的局限性。

      5、為此,我們提出一種可連續(xù)供料的真空熔煉爐解決上述問題。


      技術(shù)實現(xiàn)思路

      1、本實用新型的目的是提出的一種可連續(xù)供料的真空熔煉爐,不需要停止真空熔煉爐,可以持續(xù)的提供物料,提高工作效率。

      2、為了實現(xiàn)上述目的,本實用新型采用了如下技術(shù)方案:

      3、一種可連續(xù)供料的真空熔煉爐,包括供料倉和供料隔板,所述供料倉的下方連通有下料倉,且供料倉的上方連通有儲料倉,供料倉的內(nèi)部設(shè)有電機柱,且電機柱的內(nèi)部設(shè)有第一電機,第一電機連接有續(xù)料機構(gòu),且第二電機連接有下料機構(gòu)。

      4、優(yōu)選地,所述續(xù)料機構(gòu)包括第一電機輸出端固定連接的螺紋柱,且螺紋柱的一端延伸到儲料倉的內(nèi)部,儲料倉的內(nèi)部設(shè)有儲料隔板,且螺紋柱的外壁螺紋連接有驅(qū)動套,驅(qū)動套的側(cè)壁固定連接有斜面密封板,且斜面密封板的側(cè)壁與儲料隔板側(cè)壁滑動連接,儲料倉的底面開設(shè)有續(xù)料口,且斜面密封板的底面與續(xù)料口上表面相抵,所述儲料倉的上方設(shè)有密封裝置。

      5、優(yōu)選地,所述密封裝置包括開設(shè)在儲料倉側(cè)壁的環(huán)形槽,且環(huán)形槽的內(nèi)壁滑動連接有兩塊半環(huán)密封板,所述半環(huán)密封板的上表面均設(shè)有兩組固定塊,且其中一組固定塊的側(cè)壁鉸接有固定螺紋套,儲料倉的上表面連接有真空泵。

      6、優(yōu)選地,所述下料機構(gòu)包括第二電機輸出端固定連接的驅(qū)動軸,且驅(qū)供料倉的底面固定連接有t形滑環(huán),下料管的上表面與驅(qū)動軸底面固定連接,t形滑環(huán)的側(cè)壁滑動連接有下料管,且下料管的側(cè)壁連通有輸料管,輸料管的頂面連接有斜面輸料盤,且斜面輸料盤位于供料倉的內(nèi)部并與供料倉底面轉(zhuǎn)動連接。

      7、優(yōu)選地,所述驅(qū)動套的上表面設(shè)有防漏套,且防漏套的側(cè)壁與儲料隔板的側(cè)壁滑動連接,所述防漏套的頂面固定連接有限位彈簧,且限位彈簧的另一端與儲料倉內(nèi)壁相抵。

      8、優(yōu)選地,所述半環(huán)密封板的側(cè)壁固定連接有拉把。

      9、與現(xiàn)有技術(shù)對比,本實用新型具備以下有益效果:

      10、本實用新型,通過設(shè)置供料倉、供料隔板、下料倉、儲料倉、電機柱、第一電機、第二電機、續(xù)料機構(gòu)和下料機構(gòu)等配合使用,在真空熔煉爐運行之前將物料裝滿下料倉和儲料倉,之后啟動真空熔煉爐,供料隔板之間的物料會通過下料機構(gòu)落入到真空熔煉爐中,持續(xù)提供物料,當供料倉中的物料用完之后,續(xù)料機構(gòu)會啟動,將儲料倉中的物料滑入到供料倉中,保障物料的持續(xù)添加,同時添加完成之后會密封供料倉,且向儲料倉中添加物料時不會影響供料倉的密封環(huán)境,進而提高工作效率,簡單實用。



      技術(shù)特征:

      1.一種可連續(xù)供料的真空熔煉爐,包括供料倉(1)和供料隔板(18),其特征在于,所述供料倉(1)的下方連通有下料倉(2),且供料倉(1)的上方連通有儲料倉(3),所述供料倉(1)的內(nèi)部設(shè)有電機柱(4),且電機柱(4)的內(nèi)部設(shè)有第一電機(5),所述第一電機(5)連接有續(xù)料機構(gòu),且第二電機(6)連接有下料機構(gòu)。

      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種可連續(xù)供料的真空熔煉爐,其特征在于,所述續(xù)料機構(gòu)包括第一電機(5)輸出端固定連接的螺紋柱(7),且螺紋柱(7)的一端延伸到儲料倉(3)的內(nèi)部,所述儲料倉(3)的內(nèi)部設(shè)有儲料隔板(19),且螺紋柱(7)的外壁螺紋連接有驅(qū)動套(8),所述驅(qū)動套(8)的側(cè)壁固定連接有斜面密封板(9),且斜面密封板(9)的側(cè)壁與儲料隔板(19)側(cè)壁滑動連接,所述儲料倉(3)的底面開設(shè)有續(xù)料口(10),且斜面密封板(9)的底面與續(xù)料口(10)上表面相抵,所述儲料倉(3)的上方設(shè)有密封裝置。

      3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種可連續(xù)供料的真空熔煉爐,其特征在于,所述密封裝置包括開設(shè)在儲料倉(3)側(cè)壁的環(huán)形槽(22),且環(huán)形槽(22)的內(nèi)壁滑動連接有兩塊半環(huán)密封板(23),所述半環(huán)密封板(23)的上表面均設(shè)有兩組固定塊(24),且其中一組固定塊(24)的側(cè)壁鉸接有固定螺紋套(25),所述儲料倉(3)的上表面連接有真空泵(21)。

      4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種可連續(xù)供料的真空熔煉爐,其特征在于,所述下料機構(gòu)包括第二電機(6)輸出端固定連接的驅(qū)動軸(11),且供料倉(1)的底面固定連接有t形滑環(huán)(12),所述t形滑環(huán)(12)的側(cè)壁滑動連接有下料管(13),所述下料管(13)的上表面與驅(qū)動軸(11)底面固定連接,且下料管(13)的側(cè)壁連通有輸料管(14),所述輸料管(14)的頂面連接有斜面輸料盤(15),且斜面輸料盤(15)位于供料倉(1)的內(nèi)部并與供料倉(1)底面轉(zhuǎn)動連接。

      5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種可連續(xù)供料的真空熔煉爐,其特征在于,所述下料機構(gòu)包括第二電機(6)輸出端固定連接的驅(qū)動軸(11),且供料倉(1)的底面固定連接有t形滑環(huán)(12),所述t形滑環(huán)(12)的側(cè)壁滑動連接有下料管(13),所述下料管(13)的上表面與驅(qū)動軸(11)底面固定連接,且下料管(13)的側(cè)壁連通有輸料管(14),所述輸料管(14)的頂面連接有斜面輸料盤(15),且斜面輸料盤(15)位于供料倉(1)的內(nèi)部并與供料倉(1)底面轉(zhuǎn)動連接。

      6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種可連續(xù)供料的真空熔煉爐,其特征在于,所述驅(qū)動套(8)的上表面設(shè)有防漏套(16),且防漏套(16)的側(cè)壁與儲料隔板(19)的側(cè)壁滑動連接,所述防漏套(16)的頂面固定連接有限位彈簧(17),且限位彈簧(17)的另一端與儲料倉(3)內(nèi)壁相抵。

      7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種可連續(xù)供料的真空熔煉爐,其特征在于,所述半環(huán)密封板(23)的側(cè)壁固定連接有拉把(20)。


      技術(shù)總結(jié)
      本技術(shù)涉及熔煉爐技術(shù)領(lǐng)域,且公開一種可連續(xù)供料的真空熔煉爐,包括供料倉和供料隔板,所述供料倉的下方連通有下料倉,且供料倉的上方連通有儲料倉,供料倉的內(nèi)部設(shè)有電機柱;通過設(shè)置供料倉、供料隔板、下料倉、儲料倉、電機柱、第一電機、第二電機、續(xù)料機構(gòu)和下料機構(gòu)等配合使用,在真空熔煉爐運行之前將物料裝滿下料倉和儲料倉,之后啟動真空熔煉爐,供料隔板之間的物料會通過下料機構(gòu)落入到真空熔煉爐中,持續(xù)提供物料,當供料倉中的物料用完之后,續(xù)料機構(gòu)會啟動,將儲料倉中的物料滑入到供料倉中,保障物料的持續(xù)添加,同時添加完成之后會密封供料倉,且向儲料倉中添加物料時不會影響供料倉的密封環(huán)境,進而提高工作效率,簡單實用。

      技術(shù)研發(fā)人員:孔令鑫,楊斌,徐寶強,蔣文龍,徐俊杰
      受保護的技術(shù)使用者:昆明理工大學
      技術(shù)研發(fā)日:20240325
      技術(shù)公布日:2024/12/19
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