專利名稱：真空燒結(jié)裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種真空燒結(jié)裝置，特別是用來燒結(jié)磁性材料的裝置。
磁性材料(尤其是釹鐵硼)的燒結(jié)，其工藝一般需滿足真空脫氣、高溫?zé)Y(jié)及快速冷卻的要求，否則，燒結(jié)質(zhì)量將難以保證。
為了解決這個(gè)問題，通常的作法是在設(shè)備中進(jìn)行了真空脫氣及高溫?zé)Y(jié)后，憑人力將馬弗罐體由爐膛內(nèi)抽出，使其快速投入冷水中，以滿足快速冷卻的要求。由于馬弗罐體入水先后次序的差異，導(dǎo)致其變形，特別是真空脫氣及高溫?zé)Y(jié)過程仍不能同快速冷卻過程有機(jī)地結(jié)合在一起，仍然影響燒結(jié)質(zhì)量。
本實(shí)用新型的目的是要提供一種改進(jìn)的真空燒結(jié)裝置，該裝置可以使高溫?zé)Y(jié)與快速冷卻過程有機(jī)地結(jié)合在一起。
本實(shí)用新型的目的是這樣實(shí)現(xiàn)的在裝置爐體的一側(cè)設(shè)有快速冷卻噴射罩，在快速冷卻噴射罩及爐體的底部設(shè)有軌道及輥道，爐體及快速冷卻噴射罩可沿軌道實(shí)現(xiàn)相互位移，輥道底盤與一轉(zhuǎn)動(dòng)升降機(jī)構(gòu)聯(lián)接，當(dāng)燒結(jié)結(jié)束后，將快速冷卻噴射罩推至爐體位置，立即將爐體沿輥道拉出至快速冷卻噴射罩之原位，同時(shí)轉(zhuǎn)動(dòng)升降機(jī)構(gòu)，使輥道底盤支撐馬弗罐體，沿徑向及縱向均勻設(shè)置在快速冷卻噴射罩內(nèi)的噴嘴噴出之冷卻水，即可使馬弗罐體實(shí)現(xiàn)均勻的快速噴射冷卻。
本實(shí)用新型由于將爐體與快速冷卻噴射有機(jī)地結(jié)合在一起，從而可借助于噴射冷卻水的動(dòng)壓增值，在馬弗罐體的周圍造成較大的溫度梯度埸，同時(shí)，由于噴嘴沿徑向及縱向環(huán)布于馬弗罐體周圍，從而可使馬弗罐體均勻地得到冷卻。
本實(shí)用新型的具體結(jié)構(gòu)由以下實(shí)施例及其附圖給出


圖1是本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2是
圖1沿B－B線的左視剖面圖。
以下結(jié)合附圖詳細(xì)說明依據(jù)本實(shí)用新型提出的具體裝置的細(xì)節(jié)及工作情況。
該裝置由爐殼1、爐襯2、電熱體支持套體3及電阻帶4構(gòu)筑成爐體整體，爐殼1由熱軋鋼板焊制，其內(nèi)側(cè)的爐襯2由成型的輕質(zhì)耐火粘土制件、硅酸鋁氈及玻璃纖維棉構(gòu)成，爐襯2的里層為電熱體支持套體3，在電熱體支持套體3內(nèi)均勻地設(shè)置有電熱帶4，爐體整體與馬弗罐體5及真空密封套10為分離體，當(dāng)爐體沿構(gòu)架7的軌道及輥道拉出時(shí)，馬弗罐5及真空密封套10與封閉爐門11鎖緊。
在爐體整體的一側(cè)設(shè)置有快速冷卻噴射罩6，在快速冷卻噴射罩6的內(nèi)表面沿徑向及縱向均勻地設(shè)置有噴嘴14，在快速冷卻噴射罩6及爐體的底部設(shè)有輥道7a及軌道7b，輥道底盤8a由一轉(zhuǎn)動(dòng)升降機(jī)構(gòu)8b控制升降。在馬弗罐5的左側(cè)設(shè)有氬氣進(jìn)氣孔12，在馬弗罐體5的右側(cè)設(shè)有廢氣排泄孔13，真空系統(tǒng)9與馬弗罐體5相通。爐門11位于馬弗罐5的左側(cè)。
當(dāng)原料(如釹鐵硼)裝爐后，將爐門11封閉，啟動(dòng)真空系統(tǒng)9，并由進(jìn)氣孔12向馬弗罐5內(nèi)導(dǎo)入氬氣，原料進(jìn)行高溫?zé)Y(jié)，待燒結(jié)結(jié)束后，將快速冷卻噴射罩6沿軌道7b推至爐體位置，立即將爐體沿輥道7a拉出至快速冷卻噴射罩6的原位(此時(shí)馬弗罐體5、爐門11及真空密封套10仍在原處)，同時(shí)轉(zhuǎn)動(dòng)升降機(jī)構(gòu)8b，使輥道底盤8a支持馬弗罐體5，然后迅速通過快速冷卻噴射罩6使冷卻水快速均勻地噴射在馬弗罐體5的周圍，當(dāng)馬弗罐5內(nèi)的溫度冷至300℃后，松卸爐門11，將產(chǎn)品取出。
權(quán)利要求1.一種真空燒結(jié)裝置，包括爐體、馬弗罐體及爐門，其特征是在爐體之一側(cè)設(shè)置有快速冷卻噴射罩，在快速冷卻噴射罩及爐體的底部設(shè)有軌道及輥道，輥道底盤與一轉(zhuǎn)動(dòng)升降機(jī)構(gòu)聯(lián)接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征是所說的快速冷卻噴射罩上沿徑向及縱向均勻地設(shè)置有噴嘴。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種真空燒結(jié)裝置，該裝置可將高溫?zé)Y(jié)過程與快速冷卻過程有機(jī)地結(jié)合在一起，具體系在爐體的一側(cè)設(shè)置有快速冷卻噴射罩，在爐體及快速冷卻噴射罩的底部設(shè)置有軌道及輥道，輥道底盤與一轉(zhuǎn)動(dòng)升降機(jī)構(gòu)相聯(lián)接，冷卻時(shí)，爐體及快速冷卻噴射罩相互位移，輥道底盤可由升降機(jī)構(gòu)控制支持馬弗罐體，在快速冷卻噴射罩上沿徑向及縱向均勻地設(shè)置有噴嘴，可使馬弗罐體均勻地冷卻。
文檔編號(hào)F27B5/00GK2080156SQ90210409
公開日1991年7月3日 申請(qǐng)日期1990年4月20日 優(yōu)先權(quán)日1990年4月20日
發(fā)明者張世忠 申請(qǐng)人:張世忠