本技術(shù)涉及機(jī)械密封件領(lǐng)域,具體為一種高效率的真空爐。
背景技術(shù):
1、真空爐,即在爐腔這一特定空間內(nèi)利用真空系統(tǒng)(由真空泵、真空測量裝置、真空閥門等元件經(jīng)過精心組裝而成)將爐腔內(nèi)部分物質(zhì)排出,使?fàn)t腔內(nèi)壓強(qiáng)小于一個(gè)標(biāo)準(zhǔn)大氣壓,爐腔內(nèi)空間從而實(shí)現(xiàn)真空狀態(tài),這就是真空爐,現(xiàn)有的真空爐在工件加熱后過熱不方便轉(zhuǎn)運(yùn),容易燙傷工作人員,且上下料時(shí)速度慢,影響加工效率,給人們的使用過程帶來了一定的不利影響,為此,我們提出一種高效率的真空爐。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、(一)解決的技術(shù)問題
2、針對現(xiàn)有技術(shù)的不足,本實(shí)用新型提供了一種高效率的真空爐,具備能夠方便對工件進(jìn)行上下料,方便搬運(yùn),操作簡單,提高加工效率等優(yōu)點(diǎn),可以有效解決背景技術(shù)中的問題。
3、(二)技術(shù)方案
4、為實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型采取的技術(shù)方案為:一種高效率的真空爐,包括真空爐本體,所述真空爐本體的前端外表面設(shè)置有隔熱門,所述真空爐本體的下端外表面設(shè)置有底座,所述隔熱門的前端設(shè)置有取料機(jī)構(gòu),所述取料機(jī)構(gòu)包括第一凹槽、第一連接板、把手、固定架、移動(dòng)輪、第二連接板、插板、卡塊、放置臺、第二凹槽、t型板、放置架、t型槽、卡槽、第三凹槽、氣缸與第四凹槽,兩組所述第一凹槽分別開設(shè)于底座下端外表面的兩側(cè),所述第一連接板位于真空爐本體的前端。
5、優(yōu)選的,所述把手固定安裝于第一連接板的前端外表面,兩組所述固定架分別位于第一連接板下端外表面的兩側(cè),所述第二連接板位于固定架的后端外表面,兩組所述移動(dòng)輪分別位于第二連接板下端外表面的前后兩端,所述插板位于第一連接板的后端外表面,所述放置臺位于插板的上端,所述第二凹槽開設(shè)于放置臺下端外表面的中部,兩組所述t型板分別位于放置臺下端外表面的兩側(cè)。
6、優(yōu)選的,所述卡槽開設(shè)于第二凹槽上端外表面的后端,所述第三凹槽開設(shè)于插板上端外表面的后端,兩組所述氣缸分別位于第三凹槽內(nèi)部的兩側(cè),所述卡塊位于氣缸的上端外表面,兩組所述第四凹槽分別開設(shè)于卡塊下端外表面的兩側(cè),兩組所述放置架分別位于真空爐本體內(nèi)部的兩側(cè),所述t型槽開設(shè)于放置架的上端外表面。
7、優(yōu)選的,所述第二連接板與第一凹槽之間為插接,所述放置臺與真空爐本體之間為插接,所述t型板與t型槽之間為滑動(dòng)連接。
8、優(yōu)選的,所述插板與第二凹槽之間為滑動(dòng)連接,所述卡塊與第三凹槽之間為滑動(dòng)連接,所述卡塊通過第四凹槽與氣缸滑動(dòng)連接,所述卡塊與卡槽之間為插接。
9、(三)有益效果
10、與現(xiàn)有技術(shù)相比,本實(shí)用新型提供了一種高效率的真空爐,具備以下有益效果:
11、該一種高效率的真空爐,能夠方便對工件進(jìn)行上下料,方便搬運(yùn),操作簡單,提高加工效率。
1.一種高效率的真空爐,包括真空爐本體(1),其特征在于:所述真空爐本體(1)的前端外表面設(shè)置有隔熱門(3),所述真空爐本體(1)的下端外表面設(shè)置有底座(2),所述隔熱門(3)的前端設(shè)置有取料機(jī)構(gòu)(4),所述取料機(jī)構(gòu)(4)包括第一凹槽(5)、第一連接板(6)、把手(7)、固定架(8)、移動(dòng)輪(9)、第二連接板(10)、插板(11)、卡塊(12)、放置臺(13)、第二凹槽(14)、t型板(15)、放置架(16)、t型槽(17)、卡槽(18)、第三凹槽(19)、氣缸(20)與第四凹槽(21),兩組所述第一凹槽(5)分別開設(shè)于底座(2)下端外表面的兩側(cè),所述第一連接板(6)位于真空爐本體(1)的前端。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高效率的真空爐,其特征在于:所述把手(7)固定安裝于第一連接板(6)的前端外表面,兩組所述固定架(8)分別位于第一連接板(6)下端外表面的兩側(cè),所述第二連接板(10)位于固定架(8)的后端外表面,兩組所述移動(dòng)輪(9)分別位于第二連接板(10)下端外表面的前后兩端,所述插板(11)位于第一連接板(6)的后端外表面,所述放置臺(13)位于插板(11)的上端,所述第二凹槽(14)開設(shè)于放置臺(13)下端外表面的中部,兩組所述t型板(15)分別位于放置臺(13)下端外表面的兩側(cè)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種高效率的真空爐,其特征在于:所述卡槽(18)開設(shè)于第二凹槽(14)上端外表面的后端,所述第三凹槽(19)開設(shè)于插板(11)上端外表面的后端,兩組所述氣缸(20)分別位于第三凹槽(19)內(nèi)部的兩側(cè),所述卡塊(12)位于氣缸(20)的上端外表面,兩組所述第四凹槽(21)分別開設(shè)于卡塊(12)下端外表面的兩側(cè),兩組所述放置架(16)分別位于真空爐本體(1)內(nèi)部的兩側(cè),所述t型槽(17)開設(shè)于放置架(16)的上端外表面。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種高效率的真空爐,其特征在于:所述第二連接板(10)與第一凹槽(5)之間為插接,所述放置臺(13)與真空爐本體(1)之間為插接,所述t型板(15)與t型槽(17)之間為滑動(dòng)連接。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種高效率的真空爐,其特征在于:所述插板(11)與第二凹槽(14)之間為滑動(dòng)連接,所述卡塊(12)與第三凹槽(19)之間為滑動(dòng)連接,所述卡塊(12)通過第四凹槽(21)與氣缸(20)滑動(dòng)連接,所述卡塊(12)與卡槽(18)之間為插接。