本技術(shù)屬于加熱爐，特別是涉及一種高溫真空氣氛中頻感應(yīng)加熱爐。

背景技術(shù)：

1、目前大部分中頻感應(yīng)加熱爐都是在空氣下進(jìn)行，實(shí)現(xiàn)樣品的快速加熱，但是有些材料需要在真空或者氣氛下才能進(jìn)行加熱，這樣可以防止物料氧化，部分氣體需要在加熱的時(shí)候才能進(jìn)行反應(yīng)，而且2000度以上的中頻感應(yīng)加熱爐一般都采用把感應(yīng)線圈設(shè)置在真空腔內(nèi)部，這樣就會(huì)使設(shè)備整體的尺寸比較大，成本也比較高，很難滿足大多數(shù)高校實(shí)驗(yàn)室的要求。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本實(shí)用新型的目的就在于為了解決上述問題而提供一種高溫真空氣氛中頻感應(yīng)加熱爐。

2、本實(shí)用新型通過以下技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn)上述目的：

3、一種高溫真空氣氛中頻感應(yīng)加熱爐，包括設(shè)備本體，所述設(shè)備本體上端的一側(cè)設(shè)置有中頻電源，所述中頻電源一側(cè)的設(shè)備本體上開設(shè)的放置槽內(nèi)設(shè)置有加熱機(jī)構(gòu)，所述加熱機(jī)構(gòu)正上方設(shè)置的雙色紅外測(cè)溫儀與放置槽的側(cè)壁固定連接，所述加熱機(jī)構(gòu)包括固定在放置槽內(nèi)的加熱本體，所述加熱本體上端固定的上水冷法蘭上設(shè)置有石英觀察窗，所述加熱本體內(nèi)部的中心位置設(shè)置有石墨坩堝，所述石墨坩堝的外側(cè)設(shè)置有保溫組件，所述保溫組件的外側(cè)設(shè)置有多個(gè)石英管，所述石英管頂部與上水冷法蘭連接，底部與下水冷法蘭連接，所述石英管的外側(cè)套裝有銅水冷感應(yīng)線圈。

4、優(yōu)選地，所述保溫組件包括上保溫部、下保溫部和側(cè)壁保溫部。

5、優(yōu)選地，所述上保溫部包括固定在坩堝上端的第二石墨保溫氈層，所述第二石墨保溫氈層上端固定有第一石墨保溫氈層，所述第一石墨保溫氈層上端固定有頂部氧化鋁保溫層，所述石墨坩堝頂部開設(shè)的通孔向上延伸與上水冷法蘭連通。

6、優(yōu)選地，所述第二石墨保溫氈層、第一石墨保溫氈層和頂部氧化鋁保溫層均設(shè)置為圓盤狀。

7、優(yōu)選地，所述側(cè)壁保溫部包括套接在石墨坩堝外側(cè)的內(nèi)側(cè)石墨保溫氈層，所述內(nèi)側(cè)石墨保溫氈層外側(cè)固定有氮化硼隔熱環(huán)，所述氮化硼隔熱環(huán)的外側(cè)固定有外側(cè)石墨保溫氈層。

8、優(yōu)選地，所述外側(cè)石墨保溫氈層、內(nèi)側(cè)石墨保溫氈層和氮化硼隔熱環(huán)均設(shè)置為筒體狀。

9、優(yōu)選地，所述下保溫部包括固定在石墨坩堝底部的第三石墨保溫氈層，所述第三石墨保溫氈層的底部固定有第四石墨保溫氈層，所述第四石墨保溫氈層底部固定有底部氧化鋁保溫層，所述石墨坩堝底部開設(shè)的連接孔向下延伸與設(shè)備本體連通。

10、優(yōu)選地，所述第三石墨保溫氈層、第四石墨保溫氈層和底部氧化鋁保溫層均設(shè)置為圓盤狀。

11、有益效果在于：本實(shí)用新型提供的一種高溫真空氣氛中頻感應(yīng)加熱爐，整體結(jié)構(gòu)較為合理，尺寸較小，減小了空間的占用面積，移動(dòng)較為方便，降低了成本，而且工作人員操作起來簡(jiǎn)單方便，保溫效果和可靠度較好，提高了樣品燒結(jié)的合格率。

技術(shù)特征：

1.一種高溫真空氣氛中頻感應(yīng)加熱爐，包括設(shè)備本體(1)，所述設(shè)備本體(1)上端的一側(cè)設(shè)置有中頻電源(2)，所述中頻電源(2)一側(cè)的設(shè)備本體(1)上開設(shè)的放置槽內(nèi)設(shè)置有加熱機(jī)構(gòu)，所述加熱機(jī)構(gòu)正上方設(shè)置的雙色紅外測(cè)溫儀(101)與放置槽的側(cè)壁固定連接，所述加熱機(jī)構(gòu)包括固定在放置槽內(nèi)的加熱本體(102)，所述加熱本體(102)上端固定的上水冷法蘭(4)上設(shè)置有石英觀察窗(17)，所述加熱本體(102)內(nèi)部的中心位置設(shè)置有石墨坩堝(10)，其特征在于：所述石墨坩堝(10)的外側(cè)設(shè)置有保溫組件，所述保溫組件的外側(cè)設(shè)置有多個(gè)石英管(5)，所述石英管(5)頂部與上水冷法蘭(4)連接，底部與下水冷法蘭(6)連接，所述石英管(5)的外側(cè)套裝有銅水冷感應(yīng)線圈(3)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高溫真空氣氛中頻感應(yīng)加熱爐，其特征在于：所述保溫組件包括上保溫部、下保溫部和側(cè)壁保溫部。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種高溫真空氣氛中頻感應(yīng)加熱爐，其特征在于：所述上保溫部包括固定在坩堝上端的第二石墨保溫氈層(9)，所述第二石墨保溫氈層(9)上端固定有第一石墨保溫氈層(8)，所述第一石墨保溫氈層(8)上端固定有頂部氧化鋁保溫層(7)，所述石墨坩堝(10)頂部開設(shè)的通孔向上延伸與上水冷法蘭(4)連通。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種高溫真空氣氛中頻感應(yīng)加熱爐，其特征在于：所述第二石墨保溫氈層(9)、第一石墨保溫氈層(8)和頂部氧化鋁保溫層(7)均設(shè)置為圓盤狀。

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種高溫真空氣氛中頻感應(yīng)加熱爐，其特征在于：所述側(cè)壁保溫部包括套接在石墨坩堝(10)外側(cè)的內(nèi)側(cè)石墨保溫氈層(11)，所述內(nèi)側(cè)石墨保溫氈層(11)外側(cè)固定有氮化硼隔熱環(huán)(12)，所述氮化硼隔熱環(huán)(12)的外側(cè)固定有外側(cè)石墨保溫氈層(13)。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種高溫真空氣氛中頻感應(yīng)加熱爐，其特征在于：所述外側(cè)石墨保溫氈層(13)、內(nèi)側(cè)石墨保溫氈層(11)和氮化硼隔熱環(huán)(12)均設(shè)置為筒體狀。

7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種高溫真空氣氛中頻感應(yīng)加熱爐，其特征在于：所述下保溫部包括固定在石墨坩堝(10)底部的第三石墨保溫氈層(14)，所述第三石墨保溫氈層(14)的底部固定有第四石墨保溫氈層(15)，所述第四石墨保溫氈層(15)底部固定有底部氧化鋁保溫層(16)，所述石墨坩堝(10)底部開設(shè)的連接孔向下延伸與設(shè)備本體(1)連通。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種高溫真空氣氛中頻感應(yīng)加熱爐，其特征在于：所述第三石墨保溫氈層(14)、第四石墨保溫氈層(15)和底部氧化鋁保溫層(16)均設(shè)置為圓盤狀。

技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)屬于加熱爐技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種高溫真空氣氛中頻感應(yīng)加熱爐，包括設(shè)備本體，所述設(shè)備本體上端的一側(cè)設(shè)置有中頻電源，所述中頻電源一側(cè)的設(shè)備本體上設(shè)置有加熱機(jī)構(gòu)，所述加熱機(jī)構(gòu)正上方設(shè)置的雙色紅外測(cè)溫儀與放置槽的側(cè)壁固定連接，所述加熱機(jī)構(gòu)包括固定在放置槽內(nèi)的加熱本體，所述加熱本體上端固定的上水冷法蘭上設(shè)置有石英觀察窗，所述加熱本體內(nèi)部的中心位置設(shè)置有石墨坩堝，所述石墨坩堝的外側(cè)設(shè)置有保溫組件。有益效果在于：本技術(shù)提供的一種高溫真空氣氛中頻感應(yīng)加熱爐，整體結(jié)構(gòu)較為合理，尺寸較小，減小了空間的占用面積，移動(dòng)較為方便，降低了成本。

技術(shù)研發(fā)人員：代利平,蔡永國(guó)
受保護(hù)的技術(shù)使用者：河南諾巴迪材料科技有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20240428
技術(shù)公布日：2024/12/19